一种抗紫外线量子点膜制造技术

本实用新型专利技术提供一种抗紫外线量子点膜，包括量子点层、水氧阻隔层和紫外线阻隔层；量子点层的两侧均依次设置有水氧阻隔层和紫外线阻隔层，或量子点层的两侧均依次设置有紫外线阻隔层和水氧阻隔层；其中，量子点层厚度为10～100微米，水氧阻隔层厚度为12～125微米，紫外线阻隔层厚度为25～100微米。本实用新型专利技术提供的抗紫外线量子点膜通过在量子点膜表面设置一定厚度的紫外线阻隔层，能将量子点与环境中的紫外线隔绝开来，同时保证量子点膜的透光性能，进而对量子点膜中的量子点以及量子点膜中的聚合物材料起到良好的保护作用，使量子点膜的力学性能和光学性能得到有效保证。

An anti ultraviolet quantum dot film

The utility model provides an anti ultraviolet quantum dot film, which comprises a quantum dot layer, a water oxygen barrier layer and an ultraviolet barrier layer, and a water oxygen barrier layer and an ultraviolet barrier layer are arranged in turn on both sides of the quantum dot layer, or the two sides of the quantum dot layer are arranged in turn with the ultraviolet barrier layer and the water oxygen barrier layer in turn. The thickness is 10~100 microns, the thickness of water oxygen barrier layer is 12~125 microns, and the thickness of UV barrier layer is 25~100 microns. The anti ultraviolet quantum dot film provided by the utility model can separate the quantum dots from the ultraviolet light in the environment by setting a certain thickness of the ultraviolet barrier layer on the surface of the quantum dot film, and ensure the light transmittance of the quantum dot film, and then the quantum dots in the quantum dot film and the polymer material in the quantum dot film can be good. Good protection effect ensures effective mechanical and optical properties of the quantum dot film.

【技术实现步骤摘要】
一种抗紫外线量子点膜
本技术涉及量子点膜领域，特别涉及一种抗紫外线量子点膜。
技术介绍
量子点膜被应用在液晶背光模组当中，可以使液晶显示设备的色域提高至100％NTSC以上。量子点不仅容易受到外界环境中水氧的破坏，还容易受到环境中紫外线的影响，使荧光强度减弱。在量子点膜的生产、运输、储存和使用过程当中，都有可能接触到紫外线，使得量子点膜的荧光强度减弱。同时，紫外线还会破坏量子点膜中的聚合物材料的分子结构，使量子点膜的力学和光学性能下降。通过在量子点膜中添加光稳定剂来吸收紫外线的方法，对量子点膜可以起到一定的保护效果。申请公布号为CN106279924A的专利，公布日为2017年01月04日，公开了一种硫铟化合物体系量子点转光薄膜及其制备方法，其中添加了光稳定剂。上述方法存在很大的缺点：光稳定剂与量子点一起分散于量子点膜中，光稳定剂只能吸收部分进入量子点膜内部的紫外线，而不能把量子点与紫外线隔绝开来。
技术实现思路
为解决以上
技术介绍
中提到的量子点膜容易受到环境中紫外线影响的问题，本技术提供一种抗紫外线量子点膜，包括量子点层、水氧阻隔层和紫外线阻隔层；所述量子点层的两侧均依次设置有所述水氧阻隔层和紫外线阻隔层，或所述水量子点层的两侧均依次设置有所述紫外线阻隔层和水氧阻隔层；其中，所述量子点层厚度为10～100微米，所述水氧阻隔层厚度为12～125微米，所述紫外线阻隔层厚度为25～100微米。进一步地，所述紫外线阻隔层为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内设有纳米金属氧化物粉体。进一步地，所述纳米金属氧化物粉体包括氧化锌纳米粉体、铝掺杂的氧化锌纳米粉体、氧化铟锡纳米粉体、氧化锑锡纳米粉体、氟掺杂氧化锡纳米粉体、多元掺杂氧化锡纳米粉体和三氧化钨纳米粉体中的一种。进一步地，所述紫外线阻隔层为金属氧化物镀层。进一步地，所述紫外线阻隔层为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内含有紫外线吸收剂。进一步地，所述紫外线吸收剂包括苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、二苯甲酮类化合物中的一种。进一步地，所述紫外线阻隔层为含有不饱和键或芳环的聚合物薄膜。进一步地，所述不饱和键或芳环的聚合物薄膜包括芴-三苯胺共聚物薄膜、苯并二噁唑类聚合物薄膜、苯并噻唑类聚合物薄膜、聚萘二甲酸酯类聚合物薄膜、三醋酸纤维素薄膜、聚酰亚胺薄膜中的一种。进一步地，所述量子点层的厚度为20～50微米。本技术提供的抗紫外线量子点膜通过在量子点膜表面设置一定厚度的紫外线阻隔层，能把量子点与环境中的紫外线隔绝开来，同时保证量子点膜的透光性能，进而对量子点膜中的量子点以及量子点膜中的聚合物材料起到良好的保护作用，使量子点膜的力学性能和光学性能得到有效保证。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术提供的抗紫外线量子点膜一种实施例结构示意图；图2为本技术提供的抗紫外线量子点膜另一种实施例结构示意图。附图标记：10量子点层20水氧阻隔层30紫外线阻隔层31纳米金属氧化物粉体具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供一种抗紫外线量子点膜，包括量子点层10、水氧阻隔层20和紫外线阻隔层30；如图1所示，所述量子点层10的两侧均依次设置有水氧阻隔层20和紫外线阻隔层30，即量子点层10的两侧设置有水氧阻隔层20，水氧阻隔层20的两外侧设置有紫外线阻隔层30；或，如图2所示，所述量子点层10的两侧均依次设置有紫外线阻隔层30和水氧阻隔层20，即量子点层10的两侧设置有紫外线阻隔层30，紫外线阻隔层30的两外侧设置有水氧阻隔层20；根据实际需要，量子层10的任何一侧均可以设置多层不同组合和不同组合顺序的水氧阻隔层20和紫外线阻隔层30，以增强量子点膜对紫外线的防护作用。其中，所述量子点层10厚度为10～100微米，所述水氧阻隔层20厚度为12～125微米，所述紫外线阻隔层30厚度为25～100微米。本技术提供的抗紫外线量子点膜中，紫外线阻隔层为现有技术中的具有阻隔紫外线能力的透光材料，具有对可见光透过率高，对紫外线透过率低的特点。通过在量子点膜表面设置一定厚度的紫外线阻隔层，不仅能把量子点与环境中的紫外线隔绝开来，同时保证量子点膜的透光性能，进而对量子点膜中的量子点以及量子点膜中的聚合物材料起到良好的保护作用，使量子点膜的力学性能和光学性能得到有效保证。优选地，所述紫外线阻隔层30为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内设有纳米金属氧化物粉体31。具体地，设有纳米金属氧化物粉体的涂层或聚合物薄膜，是指将分散有纳米金属氧化物粉体的树脂溶液涂布在量子点层或水氧阻隔层表面所形成的涂层，或者将分散有纳米金属氧化物粉体的聚合物通过熔融挤出的方式形成的聚合物薄膜。优选地，所述纳米金属氧化物粉体31包括氧化锌纳米粉体、铝掺杂的氧化锌纳米粉体、氧化铟锡纳米粉体、氧化锑锡纳米粉体、氟掺杂氧化锡纳米粉体、多元掺杂氧化锡纳米粉体和三氧化钨纳米粉体中的一种。优选地，所述紫外线阻隔层30为金属氧化物镀层，具体地，通过化学气相沉积或物理气相沉积的方法在量子点层或水氧阻隔层表面形成金属氧化物镀层。较佳地，所述紫外线阻隔层30为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内含有紫外线吸收剂。设置有紫外吸收剂的涂层或聚合物薄膜，是指将分散有现有技术存在的紫外吸收剂的树脂溶液涂布在量子点层或水氧阻隔层表面所形成的涂层，或者将分散有紫外吸收剂的聚合物通过熔融挤出的方式形成的聚合物薄膜。优选地，所述紫外线吸收剂包括苯并三唑类化合物、三嗪类化合物、二苯甲酮类化合物中的一种能够吸收紫外线的化合物。优选地，所述紫外线阻隔层30为含有不饱和键或芳环的聚合物薄膜。所述不饱和键或芳环的聚合物薄膜包括芴-三苯胺共聚物薄膜、苯并二噁唑类聚合物薄膜、苯并噻唑类聚合物薄膜、聚萘二甲酸酯类聚合物薄膜、三醋酸纤维素薄膜、聚酰亚胺薄膜等现有技术中已知的薄膜的一种。较佳地，所述量子点层10的厚度为20～50微米。尽管本文中较多的使用了诸如量子点层、水氧阻隔层、紫外线阻隔层、纳米金属氧化物粉体等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本技术的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本技术精神相违背的。最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗紫外线量子点膜，其特征在于：包括量子点层(10)、水氧阻隔层(20)和紫外线阻隔层(30)；所述量子点层(10)的两侧均依次设置有所述水氧阻隔层(20)和紫外线阻隔层(30)，或所述量子点层(10)的两侧均依次设置有所述紫外线阻隔层(30)和水氧阻隔层(20)；其中，所述量子点层(10)厚度为10～100微米，所述水氧阻隔层(20)厚度为12～125微米，所述紫外线阻隔层(30)厚度为25～100微米。

【技术特征摘要】
1.一种抗紫外线量子点膜，其特征在于：包括量子点层(10)、水氧阻隔层(20)和紫外线阻隔层(30)；所述量子点层(10)的两侧均依次设置有所述水氧阻隔层(20)和紫外线阻隔层(30)，或所述量子点层(10)的两侧均依次设置有所述紫外线阻隔层(30)和水氧阻隔层(20)；其中，所述量子点层(10)厚度为10～100微米，所述水氧阻隔层(20)厚度为12～125微米，所述紫外线阻隔层(30)厚度为25～100微米。2.根据权利要求1所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述紫外线阻隔层(30)为涂层或聚合物薄膜；所述涂层或聚合物薄膜内设有纳米金属氧化物粉体(31)。3.根据权利要求2所述的抗紫外线量子点膜，其特征在于：所述纳米金属氧化物粉体(31)包括氧化锌纳米粉体、铝掺杂的氧化锌纳米粉体、氧化铟锡纳米粉体、氧化锑锡纳米粉体、氟掺杂氧化锡纳米粉体、多元掺杂氧化锡纳米粉体和三氧化钨纳米粉体中的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈凯武，
申请(专利权)人：厦门玻尔科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建,35