【技术实现步骤摘要】
一种ESD器件串联电阻的电阻结构
本技术涉及一种ESD器件串联电阻的电阻结构,特别是涉及一种半导体芯片电路中的ESD串联电阻的电阻结构。
技术介绍
在半导体芯片电路中,有时,我们需要在ESD器件之前串一个10欧姆到200欧姆的ploy(多晶硅)电阻,这个电阻的作用是增加ESD结构对芯片外部噪声的免疫力,在接地噪声和电源噪声的环境中,更不容易使ESD被正偏。由于这个poly电阻被串联在ESD路径中,所以,当ESD发生的时候,会有安培级的电流通过它。因此,为了保证在ESD发生时,电阻不被损坏,这个poly电阻的面积通常需要被设计得相当大,来吸收掉在ESD发生时所发出的热,从而防止电阻器件的损坏。在ESD发生时,使电阻器件损坏的主要原因是因为瞬间功率过大导致电阻过热。对于poly电阻来说,它的厚度往往比较薄(例如,在.18工艺中,大概是0.2um~0.3um厚)。因此同等面积下它的热容有限。假如它的面积不够大,ESD电流流过它的时候发出的能量会使它快速发热,超过其熔点导致损毁,因此,很大程度上制约了该电阻电路的版图尺寸。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种能大大缩小 ...
【技术保护点】
一种ESD器件串联电阻的电阻结构,其特征在于:把多晶硅电阻分成N个小部分,每一小部分均通过各自对应的Contact连接到上部金属层;每一小部分所对应的Contact及连接到上部金属层构成了一个独立单元;所述上部金属层采用金属铝材料;所述Contact采用金属铝材料或铝合金材料;所述N为大于等于2的自然数。
【技术特征摘要】
1.一种ESD器件串联电阻的电阻结构,其特征在于:把多晶硅电阻分成N个小部分,每一小部分均通过各自对应的Contact连接到上部金属层;每一小部分所对应的Contact及连接到上部金属层构成了一个独立单元;所述上部金属层采用金属铝材料;所述Contact采用金属铝材料或铝合金材料;所述N为大于等于2的自然数。2.根据权利要求1所述的ESD器件串联电阻的电阻结构,其特征在于:还包括Via结构,每一小部分均通过各自对应的Contact和Via连接到上部金属层;每一小部分所对应的Contact和Via及连接到上部金属层构成了一个独立单元;所述Via和上部金属层采用金属铝材料;所述Contact采用...
【专利技术属性】
技术研发人员:李伊珂,李涅,
申请(专利权)人:清华四川能源互联网研究院,
类型:新型
国别省市:四川,51
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