The utility model discloses a MOCVD nickel plating device for the inner wall of a high pure gas cylinder, which includes a decomposer, a heater, a temperature measuring thermocouple, a carbonyl nickel intake pipe, a CO/N2 intake connecting pipe, a CO intake pipe, a N2 intake pipe, an outlet pipe, a waste pipe, a decomposer connecting pipe, a pressure meter, a carbonyl nickel intake control valve, a CO/N2 intake control valve and a row. The waste control valve and the decomposition control valve can control the flow, concentration and temperature of the gas into the high pure gas cylinder, and maintain the internal pressure of the high pure gas cylinder within a reasonable range. By using the carbonyl nickel and CO mixture to deposit nickel under certain pressure and temperature conditions, it can deposit a dense, continuous layer on the inner wall of the high purity gas cylinder. Uniform and smooth nickel plating can well meet the nickel plating requirement of high purity cylinder, and can better solve the problem of nickel plating uniformity for irregular container, which is not only suitable for nickel plating on the inner wall of high pure gas cylinder, but also can be widely used in the nickel plating operation of large structure compound parts.
【技术实现步骤摘要】
一种高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置
本技术属于羰基冶金生产
,具体涉及一种高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置。
技术介绍
随着现代电子工业的迅猛发展,特别是超大规模集成电路(VLSI)生产中苛刻的精密加工要求,以芯片厂使用量较大的高纯气体为代表,对原材料的纯度已经从30年前的99.9%跃升至目前的99.9999%,个别已经达到99.9999999%。这么苛刻的气体纯度对包装物气瓶内部的洁净度也要求越来越高。传统工艺中对钢瓶内部进行的抛光、镍磷镀(无电化学镀)处理等已经难以满足超纯气体生产和运输配送中包装物对气体的污染问题。相关研究显示,只有纯镍和氟树脂致密光滑涂层能有效阻止包装物对气体产品的水分或腐蚀产生的颗粒物污染。常用气瓶内镀镍采用电镀方法,以镍为阳极,镀件为阴极,电解液以硫酸盐和氯化盐为主,施加直流电在阴极表面上得到金属镍沉积。但该方法存在由于受镀物件表面通过的电流密度不均导致镀镍层厚度差别大、镀层易产生氢脆、大型结构复杂物件镀镍工艺上有障碍以及效率低下等缺点,不能非常好地满足高纯气瓶的需求。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的技术问题,提供一种结构简单、均匀性好、效率高且能得到致密、均匀、光滑、连续镀镍层的高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置。为了达到上述目的,本技术采用以下技术方案:一种高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置,包括设置在高纯气瓶外部的加热器,所述高纯气瓶的外部侧壁上设有测温热电偶,所述高纯气瓶的入口连接有羰基镍进气管和CO/N2进气连接管,所述羰基镍进气管上设有羰基镍进气控制阀,所述CO/N2进气连接管上设有CO/N2进气控制阀,所 ...
【技术保护点】
一种高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置,其特征在于:包括设置在高纯气瓶(1)外部的加热器(2),所述高纯气瓶(1)的外部侧壁上设有测温热电偶(16),所述高纯气瓶(1)的入口连接有羰基镍进气管(9)和CO/N2进气连接管(8),所述羰基镍进气管(9)上设有羰基镍进气控制阀(10),所述CO/N2进气连接管(8)上设有CO/N2进气控制阀(6),所述CO/N2进气连接管(8)连接有CO进气管(17)和N2进气管(18),所述高纯气瓶(1)的出口连接有出气管(12),所述出气管(12)上设有压力计(15),所述出气管(12)连接有排废管(19)和分解器连接管(20),所述排废管(19)上设有排废控制阀(13),所述分解器连接管(20)上设有分解处理控制阀(14),所述分解器连接管(20)连接有分解器(3)。
【技术特征摘要】
1.一种高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置,其特征在于:包括设置在高纯气瓶(1)外部的加热器(2),所述高纯气瓶(1)的外部侧壁上设有测温热电偶(16),所述高纯气瓶(1)的入口连接有羰基镍进气管(9)和CO/N2进气连接管(8),所述羰基镍进气管(9)上设有羰基镍进气控制阀(10),所述CO/N2进气连接管(8)上设有CO/N2进气控制阀(6),所述CO/N2进气连接管(8)连接有CO进气管(17)和N2进气管(18),所述高纯气瓶(1)的出口连接有出气管(12),所述出气管(12)上设有压力计(15),所述出气管(12)连接有排废管(19)和分解器连接管(20),所述排废管(19)上设有排废控制阀(13),所述分解器连接管(20)上设有分解处理控制阀(14),所述分解器连接管(20)连接有分解器(3)。2.根据权利要求1所述的一种高纯气瓶内壁MOCVD镀镍装置,其特征在于:所述羰基镍进气管(9)上设有羰基镍进气流量计(...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘玉强,肖冬明,马国生,江林,罗世铭,张华,陈正乾,李登瑞,王大窝,杨超,王金鹏,陈旭军,
申请(专利权)人:金川集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:甘肃,62
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