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一种抗紫外线量子点膜制造技术
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下载一种抗紫外线量子点膜的技术资料
文档序号:18132317
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本实用新型提供一种抗紫外线量子点膜,包括量子点层、水氧阻隔层和紫外线阻隔层;量子点层的两侧均依次设置有水氧阻隔层和紫外线阻隔层,或量子点层的两侧均依次设置有紫外线阻隔层和水氧阻隔层;其中,量子点层厚度为10~100微米,水氧阻隔层厚度为12...
该专利属于厦门玻尔科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门玻尔科技有限公司授权不得商用。
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