光源制造技术

技术编号:17746710 阅读:49 留言:0更新日期:2018-04-18 20:24
一种集成光源,所述集成光源包括:发射辐射源,其具有第一光谱;光学元件,其被定位为引导来自所述发射辐射源的发射;体积光谱转换器,其被定位为将从所述发射辐射源引导的发射转换成具有与所述第一光谱不同的第二光谱的发射;光学反射器,其被定位在所述转换器附近;输出滤波器,所述反射器被定位为朝向所述输出滤波器反射所述转换器发射;以及封装体,其具有内腔,该内腔容纳所述发射辐射源、光学元件、转换器、反射器和滤波器,其中,所期望的光从所述内腔辐射通过所述滤波器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光源
技术介绍
本专利技术涉及固态发光器件,并且特别涉及具有指定光路和波长输出的那些固态发光器件。现有固态照明器件通常使用发光二极管(LED)、有机发光二极管(OLED)或激光二极管(LD)作为远程荧光体系统的一部分,远程荧光体系统与一种或更多种远程荧光体组合,该一种或更多种远程荧光体将初始发出辐射的一部分转换成可用光谱。远程荧光体系统是表面设置有磷光粉的反射或透明基板的组合,诸如塑料、亚克力、玻璃等。然后,该基板可以将初始发出的光(通常是蓝色或蓝紫色相干光)转换成广谱非相干光,广谱非相干光最常见的是白光。这些器件已经胜过白炽光源和荧光光源,其优点包括寿命更长、节能且光输出更亮。然而,虽然有时采用与上述类似的系统,但这些系统仍具有抑制该技术的问题。这些问题包括激光的低效率转换、激光中的一些或大多数未转换、危险相干光的发射、以及难以控制所发出的转换光的方向和光路。出于这些原因,即使在分析基于LD的器件(最有效设计)时,现有设计的整体效率也依然较低。而且,使用LD提供基色光输入的现有设计使远程荧光体元素完全饱和。该过饱和可能导致相干激光的无意发射,这可能造成对敏感电子设备、材料、眼睛和皮肤的损本文档来自技高网...
光源

【技术保护点】
一种集成光源,所述集成光源包括:发射辐射源,所述发射辐射源具有第一光谱;光学元件,所述光学元件被定位为引导来自所述发射辐射源的发射;体积光谱转换器,所述转换器被定位为将从所述发射辐射源引导的发射转换成具有与所述第一光谱不同的第二光谱的发射;光学反射器,所述光学反射器被定位在所述转换器附近;输出滤波器,所述反射器被定位为朝向所述输出滤波器反射所述转换器的发射;以及封装体,所述封装体具有内腔,所述内腔容纳所述发射辐射源、光学元件、转换器、反射器和滤波器,其中,所期望的光从所述内腔辐射通过所述滤波器。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.17 US 62/205,978;2015.11.16 US 62/255,8251.一种集成光源,所述集成光源包括:发射辐射源,所述发射辐射源具有第一光谱;光学元件,所述光学元件被定位为引导来自所述发射辐射源的发射;体积光谱转换器,所述转换器被定位为将从所述发射辐射源引导的发射转换成具有与所述第一光谱不同的第二光谱的发射;光学反射器,所述光学反射器被定位在所述转换器附近;输出滤波器,所述反射器被定位为朝向所述输出滤波器反射所述转换器的发射;以及封装体,所述封装体具有内腔,所述内腔容纳所述发射辐射源、光学元件、转换器、反射器和滤波器,其中,所期望的光从所述内腔辐射通过所述滤波器。2.根据权利要求1所述的光源,其中,所述辐射源在400nm至480nm的范围中操作。3.根据权利要求2所述的光源,其中,所述辐射源在430nm至470nm的范围中操作。4.根据权利要求1所述的光源,其中,所述光学元件能够将所述发射辐射源的发射瞄准、收敛地聚焦或发散地聚焦到所述转换器上。5.根据权利要求1所述的光源,其中,所述光学反射器将全向光重定向到期望光路中。6.根据权利要求5所述的光源,其中,所述光学反射器包括提高所述光学反射器的重定向光的能力的反射材料层。7.根据权利要求1所述的光源,其中,所述转换器将来自所述发射辐射源的所述发射转换成非相干辐射的具有不同波长、更窄光谱或更宽光谱的发射。8.根据权利要求7所述的光源,其中,所述转换器由转换材料组成,所述转换材料体积地设置在非转换材料的基板中,以形成均质复合物。...

【专利技术属性】
技术研发人员:E·马林斯基I·马林斯基D·杜德利H·费恩
申请(专利权)人:无限关节内窥镜检查公司
类型:发明
国别省市:美国,US

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1