一种抗冲击低磨耗耐磨材料制造技术

本发明专利技术公开了一种抗冲击低磨耗耐磨材料，其原料包括以下成分：C、Mg、B、Si、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Y、Sr、Nb、Mo、La、Ce、Nd、Gd，其余为Fe及不可避免的杂质。本发明专利技术提出的一种抗冲击低磨耗耐磨材料，通过优化配比，得到的耐磨材料抗冲击性能好，磨耗低，使用寿命长。

【技术实现步骤摘要】
一种抗冲击低磨耗耐磨材料
本专利技术涉及耐磨材料
，尤其涉及一种抗冲击低磨耗耐磨材料。
技术介绍
耐磨材料是一大类具有特殊电、磁、光、声、热、力、化学以及生物功能的新型材料，是信息技术、生物技术、能源技术等高
和国防建设的重要基础材料，同时也对改造某些传统产业具有十分重要的作用。目前，耐磨材料存在成分不合理，导致耐磨材料磨耗高，抗冲击性能差，限制了耐磨材料的发展。
技术实现思路
基于
技术介绍
存在的技术问题，本专利技术提出了一种抗冲击低磨耗耐磨材料，通过优化配比，得到的耐磨材料抗冲击性能好，磨耗低，使用寿命长。本专利技术提出了一种抗冲击低磨耗耐磨材料，其原料按质量百分数包括以下成分：C：0.12-0.28％、Mg：0.04-0.12％、B：0.1-0.25％、Si：0.2-0.5％、Sc：0.15-0.3％、Ti：0.15-0.4％、V：0.12-0.25％、Cr：13.2-15.8％、Mn：0.3-0.55％、Co：0.1-0.2％、Ni：0.25-0.4％、Cu：0.1-0.2％、Y：0.05-0.12％、Sr：0.05-0.1％、Nb：0.1-0.2％、Mo：0.1-0.本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗冲击低磨耗耐磨材料，其特征在于，其原料按质量百分数包括以下成分：C：0.12‑0.28％、Mg：0.04‑0.12％、B：0.1‑0.25％、Si：0.2‑0.5％、Sc：0.15‑0.3％、Ti：0.15‑0.4％、V：0.12‑0.25％、Cr：13.2‑15.8％、Mn：0.3‑0.55％、Co：0.1‑0.2％、Ni：0.25‑0.4％、Cu：0.1‑0.2％、Y：0.05‑0.12％、Sr：0.05‑0.1％、Nb：0.1‑0.2％、Mo：0.1‑0.25％、La：0.1‑0.2％、Ce：0.25‑0.4％、Nd：0.1‑0.2％、Gd：0.1‑0.2％，其余为Fe及不可避免的...

【技术特征摘要】
1.一种抗冲击低磨耗耐磨材料，其特征在于，其原料按质量百分数包括以下成分：C：0.12-0.28％、Mg：0.04-0.12％、B：0.1-0.25％、Si：0.2-0.5％、Sc：0.15-0.3％、Ti：0.15-0.4％、V：0.12-0.25％、Cr：13.2-15.8％、Mn：0.3-0.55％、Co：0.1-0.2％、Ni：0.25-0.4％、Cu：0.1-0.2％、Y：0.05-0.12％、Sr：0.05-0.1％、Nb：0.1-0.2％、Mo：0.1-0.25％、La：0.1-0.2％、Ce：0.25-0.4％、Nd：0.1-0.2％、Gd：0.1-0.2％，其余为Fe及不可避免的杂质。2.根据权利要求1所述抗冲击低磨耗耐磨材料，其特征在于，其原料按质量百分数包括以下成分：C：0.15-0.25％、Mg：0.06-0.1％、B：0.15-0.2％、Si：0.25-0.45％、Sc：0.2-0.25％、Ti：0.2-0.35％、V：0.15-0.22％、Cr：13.5-15.2％、Mn：0.35-0.5％、Co：0.12-0.18％、Ni...

【专利技术属性】
技术研发人员：甘葆瑞，
申请(专利权)人：蚌埠市光辉金属加工厂，
类型：发明
国别省市：安徽,34