一种铬／金刚石复合镀层及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种铬／金刚石复合镀层，其制备方法包括下述步骤：在工件表面先用电镀的方法沉积一层铬，然后沉积一层铬／金刚石复合镀层，最后沉积铬加固层。由该方法所制得的铬／金刚石复合镀层其底镀层的铬镀层厚度为１～１．５μｍ，上砂镀层和加固层的铬镀层厚度总和为金刚石颗粒的８０～９０％。该铬／金刚石复合镀层体积浓度高，分散均匀，表面无裂纹，能防止工件中Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等石墨催化元素扩散至金刚石界面，可用作ＣＶＤ金刚石的过镀层，沉积出的ＣＶＤ金刚石膜具有镶嵌结构界面，大幅度的提高ＣＶＤ金刚石膜／基界面结合力。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种铬／金刚石复合镀层的制备方法，其特征在于包括下述步骤：在工件表面先用电镀的方法沉积一层铬，然后沉积一层铬／金刚石复合镀层，最后沉积铬加固层即可得到所述的铬／金刚石复合镀层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邱万奇，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：81[中国|广州]