一种量子点涂布装置制造方法及图纸

技术编号:18536128 阅读:30 留言:0更新日期:2018-07-28 01:41
本实用新型专利技术提供一种量子点涂布装置,包括涂布装置本体;其中:涂布装置本体沿长度方向设置有盛液槽;盛液槽的底部至涂布装置本体的底面设有漏液缝;涂布装置本体的底面为平面。本实用新型专利技术提供的量子点涂布装置通过在涂布装置本体上设置盛液槽和漏液缝,在基材上涂布量子点膜时,将量子点液盛放在盛液槽上,量子点液通过漏液缝进入基材表面,涂布装置本体从基材的一端开始移动,涂布装置本体的底面将量子点液均匀涂布于基材上。采用本实用新型专利技术提供的量子点涂布装置,在基材的表面涂布时,量子点膜厚度均匀,量子点液利用率高。

A quantum dot coating device

The utility model provides a quantum dot coating device, including the coating device body, wherein the coating device body is provided with Sheng Yecao along the length direction, and the bottom of the liquid tank is provided with a leaky sew on the bottom of the coating device body, and the bottom surface of the coating device body is flat. The quantum dot coating device provided by the utility model provides a liquid slot and a leak seam on the body of the coating device. When the quantum dot film is coated on the substrate, the quantum dot liquid is placed on the liquid tank, and the quantum point liquid enters the substrate surface through a leaky sew, and the coating body begins to move from one end of the substrate, and the coating body is coated. Quantum dot liquid is evenly coated on the substrate at the bottom. When the quantum dot coating device is applied on the substrate surface, the thickness of the quantum dot film is uniform, and the utilization rate of the quantum dot liquid is high.

【技术实现步骤摘要】
一种量子点涂布装置
本技术涉及量子点制作领域,特别涉及一种量子点涂布装置。
技术介绍
量子点是一种纳米级别的半导体,通过对这种纳米半导体材料施加一定的电场或光压,它们便会发出特定频率的光,而发出的光的频率会随着这种半导体的尺寸的改变而变化,因而通过调节这种纳米半导体的尺寸就可以控制其发出的光的颜色,由于这种纳米半导体拥有限制电子和电子空穴的特性,这一特性类似于自然界中的原子或分子,因而被称为量子点。量子点的应用一般需要将量子点液涂布与基材的表面。现有技术中,直接将量子点液倒出至基材的表面上,通过圆柱形辊轴滚动将量子点液涂布于基材的表面。采用此种方法,会出现涂布不均匀的问题,即:刚开始涂布时,基材表面的量子点的量较多,量子点膜较厚;随着圆柱形辊轴的滚动,量子点膜逐渐变薄;如果不及时添加量子点液,基材表面后端甚至完全没有涂布上量子点膜。另一方面,现有技术中采用圆柱形辊轴进行涂布时,量子点液容易沿圆柱形辊轴的两端流出,导致基材表面需要涂布量子点的区域得不到足够的量子点液,量子点液利用率低。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术提供一种量子点涂布装置,包括涂布装置本体;其中:所述涂布装置本体沿长度方向设置有盛液槽;所述盛液槽的底部至所述涂布装置本体的底面设有漏液缝;所述涂布装置本体的底面为平面。进一步地,所述涂布装置本体由涂布块和挡板构成;所述涂布块沿长度方向的中部,沿宽度方向的其中一侧,设有盛液槽镂空部和漏液缝镂空部;所述挡板设置于所述涂布块沿宽度方向的镂空的一侧;所述涂布块与所述挡板结合围成所述盛液槽和漏液缝。进一步地,所述挡板由铁板制成;所述挡板可拆卸安装于所述涂布块上。进一步地,所述挡板通过螺栓固定于所述涂布块上;所述螺栓位于所述涂布块沿长度方向上的两侧。进一步地,所述盛液槽的横截面为三角形。本技术提供的量子点涂布装置通过在涂布装置本体上设置盛液槽和漏液缝,在基材上涂布量子点膜时,将量子点液盛放在盛液槽上,量子点液通过漏液缝进入基材表面,涂布装置本体从基材的一端开始移动,涂布装置本体的底面将量子点液均匀涂布于基材上。采用本技术提供的量子点涂布装置,在基材的表面涂布时,量子点膜厚度均匀,量子点液利用率高。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术提供的量子点涂布装置示意图;图2为漏液缝结构示意图;图3为涂布块结构示意图;图4为量子点涂布装优选实施例示意图。附图标记:10涂布装置本体11涂布块12挡板20盛液槽21盛液槽镂空部30漏液缝31漏液缝镂空部40底面50螺栓具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。图1为本技术提供的量子点涂布装置示意图,如图1所示:量子点涂布装置,包括涂布装置本体10;其中:所述涂布装置本体10沿长度方向设置有盛液槽20;所述盛液槽20的底部至所述涂布装置本体10的底面40设有漏液缝30(如图2所示);所述涂布装置本体10的底面40为平面。具体实施时,将量子点涂布装置置于基材上待涂布量子点膜的表面上,涂布装置本体10的表面紧贴于基材的表面,漏液缝30的底部紧贴基材的表面。涂布时,将量子点液盛放在盛液槽20上,量子点液通过漏液缝30进入基材表面,涂布装置本体10从基材的一端开始移动,匀速移动至基材的另一端,涂布装置本体10的底面40将量子点液均匀涂布于基材上。本技术提供的量子点涂布装置通过在涂布装置本体上设置盛液槽和漏液缝,在基材上涂布量子点膜时,将量子点液盛放在盛液槽上,量子点液通过漏液缝进入基材表面,涂布装置本体从基材的一端开始移动,涂布装置本体的底面将量子点液均匀涂布于基材上。采用本技术提供的量子点涂布装置,在基材的表面涂布时,量子点膜厚度均匀,量子点液利用率高。优选地,所述涂布装置本体10由涂布块11和挡板12构成;所述涂布块11沿长度方向的中部,沿宽度方向的其中一侧,设有盛液槽镂空部21和漏液缝镂空部31(如图3所示);所述挡板12设置于所述涂布块11沿宽度方向的镂空的一侧;所述涂布块11与所述挡板12结合围成所述盛液槽20和漏液缝30。优选地,所述挡板12由铁板制成;所述挡板12可拆卸安装于所述涂布块11上。具体实施时,将涂布装置本体10设置成由涂布块11和挡板12组成,挡板12可拆卸地安装于涂布块11上,当涂布装置本体10经过多次使用后,或者需要更换不同批次的量子点液时,盛液槽20和漏液缝30可以方便地拆卸,进行清洗。优选地,如图4所示:所述挡板12通过螺栓50固定于所述涂布块11上;所述螺栓50位于所述涂布块11沿长度方向上的两侧。优选地,所述盛液槽20的横截面为三角形。具体实施时,采用横截面为三角形的盛液槽20,一方面盛液槽20的体积不会过大,可以根据基材表面面积的大小盛放量子点液,使得每次盛放量子点液的量刚好适用一次基材表面的涂布;另一方面横截面为三角形的盛液槽20,方便量子点液更容易通过漏液缝30进入基材的表面。尽管本文中较多的使用了诸如涂布装置本体,涂布块,挡板,盛液槽,漏液缝,螺栓,底面,盛液槽镂空部和漏液缝镂空部等术语,但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本技术的本质;把它们解释成任何一种附加的限制都是与本技术精神相违背的。最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本技术的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本技术进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点涂布装置,其特征在于:包括涂布装置本体(10);其中:所述涂布装置本体(10)沿长度方向设置有盛液槽(20);所述盛液槽(20)的底部至所述涂布装置本体(10)的底面(40)设有漏液缝(30);所述涂布装置本体(10)的底面(40)为平面。

【技术特征摘要】
1.一种量子点涂布装置,其特征在于:包括涂布装置本体(10);其中:所述涂布装置本体(10)沿长度方向设置有盛液槽(20);所述盛液槽(20)的底部至所述涂布装置本体(10)的底面(40)设有漏液缝(30);所述涂布装置本体(10)的底面(40)为平面。2.根据权利要求1所述的量子点涂布装置,其特征在于:所述涂布装置本体(10)由涂布块(11)和挡板(12)构成;所述涂布块(11)沿长度方向的中部,沿宽度方向的其中一侧,设有盛液槽镂空部(21)和漏液缝镂空部(31);所述挡板(12)设置于所述涂布...

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:厦门玻尔科技有限公司
类型:新型
国别省市:福建,35

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