金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器技术

本发明专利技术公开了一种金属栅偏光片的制作方法，其包括步骤：在基片上依序形成层叠的金属膜层和待压印膜层；对所述待压印膜层进行压印处理；对被压印处理后的待压印膜层和所述金属膜层进行刻蚀，以在所述基片上形成多个金属栅条；在所述金属栅条和所述基片上形成透明介质层；在所述透明介质层上形成金属平坦层；对所述金属平坦层进行刻蚀，以使所述金属栅条上的透明介质层暴露。本发明专利技术还公开一种金属栅偏光片和液晶显示器。本发明专利技术的金属栅偏光片及其制作方法，能够达到减小金属栅线周期且降低工艺难度的目的。此外，具有该金属栅偏光片的液晶显示器的穿透率被大幅度提升，从而可以大幅提升背光的利用率。

【技术实现步骤摘要】
金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器
本专利技术属于液晶显示
，具体地讲，涉及一种金属栅偏光片及其制作方法、液晶显示器。
技术介绍
随着光电与半导体技术的演进，也带动了平板显示器(FlatPanelDisplay)的蓬勃发展，而在诸多平板显示器中，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)因具有高空间利用效率、低消耗功率、无辐射以及低电磁干扰等诸多优越特性，已成为市场的主流。目前，液晶显示器中使用的偏光片一般采用吸收模式，背光模块出射的背光通过第一道传统的吸收型偏光片后，背光的透过率只有43％左右，这将导致液晶显示器整体穿透率较低。亚波长金属线栅(Nanowire-gridpolarizer)偏光片能够选择性透过TM偏振光分量(偏振方向垂直于线栅方向，即p光)，而反射掉TE偏振光分量(偏振方向平行于线栅方向，即s光)，基于这样的工作原理，通过多次反射光循环利用，可大幅提升背光的利用率，从而能大幅度提升LCD的穿透率，并保持较高对比度。然而，金属栅线周期越小，光透过偏振片后偏振程度越高，但越小的金属栅线周期，刻蚀、转印工艺难度越大。专利
技术实现思路
为了解决上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：在基片上依序形成层叠的金属膜层和待压印膜层；对所述待压印膜层进行压印处理；对被压印处理后的待压印膜层和所述金属膜层进行刻蚀，以在所述基片上形成多个金属栅条；在所述金属栅条和所述基片上形成透明介质层；在所述透明介质层上形成金属平坦层；对所述金属平坦层进行刻蚀，以使所述金属栅条上的透明介质层暴露。

【技术特征摘要】
1.一种金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：在基片上依序形成层叠的金属膜层和待压印膜层；对所述待压印膜层进行压印处理；对被压印处理后的待压印膜层和所述金属膜层进行刻蚀，以在所述基片上形成多个金属栅条；在所述金属栅条和所述基片上形成透明介质层；在所述透明介质层上形成金属平坦层；对所述金属平坦层进行刻蚀，以使所述金属栅条上的透明介质层暴露。2.根据权利要求1所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，对所述待压印膜层进行压印处理的方法包括：采用压印模板对所述待压印膜层进行压印处理，以形成多个压印柱和位于每相邻两个压印柱之间的压印层。3.根据权利要求2所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，对被压印处理后的待压印膜层和所述金属膜层进行刻蚀的方法包括：利用干法刻蚀的方式将所述压印柱、所述压印层以及所述压印层下的金属膜层刻蚀去除，以在所述基片上形成多个金属栅条。4.根据权利要求3所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，在所述金属栅条和所述基片上形成透明介质层的方法包括：采用化学气相法或者原子沉积法沉积形成覆盖所述金属栅条及每相邻两个金属栅条之间的基片的介质透明层。5.根据权利要求4所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，在所述透明介质层上形成金属平坦层的方法包括：采用溅射沉积的方法在所述金属栅条上的透明介质层上以及每相邻两个金属栅条之间的基片上的透明介质层上沉积形成金属平坦层，其中，所述金属栅条上的透明介质层上的金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢马才，姚江波，覃事建，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44