压力阵列检测设备、对应方法以及脉诊检测设备技术

一种压力阵列检测设备、对应方法以及脉诊检测设备，在压力作用下，压力传感装置(1)的柔性材料层产生形变，使得与柔性材料层贴合的反光层也随之发生形变。根据反光层上的标记点可以探测压力传感装置(1)的横向变形程度，而光源(2)出射的光束经反光层反射后在摄像装置(3)成像面形成的反射光点，在反光层发生形变时，也会发生位移。通过摄像装置(3)对包含标记点的位置信息以及反射光点的位置信息的图像进行采集。并对该图像进行处理后，反算出对应压力作用表面的压力分布。通过该压力阵列检测设备、对应方法以及脉诊检测设备，能够获得分辨率较高的压力检测。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】压力阵列检测设备、对应方法以及脉诊检测设备
本专利技术涉及脉诊设备
，特别是涉及一种压力阵列检测设备、对应方法以及压力阵列检测设备。
技术介绍
目前压力检测装置多为测量单点的压力，例如通过电容阵列的方式获取单点的脉诊信息。在相同的待检测面积内，电容阵列设置个数越多，则分辨率越高，但是其检测精度会降低。因此，在要保证电容阵列的检测精度的前提下，现有的压力检测装置无法提供更高的分辨率，市面上最多也只能支持到3*4的分辨率。鉴于此，提供一种能够获取高分辨率阵列精确压力信息的方法是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种压力阵列检测设备、对应方法以及压力阵列检测设备，以解决现有压力检测技术分辨率较低的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种压力阵列检测设备，包括：压力传感装置、光源、摄像装置以及处理装置；其中，所述压力传感装置由反光层以及柔性材料层构成，所述柔性材料层的第一表面与压力作用表面相接触，第二表面与所述反光层相贴合；在所述反光层上分布有多个标记点组成的标记点阵，所述标记点不反光或入射至所述标记点的光发生漫反射；所述光源用于出射光束，经过所述反光层反射后，在所述摄像装置的成像面上形成对应的反射光点；所述摄像装置用于对包含所述标记点阵的位置信息以及所述反射光点的位置信息的图像进行采集；所述处理装置用于对所述图像进行处理，根据所述标记点阵的位置变化以及所述反射光点的位置变化，确定所述压力作用表面的压力分布。可选地，还包括：存储器，用于存储预先建立的形变分布模型，所述形变分布模型包括压力作用表面在不同受力面积不同压力下对应的压力曲线，所述压力曲线的幅值对应所述标记点发生的偏移量，所述压力曲线的频率对应所述反射光点发生的偏移量。可选地，所述处理装置包括：变换模块，用于对表征压力分布的所述图像进行傅里叶变换，得到不同受力面积对应的不同频率的分布；反算模块，用于根据所述标记点的位置变化以及所述反射光点的位置变化，利用所述形变分布模型确定每个频率对应的压力分布；叠加模块，用于对每个频率进行叠加，确定整体曲面对应的压力分布。可选地，所述压力传感装置还包括电容阵列，用于对各电容分别对应的单点的压力进行检测。可选地，所述电容阵列设置于所述反光层位置处。可选地，所述处理装置还包括：校正模块，用于在确定所述压力作用表面的压力分布之后，采用所述电容阵列确定的单点的压力进行校正。可选地，所述光源为激光光源。可选地，所述柔性材料层为硅胶层。可选地，还包括：显示装置，用于对所述压力作用表面的曲面形状和/或压力分布进行显示。本专利技术还提供了一种脉诊检测设备，包括上述任一种压力阵列检测设备。本专利技术还提供了一种压力阵列检测方法，包括：采集压力传感装置在压力作用时表征压力分布的图像；所述压力传感装置由反光层以及柔性材料层构成，所述柔性材料层的第一表面与压力作用表面相接触，第二表面与所述反光层相贴合；在所述反光层上分布有多个标记点组成的标记点阵，所述标记点不反光或入射至所述标记点的光发生漫反射；所述反光层将光源出射的光束反射后，在摄像装置的成像面形成对应反射光点；所述图像包含所述标记点阵的位置信息以及所述反射光点的位置信息；根据所述标记点阵的位置变化以及所述反射光点的位置变化，确定所述压力作用表面的压力分布。可选地，所述根据所述标记点阵的位置变化以及所述反射光点的位置变化，确定所述压力作用表面的压力分布包括：预先建立形变分布模型，所述形变分布模型包括压力作用表面在不同受力面积不同压力下对应的压力曲线，所述压力曲线的幅值对应所述标记点发生的偏移量，所述压力曲线的频率对应所述反射光点发生的偏移量；对表征压力分布的所述图像进行傅里叶变换，得到不同受力面积对应的不同频率的分布；根据所述标记点的位置变化以及所述反射光点的位置变化，利用所述形变分布模型确定每个频率对应的压力分布；对每个频率进行叠加，确定整体曲面对应的压力分布。可选地，在所述确定所述压力作用表面的压力分布之后还包括：采用电容阵列对各电容对应的单点的压力进行检测；采用确定的单点的压力对所述压力分布进行校正。可选地，还包括：对所述压力作用表面的曲面形状和/或压力分布进行显示。本专利技术所提供的压力阵列检测设备以及对应方法，在压力作用下，压力传感装置的柔性材料层产生形变，使得与柔性材料层贴合的反光层也随之发生形变。由于反光层上的标记点不反光或入射光发生漫反射，因此采集到的图像中标记点的位置也会发生变化。根据反光层上的标记点的位置变化可以探测压力传感装置的横向变形程度，而光源出射的光束经反光层反射后在摄像装置成像面形成的反射光点，在反光层发生形变时，也会发生位移。通过摄像装置对包含标记点的位置信息以及反射光点的位置信息的图像进行采集。并对该图像进行处理后，反算出对应压力作用表面的压力分布。可见，本专利技术所提供的压力阵列检测设备以及对应方法，能够获得分辨率较高的压力检测。此外，本专利技术还提供了一种具有上述技术优点的脉诊检测设备。附图说明为了更清楚的说明本专利技术实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术所提供的压力阵列检测设备的一种具体实施方式的结构框图；图2为本专利技术所提供的压力阵列检测设备的一种具体实施方式的示例图一；图3为本专利技术所提供的压力阵列检测设备的一种具体实施方式的示例图二；图4为在某压力作用下，单点或不同面积的触点随压力变化的形变分布压力曲线示意图；图5为本专利技术实施例中处理装置的一种具体实施方式的结构框图；图6为本专利技术所提供的压力阵列检测设备中处理装置的具体工作示意图；图7为标记点的位置确定方法示意图；图8为根据标记点与反光层共同反算出表面形变的过程示意图一；图9为根据标记点与反光层共同反算出表面形变的过程示意图二；图10本专利技术所提供的压力阵列检测方法的流程图；图11为本专利技术所提供的压力阵列检测方法中处理过程的流程图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供了压力阵列检测设备、对应方法以及脉诊检测设备，能够获得分辨率较高的压力检测，以下分别进行详细描述。请参阅图1，图1为本专利技术所提供的压力阵列检测设备的一种具体实施方式的结构框图。如图1所示，该压力阵列检测设备可以包括：压力传感装置1、光源2、摄像装置3以及处理装置4；其中，压力传感装置1由反光层以及柔性材料层构成，柔性材料层的第一表面与压力作用表面相接触，第二表面与反光层相贴合；在反光层上分布有多个标记点组成的标记点阵，该标记点不反光或入射至标记点的光发生漫反射；光源2用于出射光束，经过反光层反射后，在摄像装置的成像面上形成对应的反射光点；摄像装置3用于对包含标记点阵的位置信息以及反射光点的位置信息的图像进行采集；处理装置4用于对图像进行处理，根据本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种压力阵列检测设备，其特征在于，包括：压力传感装置、光源、摄像装置以及处理装置；其中，所述压力传感装置由反光层以及柔性材料层构成，所述柔性材料层的第一表面与压力作用表面相接触，第二表面与所述反光层相贴合；在所述反光层上分布有多个标记点组成的标记点阵，所述标记点不反光或入射至所述标记点的光发生漫反射；所述光源用于出射光束，经过所述反光层反射后，在所述摄像装置的成像面上形成对应的反射光点；所述摄像装置用于对包含所述标记点阵的位置信息以及所述反射光点的位置信息的图像进行采集；所述处理装置用于对所述图像进行处理，根据所述标记点阵的位置变化以及所述反射光点的位置变化，确定所述压力作用表面的压力分布。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种压力阵列检测设备，其特征在于，包括：压力传感装置、光源、摄像装置以及处理装置；其中，所述压力传感装置由反光层以及柔性材料层构成，所述柔性材料层的第一表面与压力作用表面相接触，第二表面与所述反光层相贴合；在所述反光层上分布有多个标记点组成的标记点阵，所述标记点不反光或入射至所述标记点的光发生漫反射；所述光源用于出射光束，经过所述反光层反射后，在所述摄像装置的成像面上形成对应的反射光点；所述摄像装置用于对包含所述标记点阵的位置信息以及所述反射光点的位置信息的图像进行采集；所述处理装置用于对所述图像进行处理，根据所述标记点阵的位置变化以及所述反射光点的位置变化，确定所述压力作用表面的压力分布。2.如权利要求1所述的压力阵列检测设备，其特征在于，还包括：存储器，用于存储预先建立的形变分布模型，所述形变分布模型包括压力作用表面在不同受力面积不同压力下对应的压力曲线，所述压力曲线的幅值对应所述标记点发生的偏移量，所述压力曲线的频率对应所述反射光点发生的偏移量。3.如权利要求2所述的压力阵列检测设备，其特征在于，所述处理装置包括：变换模块，用于对表征压力分布的所述图像进行傅里叶变换，得到不同受力面积对应的不同频率的分布；反算模块，用于根据所述标记点的位置变化以及所述反射光点的位置变化，利用所述形变分布模型确定每个频率对应的压力分布；叠加模块，用于对每个频率进行叠加，确定整体曲面对应的压力分布。4.如权利要求1至3任一项所述的压力阵列检测设备，其特征在于，所述压力传感装置还包括电容阵列，用于对各电容分别对应的单点的压力进行检测。5.如权利要求4所述的压力阵列检测设备，其特征在于，所述电容阵列设置于所述反光层位置处。6.如权利要求5所述的压力阵列检测设备，其特征在于，所述处理装置还包括：校正模块，用于在确定所述压力作用表面的压力分布之后，采用所述电容阵列确定的单点的压力进行校正。7.如权利要求1至3任一项所述的压力阵列检测设备，其特征在于，所述光源为激光光源。8.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：阳光，
申请(专利权)人：深圳配天智能技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44