一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，横向安装在清洗槽槽体内的中下部，包括一底板，底板上开设有均匀分布的匀流孔，底板上表面的前后两端分别设有一根支座条，每根支座条上均开设有两个倒梯形的凹口；位于前端的两个凹口与位于后端的两个凹口前后两两对应，形成两个用于承托晶硅片篮子的支撑座。本实用新型专利技术将原来清洗槽内的支撑框架改进为匀流支撑板，这大大缓解了清洗液对晶硅片的冲击力，避免晶硅片被打坏，降低了产品的不良率，提高了制绒设备的生产效率。本实用新型专利技术的底板位置微调装置可调整匀流支撑板在水平方向上的位置，确保晶硅片篮子准确安放在底板的支撑座上，实现对晶硅片的完美清洗。

A cleaning tank for a crystal silicon cashmere equipment

The utility model discloses a silicon cleaning tank uniform milling equipment flow supporting plate is transversely arranged on the cleaning groove in the lower part of the body, comprising a base plate, the soleplate is provided with a uniform distribution of uniform flow holes on both ends of the front and rear surfaces of base plate are respectively provided with a root bearing, each bearing. Are set up with two trapezoidal notch; and in front of the two notch and located on the rear end of two notches 22 corresponding form two supporting seat for supporting the wafer basket. The utility model improves the supporting frame in the original cleaning tank to the uniform flow supporting plate, which greatly relieves the impact force of the cleaning liquid on the silicon wafer, avoids the damage of the silicon wafer, reduces the defective rate of the product, and improves the production efficiency of the pile making equipment. The position adjustment device of the bottom plate of the utility model can adjust the position of the uniform flow supporting plate in the horizontal direction, ensure that the silicon wafer basket is accurately placed on the supporting seat of the floor, and realizes the perfect cleaning of the silicon wafer.

【技术实现步骤摘要】
一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板
本技术属于光伏太阳能电池
，具体涉及一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板。
技术介绍
晶硅制绒设备作为制作太阳能电池的主要设备，其主要目的是通过化学反应在硅片表面增加受光面积，降低反射率。通常在晶硅制绒设备中会设置有多个清洗槽，分别对晶硅片进行酸洗、碱洗和水洗，以去除晶硅片表面残留的物质。在清洗时，晶硅片都是预先安插在篮子中，然后通过抓手将篮子吊入盛满清洗液的清洗槽内，并安放在槽体中下部的支撑板上，最后通过槽体底部喷涌上来的清洗液对晶硅片进行清洗。但现有的支撑架只是单纯的一个用于承托篮子的框架，晶硅片与向上喷射的清洗液之间没有任何缓冲，因此当清洗液从槽体底部向篮子上的晶硅喷射时，由于冲击力较大，往往会打坏硅片，造成不良品，导致生产效率降低。
技术实现思路
针对上述存在的问题，本技术旨在提供了一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，以减小清洗液向上喷射的冲击力，避免打坏晶硅片，降低产品不良率。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术通过以下技术方案实现：一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，横向安装在所述清洗槽槽体内的中下部，包括一块底板，所述底板上开设有均匀分布的匀流孔，所述底板上表面的前后两端分别设置有一根支座条，每根所述支座条上均开设有两个倒梯形的凹口；位于前端的两个所述凹口与位于后端的两个所述凹口前后两两对应，形成两个用于承托晶硅片篮子的支撑座。进一步的，所述底板的上表面设置有手把，方便工作人员从清洗槽中拿取或在清洗槽中放置所述匀流支撑板。进一步的，所述手把位于任意一根所述支座条的外侧，以避免所述手把影响清洗液对晶硅片的清洗效果。进一步的，所述底板上表面的四个顶角上分别设置有一个底板位置微调装置，以调整所述匀流支撑板在水平方向上的位置。进一步的，所述底板位置微调装置包括一个方型的调节螺丝固定座，所述调节螺丝固定座向外的两个侧面上分别设置有一个调节螺丝，所述调节螺丝的螺纹端设置在所述调节螺丝固定座内，所述调节螺丝螺帽端与所述清洗槽槽壁抵触；工作人员只需微调四个顶角上的八个所述调节螺丝，即可调整所述匀流支撑板在水平方向上的位置，确保晶硅片篮子准确安放在所述底板的支撑座上，实现对晶硅片的完美清洗。本技术的有益效果是：1、本技术将原来清洗槽的支撑框架改进为支撑板，并在支撑板上均匀开设了匀流孔，这就大大缓解了清洗液对晶硅片的冲击力，避免晶硅片在清洗时被由下往上喷射的清洗液打坏，降低了产品的不良率，提高了制绒设备的生产效率。2、本技术在匀流支撑板的一侧安装了把手，这样既方便工作人员从清洗槽中拿取或在清洗槽中放置匀流支撑板，又不影响清洗液对晶硅片的清洗效果。3、本技术在匀流支撑板的四个顶角上分别安装了底板位置微调装置，工作人员只需微调四个顶角上的八个所述调节螺丝，即可调整所述匀流支撑板在水平方向上的位置，确保晶硅片篮子准确安放在所述底板的支撑座上，实现对晶硅片的完美清洗。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本技术的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。附图说明此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：图1为本技术匀流支撑板的立体结构图；图2为本技术匀流支撑板在清洗槽内的俯视图；图3为本技术匀流支撑板在清洗槽内的安装位置示意图。图中附图标号：1、底板；2、支座条；3、匀流孔；4、凹口；5、手把；6、调节螺丝固定座；7、调节螺丝。具体实施方式下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本技术。参见图1-3所示，一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，横向安装在所述清洗槽槽体内的中下部，包括一块底板1，所述底板1上开设有均匀分布的匀流孔3，所述底板1上表面的前后两端分别设置有一根支座条2，每根所述支座条2上均开设有两个倒梯形的凹口4；位于前端的两个所述凹口4与位于后端的两个所述凹口4前后两两对应，形成两个用于承托晶硅片篮子的支撑座。进一步的，所述底板1的上表面设置有手把5，方便工作人员从清洗槽中拿取或在清洗槽中放置所述匀流支撑板。进一步的，所述手把5位于任意一根所述支座条2的外侧，以避免所述手把5影响清洗液对晶硅片的清洗效果。进一步的，所述底板1上表面的四个顶角上分别设置有一个底板位置微调装置，以调整所述匀流支撑板在水平方向上的位置。进一步的，所述底板位置微调装置包括一个方型的调节螺丝固定座6，所述调节螺丝固定座6向外的两个侧面上分别设置有一个调节螺丝7，所述调节螺丝7的螺纹端设置在所述调节螺丝固定座6内，所述调节螺丝7螺帽端与所述清洗槽槽壁抵触；工作人员只需微调四个顶角上的八个所述调节螺丝7，即可调整所述匀流支撑板在水平方向上的位置，确保晶硅片篮子准确安放在所述底板1的支撑座上，实现对晶硅片的完美清洗。以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，横向安装在所述清洗槽槽体内的中下部，其特征在于：包括一块底板（1），所述底板（1）上开设有均匀分布的匀流孔（3），所述底板（1）上表面的前后两端分别设置有一根支座条（2），每根所述支座条（2）上均开设有两个倒梯形的凹口（4）；位于前端的两个所述凹口（4）与位于后端的两个所述凹口（4）前后两两对应，形成两个用于承托晶硅片篮子的支撑座。

【技术特征摘要】
1.一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，横向安装在所述清洗槽槽体内的中下部，其特征在于：包括一块底板（1），所述底板（1）上开设有均匀分布的匀流孔（3），所述底板（1）上表面的前后两端分别设置有一根支座条（2），每根所述支座条（2）上均开设有两个倒梯形的凹口（4）；位于前端的两个所述凹口（4）与位于后端的两个所述凹口（4）前后两两对应，形成两个用于承托晶硅片篮子的支撑座。2.根据权利要求1所述的晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，其特征在于：所述底板（1）的上表面设置有手把（5）。3.根据权利要求2所述的晶硅制绒设...

【专利技术属性】
技术研发人员：程强强，霍召军，
申请(专利权)人：库特勒环保科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32