当前位置: 首页 > 专利查询>金梁专利>正文

真空电镀炉用支架制造技术

技术编号:1811332 阅读:169 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种真空电镀炉用支架,包括有纵向布置的主架,所述主架上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成一排,所述横杆至少为上下两排;上排的横杆上设有上下贯通的通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔与凹槽位于同一直线上。本实用新型专利技术通过在主架上固接横杆,上下横杆通过通孔和凹槽配合,使固定有锁体的夹具的主架上下端通过通孔和凹槽定位,操作方便;多根位于同一水平高度的同排横杆呈放射状结构排列,这样可以同时固定多个夹具,空间利用率高;主架上可以根据需要设置多排横杆,相邻排上下横杆互相配合,固定夹具更多。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空电镀炉内使用的支架。(二)
技术介绍
现有锁具一般通过表面镀铬后再镀钛进行防锈,镀钛工艺复杂,成本高,而采用其他工艺,比如,真空镀膜、喷漆进行防锈, 一般先将锁体固定在夹具上,然后将夹具直接通过挂钩安装在真 空电镀炉内,固定有锁体的夹具需要一个个通过挂钩直接安装在电镀炉内,操作不便;这种结构的夹具安装时空间利用率低,一 次加工的锁体量较少,生产效率低,制造成本高。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种能便于固定有锁体的夹具安装在电镀炉内的支架,操作方便且,电镀炉的空间利 用率高,生产效率高,制造成本低。为此,本技术采取以下技术方案一种真空电镀炉用支架,包括有纵向布置的主架,所述主架 上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成 一排,所述横杆至少为上下两排;上排的横杆上设有上下贯通的 通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔 与凹槽位于同一直线上。位于同一水平高度的同排横杆以主架为中心呈放射状结构排列。所述横杆为三排,相邻两排配合;其中,中间排横杆上设有 与上排横杆通孔配合的凹槽,中间排横杆上还设有上下贯通的通 孑L,与下排横杆上凹槽配合;所述中间排、下排横杆上的通孔、 凹槽错位分布。相邻的上下排对应配合的凹槽、通孔位于垂直布置的同一直 线上。位于同一水平高度的横杆为8根。采用本技术具有以下优点1、通过在主架上固接横杆, 上下横杆通过通孔和凹槽配合,使固定有锁体的夹具的主架上下 端通过通孔和凹槽定位,操作方便;2、多根位于同一水平高度 的同排横杆呈放射状结构排列,这样可以同时固定多个夹具,空 间利用率高;3、主架上可以根据需要设置多排横杆,相邻排上 下横杆互相配合,固定夹具更多;4、将多个夹具分别安装在横 杆上,然后将整个支架定位在真空电镀炉内, 一次定位即可,操 作方便;5、 一次真空电镀的锁体多,提高了生产效率,降低了 制造成本。(四) 附图说明 图l为本技术结构示意图;图2为本技术另一种结构示意图。具体实施方式实施例一参照图1, 一种真空电镀炉用支架,包括有纵向布置的主架1,所述主架上设有与之相交固接的横杆2,位于同一水平高度 的8根横杆组成一排,所述横杆为上下两排;上排的横杆21上 设有上下贯通的通孔3,下排横杆22上对应通孔位置设有底部 封口的凹槽4,所述通孔与凹槽位于垂直布置的同一直线上。位 于同一水平高度的同排横杆以主架为中心呈放射状结构排列。使 用时,将固定有锁体的夹具的主架上下端通过横杆上的通孔和凹 槽定位。实施例二参照图2,所述横杆为三排,相邻两排配合;其中,中间排 横杆23上设有与上排横杆通孔配合的凹槽4,中间排横杆上还 设有上下贯通的通孔3,与下排横杆上凹槽4配合;所述中间排、 下排横杆上的通孔、凹槽错位分布。相邻的上下排对应配合的凹 槽、通孔位于垂直布置的同一直线上。其他同实施例一。当然,横杆上的凹槽,也可以采用能达到类似效果的其他结 构,比如,凹槽改为通孔,通孔底部通过挡块封住。权利要求1、一种真空电镀炉用支架,其特征在于包括有纵向布置的主架,所述主架上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成一排,所述横杆至少为上下两排;上排的横杆上设有上下贯通的通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔与凹槽位于同一直线上。2、 如权利要求1所述的真空电镀炉用支架,其特征在于位于同一水 平高度的同排横杆以主架为中心呈放射状结构排列。3、 如权利要求2所述的真空电镀炉用支架,其特征在于所述横杆为 三排,相邻两排配合;其中,中间排横杆上设有与上排横杆通孔配合 的凹槽,中间排横杆上还设有上下贯通的通孔,与下排横杆上凹槽配 合;所述中间排、下排橫杆上的通孔、凹槽错位分布。4、 如权利要求3所述的真空电镀炉用支架,其特征在于相邻的上下 排对应配合的凹槽、通孔位于垂直布置的同一直线上。5、 如权利要求4所述的真空电镀炉用支架,其特征在于位于同一水 平高度的横杆为8根。专利摘要一种真空电镀炉用支架,包括有纵向布置的主架,所述主架上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成一排,所述横杆至少为上下两排;上排的横杆上设有上下贯通的通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔与凹槽位于同一直线上。本技术通过在主架上固接横杆,上下横杆通过通孔和凹槽配合,使固定有锁体的夹具的主架上下端通过通孔和凹槽定位,操作方便;多根位于同一水平高度的同排横杆呈放射状结构排列,这样可以同时固定多个夹具,空间利用率高;主架上可以根据需要设置多排横杆,相邻排上下横杆互相配合,固定夹具更多。文档编号C23C14/50GK201169621SQ20082008196公开日2008年12月24日 申请日期2008年1月9日 优先权日2008年1月9日专利技术者梁 金 申请人:梁 金本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空电镀炉用支架,其特征在于:包括有纵向布置的主架,所述主架上设有与之相交固接的横杆,位于同一水平高度的若干横杆组成一排,所述横杆至少为上下两排; 上排的横杆上设有上下贯通的通孔,下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽,所述通孔与凹槽位于同一直线上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:金梁
申请(专利权)人:金梁
类型:实用新型
国别省市:33[中国|浙江]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1