用于带电粒子束装置的分段式检测器制造方法及图纸

一种用于带电粒子束装置的检测器包含：衬底；提供在所述衬底上的数个第一传感器装置，其中所述第一传感器装置被构造成敏感于由样本弹射的电子，并响应于所述电子而生成第一信号；以及提供在所述衬底上的数个第二传感器装置，其中所述第二传感器装置被构造成敏感于由所述样本发射的光子，并响应于所述光子而生成第二信号。并且，一种光子检测器，其中光子传感器装置中的每一个被构造成敏感于由样本发射的光子，并响应于所述光子而生成信号，且其中所述光子传感器装置中的每一个包括多像素光子计数器装置。此外，一种使用带电粒子束装置对样本进行成像的方法使用射束熄减，并确定所估计衰减时间常数。

A piecewise detector for a charged particle beam device

A detector for a charged particle beam device includes a substrate, which provides a number of first sensor devices on the substrate, wherein the first sensor device is configured to be sensitive to electrons ejected from the sample and generates a first signal in response to the electrons, and several second transmission on the substrate are provided. A sensor device, wherein the second sensor device is configured to be sensitive to the photon emitted by the sample and generates a second signal in response to the photon. Furthermore, a photon detector in which each of the photon sensor devices is constructed to be sensitive to the photons emitted by the sample and generates a signal in response to the photons, and each of the photon sensor devices includes a multi pixel photon counter device. In addition, a method of imaging samples using a charged particle beam device uses beam extinction and determines the estimated decay time constant.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于带电粒子束装置的分段式检测器相关申请的交叉引用本申请根据35U.S.C.§119(e)主张标题为《用于带电粒子束装置的分段式检测器(SegmentedDetectorforaChargedParticleBeamDevice)》，且在2015年7月31日提交的第62/199,565号美国临时专利申请的优先权，所述申请的内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及使用例如电子显微镜的带电粒子束装置进行成像，并且特定来说涉及用于包含一个或多个电子敏感传感器和一个或多个光子敏感传感器的带电粒子束装置的分段式检测器，和利用此分段式检测器的带电粒子束装置。本专利技术还涉及利用多像素光子计数器技术的分段式光子检测器，和获得衰减时间常数的图像以便改进阴极发光(CL)成像的方法。
技术介绍
电子显微镜(EM)是使用电子粒子束照射样本，并产生样本的放大图像的显微镜类型。一种常见类型的EM被称为扫描电子显微镜(SEM)。SEM通过跨越样本的区域用精细聚焦的电子束以一模式扫描样本来产生样本的图像，所述模式被称为光栅模式。电子与组成样本的原子相互作用，从而产生含有关于样本的表面构形、成分和例如晶体取向和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于带电粒子束装置(1、1′)的检测器(18)，包括：衬底(42)，被构造成安装在所述带电粒子束装置内；数个第一传感器装置(46)，提供在所述衬底上，其中所述第一传感器装置中的每一个被构造成敏感于由样本弹射的电子，并响应于所述电子而生成第一信号；以及数个第二传感器装置(48)，提供在所述衬底上，其中所述第二传感器装置中的每一个被构造成敏感于由所述样本发射的光子，并响应于所述光子而生成第二信号。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.31 US 62/199,5651.一种用于带电粒子束装置(1、1′)的检测器(18)，包括：衬底(42)，被构造成安装在所述带电粒子束装置内；数个第一传感器装置(46)，提供在所述衬底上，其中所述第一传感器装置中的每一个被构造成敏感于由样本弹射的电子，并响应于所述电子而生成第一信号；以及数个第二传感器装置(48)，提供在所述衬底上，其中所述第二传感器装置中的每一个被构造成敏感于由所述样本发射的光子，并响应于所述光子而生成第二信号。2.根据权利要求1所述的检测器，其中所述检测器是分段式检测器，使得所述第一传感器装置和所述第二传感器装置中的每一个是离散的且可独立地接入。3.根据权利要求1所述的检测器，其中所述数个第一传感器装置是多个第一传感器装置，且所述数个第二传感器装置是多个第二传感器装置。4.根据权利要求1所述的检测器，其中所述第一传感器装置中的一个或多个包括多像素光子计数器装置。5.根据权利要求1所述的检测器，其中所述第二传感器装置中的一个或多个包括多像素光子计数器装置。6.根据权利要求1所述的检测器，其中所述第一传感器装置中的一个或多个和所述第二传感器装置中的一个或多个包括多像素光子计数器装置。7.根据权利要求6所述的检测器，其中所述第一传感器装置中的所述一个或多个各自包括光电倍增管上闪烁体装置(SoM装置)，且所述第二传感器装置中的所述一个或多个各自包括裸多像素光子计数器装置。8.根据权利要求7所述的检测器，其中所述第一传感器装置中的所述一个或多个各自包括SiPMSoM装置，且所述第二传感器装置中的所述一个或多个各自包括裸SiPM装置。9.根据权利要求7所述的检测器，其中所述衬底包含延伸穿过所述衬底，以用于允许所述带电粒子束装置的射束穿过所述检测器的穿孔(44)，且其中所述数个第一传感器装置为相对于所述穿孔沿着内半径绕所述穿孔间隔的四个第一传感器装置，且所述数个第二传感器装置为相对于所述穿孔沿着内半径绕所述穿孔间隔的四个第一传感器装置。10.根据权利要求7所述的检测器，其中每一SoM装置包含光学不透明涂层，以防止所述SoM装置形成对光的响应。11.根据权利要求1所述的检测器，其中所述衬底包含延伸穿过所述衬底，以用于允许所述带电粒子束装置的射束穿过所述检测器的穿孔(44)，且其中所述数个第一传感器装置和所述数个第二传感器装置绕所述穿孔间隔开。12.根据权利要求6所述的检测器，其中所述第一传感器装置中的所述一个或多个各自包括SoM装置的阵列，且所述第二传感器装置中的所述一个或多个各自包括裸多像素光子计数器装置的阵列。13.根据权利要求1所述的检测器，其中所述数个第二传感器装置中的一个或多个各自包含滤光片。14.根据权利要求13所述的检测器，其中多个所述数个第二传感器装置各自包含滤光片。15.根据权利要求14所述的检测器，其中每一滤光片导致所述第二传感器装置敏感于相同光谱区域。16.根据权利要求15所述的检测器，其中所述滤光片导致所述第二传感器装置敏感于不同光谱区域。17.一种带电粒子束装置，包含根据权利要求1所述的检测器。18.一种用于带电粒子束装置的光子检测器(64)，包括：衬底(42)，被构造成安装在所述带电粒子束装置内，其中所述衬底包含延伸穿过所述衬底，以用于允许所述带电粒子束装置的射束穿过所述光子检测器的穿孔(44)；以及多个光子传感器装置(48)，绕所述穿孔间隔地提供在所述衬底上，其中所述光子传感器装置中的每一个被构造成敏感于由样本发射的光子，并响应于所述光子而生成信号，且其中所述光子传感器装置中的每一个包括多像素光子计数器装置。19.根据权利要求18所述的光子检测器，其中所述检测器是分段式检测器，使得所述传感器装置中的每一个是离散的且可独立地接入。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·C·巴尔比，R·B·莫特，O·希利，
申请(专利权)人：FEI公司，
类型：发明
国别省市：美国,US