The components of electrolyte layer with dense and gas barrier properties are realized. A metal supported electrochemical element has at least a metal substrate as a supporting body, an electrode layer formed on a metal substrate, a buffer layer formed on the electrode layer, and a layer of electrolyte formed on the buffer layer. The electrode layer is porous, the electrolyte layer is dense, the density of the buffer layer is larger than that of the electrode layer, and the density of the buffer layer is smaller than that of the electrolyte layer.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】金属支承型电化学元件、固体氧化物型燃料电池和金属支承型电化学元件的制造方法
本专利技术涉及至少具有:作为支承体的金属基板、在前述金属基板之上形成的电极层、在前述电极层之上形成的缓冲层、以及在前述缓冲层之上形成的电解质层的金属支承型电化学元件和固体氧化物型燃料电池以及该金属支承型电化学元件的制造方法。
技术介绍
在以往的电解质支承型的固体氧化物型燃料电池(以下,记为“SOFC”。)或电极支承型的SOFC中,为了得到致密且气密性和气体阻隔性高的电解质层,进行高温(例如1400℃)下的烧结。近年来,开发了为了提高坚固性而在金属基板上支承燃料极、空气极和电解质层的金属支承型SOFC。在专利文献1中,公开了在多孔质的金属基板上将薄膜状的燃料极层、电解质层、空气极层按照此顺序层叠后的金属支承型SOFC。在该SOFC的制造工序中,在燃料极层之上涂敷、干燥电解质层的材料之后,进行按压。之后进行烧结,形成了致密的电解质层。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2008-234927号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题可是,即使为使用专利文献1的方法得到的电解质层,其性能也不充 ...
【技术保护点】
一种金属支承型电化学元件,其中,至少具有:作为支承体的金属基板、在所述金属基板之上形成的电极层、在所述电极层之上形成的缓冲层、以及在所述缓冲层之上形成的电解质层,所述电极层为多孔质,所述电解质层为致密,所述缓冲层的致密度比所述电极层的致密度大且比所述电解质层的致密度小。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.18 JP 2015-1860491.一种金属支承型电化学元件,其中,至少具有:作为支承体的金属基板、在所述金属基板之上形成的电极层、在所述电极层之上形成的缓冲层、以及在所述缓冲层之上形成的电解质层,所述电极层为多孔质,所述电解质层为致密,所述缓冲层的致密度比所述电极层的致密度大且比所述电解质层的致密度小。2.根据权利要求1所述的金属支承型电化学元件,其中,所述缓冲层包含氧化铈类材料。3.根据权利要求1或2所述的金属支承型电化学元件,其中,所述电解质层包含稳定化氧化锆。4.根据权利要求1~3的任一项所述的金属支承型电化学元件,其中,所述缓冲层的厚度为4μm以上。5.根据权利要求1~3的任一项所述的金属支承型电化学元件,其中,所述缓冲层的厚度为10μm以下。6.根据权利要求1~5的任一项所述的金属支承型电化学元件,其中,所述缓冲层的致密度为50%以上且不足98%。7.根据权利要求1~6的任一项所述的金属支承型电化学元件,其中,在所述电解质层的一部分中包含致密度为98%以上的致密电解质层。8.根据权利要求1~7的任一项所述的金属支承型电化学元件,其中,具有扩散抑制层,所述扩散抑制层抑制从所述金属基板向所述电极层的Cr的扩散。9.根据权利要求8所述的金属支承型电化学元件,其中,所述扩散...
【专利技术属性】
技术研发人员:越后满秋,大西久男,真锅享平,山崎修,南和彻,津田裕司,
申请(专利权)人:大阪瓦斯株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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