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一种湿法抛光工艺制造技术

技术编号:17691185 阅读:73 留言:0更新日期:2018-04-14 07:14
本发明专利技术公开了一种湿法抛光工艺,所述湿法抛光工艺包括:将待抛光器件放置在抛光设备的工作平台上进行抛光处理;其中,抛光设备包括抛光磨头和喷淋管,抛光磨头的中部设置一通孔,喷淋管收容于通孔内,抛光处理时,抛光液通过喷淋管从抛光磨头中部喷出。通过上述方式,本发明专利技术能够提高抛光工艺的效率。

A wet polishing process

【技术实现步骤摘要】
一种湿法抛光工艺
本专利技术涉及金属表面处理
,特别是涉及一种湿法抛光工艺。
技术介绍
铝合金因其具有材质轻,强度大,柔性强易于产品成型等特点在航空、航天、汽车、机械制造、船舶及化学工业中已大量应用。在具体应用过程中,不但要求其具有较高的机械性能,还要求有优良的装饰外观和抗腐蚀性能,为提高铝合金表面的使用质量及外观,需要进行抛光处理。抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。抛光主要分为化学抛光和机械抛光,其中,化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑,化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。机械抛光是依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用,除去试样磨面上的极薄一层金属。本申请的专利技术人在长期的研发中发现,机械抛光又分为干抛工艺和湿抛工艺两种,干抛工艺中,设备投资小,抛光产品亮度高,抛光效果有方向性,但是镜面度不高,同时工艺过程中会产生大量粉尘,不易处理。湿抛工艺中,设备投资大,亮度偏暗,抛光产品镜面度好、无方向性,产生的粉尘可以随抛光液流出,方便处理。相较来说,湿抛工艺应用性较强,但是在本文档来自技高网...
一种湿法抛光工艺

【技术保护点】
一种湿法抛光工艺,其特征在于,所述工艺包括:将待抛光器件放置在抛光设备的工作平台上进行抛光处理;其中,所述抛光设备包括抛光磨头和喷淋管,所述抛光磨头的中部设置一通孔,所述喷淋管收容于所述通孔内,抛光处理时,抛光液通过所述喷淋管从所述抛光磨头中部喷出。

【技术特征摘要】
1.一种湿法抛光工艺,其特征在于,所述工艺包括:将待抛光器件放置在抛光设备的工作平台上进行抛光处理;其中,所述抛光设备包括抛光磨头和喷淋管,所述抛光磨头的中部设置一通孔,所述喷淋管收容于所述通孔内,抛光处理时,抛光液通过所述喷淋管从所述抛光磨头中部喷出。2.根据权利要求1所述的抛光工艺,其特征在于,所述抛光工艺包括粗抛工序,其中,所述粗抛工序中,所述抛光液的成分为水。3.根据权利要求1所述的抛光工艺,其特征在于,所述抛光工艺包括精抛工序,其中,所述精抛工序中,所述抛光液的液相成分包括草酸、醋酸丙酮、双氧水中的一种或多种。4.根据权利要求3所述的抛光工艺,其特征在于,所述抛光设备还包括检测装置和自动加料装置,所述检测装置和自动加料装置用以维持所述抛光液的pH范围为4~6。5.根据权利要求3所述的抛光工艺,其特征在于,所述抛光液还包括固相成分,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:缪彬彬
申请(专利权)人:缪彬彬
类型:发明
国别省市:江苏,32

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