一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法技术

一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法，属于光学镀膜材料技术领域。氟化镱和氟化钙的重量配比：氟化镱：85～99.5，氟化钙：0.5～15，将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，熔融步骤；将烧结后的烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物。本发明专利技术优点是在氟化镱材料中，引入一定量的氟化钙，由于氟化镱和氟化钙同时蒸发并沉积在光学表面，因氟化钙和氟化镱晶形的差异，阻止了原来单一氟化镱沉积过程中定向生长的情况，这样，会形成均匀的内应力小的光学膜层，由于内应力的减小，在镀多层膜时，保证多层膜的稳定，解决多层膜的膜裂问题。

A low refractive index infrared optical coating material and preparation method

A low refractive index infrared optical coating material and a preparation method belong to the field of optical coating material. Ytterbium fluoride and calcium fluoride proportion by weight: 85 to 99.5, ytterbium fluoride, calcium fluoride: 0.5 ~ 15, the ytterbium fluoride and calcium fluoride mixture obtained after sintering, the sintering temperature of 700 DEG to 1250 DEG between the melting step; the sintering mixture after sintering at 1260 DEG C for 3~6 hours in the progress of vacuum melting, get the molten mixture of ytterbium fluoride and calcium fluoride. The invention has the advantages of the ytterbium fluoride materials, adding a certain amount of calcium fluoride, calcium fluoride and ytterbium fluoride due to evaporation and deposition on the optical surface, because of the difference of calcium fluoride and ytterbium fluoride crystal, prevent the directional growth of the original single ytterbium fluoride deposition process so that the optical film will form a uniform stress small because, reduce internal stress, in multi-layer plating, ensure stable multilayer films, to solve crack problems.

【技术实现步骤摘要】
一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法
本专利技术涉及一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法，属于光学镀膜材料

技术介绍
在光学镀膜领域，氟化镱是一种常用的低折射率红外光学镀膜材料，由于其红外透过性能好，膜层强度高，常用于镀制锗、硫系红外玻璃的增透膜，在成膜过程中，由于氟化镱在光学原件表面的沉积，也是在光学表面再结晶。由于晶体的生长有一定的方向性，如水在结冰的过程，通常先会朝着特定方向先生长，这样，通常会导致所形成的膜微观上不均匀，这种微观上的不均匀，在镀多层膜时会形成应力，导致膜裂。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足,本专利技术提供一种低折射率红外光学镀膜材料及制备方法。一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；以氟化镱和氟化钙的重量配比：氟化镱：85～99.5，氟化钙：0.5～15，按重量配比进行备料，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物是颗粒，或者是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物。熔融混合物的镀膜步骤；将熔融混合物用于镀膜，镀膜条件：镀膜机直径1100mm，在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。一种低折射率红外光学镀膜材料，由氟化镱和氟化钙组成，氟化镱和氟化钙的重量配比为：氟化镱：85～99.5，氟化钙：0.5～15。红外光学镀膜材料是氟化镱和氟化钙混合物烧结而成，氟化镱和氟化钙混合物的烧结温度是700℃～1250℃之间，氟化镱和氟化钙混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片。红外光学镀膜材料是以氟化镱和氟化钙的熔融混合物，氟化镱和氟化钙的熔融混合物的熔融温度在1260℃以上。本专利技术的优点是在氟化镱材料中，引入一定量的氟化钙，这样，在镀膜材料在光学元件上沉积的过程中，由于氟化镱和氟化钙同时蒸发并沉积在光学表面，因氟化钙和氟化镱晶形的差异，阻止了原来单一氟化镱沉积过程中定向生长的情况，这样，会形成均匀的内应力小的光学膜层，由于内应力的减小，在镀多层膜时，可以保证多层膜的稳定，解决了多层膜的膜裂问题。具体实施方式显然，本领域技术人员基于本专利技术的宗旨所做的许多修改和变化属于本专利技术的保护范围。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。为便于对实施例的理解，下面将结合做进一步的解释说明，且各个实施例并不构成对本专利技术的限定。实施例1：一种低折射率红外光学镀膜材料，红外光学镀膜材料是由氟化镱和氟化钙两种氟化物组成。红外光学镀膜材料重量配比为：氟化镱：85，氟化钙：0.5。一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按照红外光学镀膜材料重量配比为：氟化镱：85，氟化钙：0.5,按重量配比进行备料，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片。实施例2：一种低折射率红外光学镀膜材料，红外光学镀膜材料是由氟化镱和氟化钙两种氟化物组成。红外光学镀膜材料重量配比为：氟化镱：89，氟化钙：12。一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按照红外光学镀膜材料重量配比为：氟化镱：89，氟化钙：12,按重量配比进行备料，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度1250℃，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片。实施例3：一种低折射率红外光学镀膜材料，红外光学镀膜材料是由氟化镱和氟化钙两种氟化物组成。红外光学镀膜材料重量配比为：氟化镱：99.5，氟化钙：15。一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按照红外光学镀膜材料重量配比为：氟化镱：99.5，氟化钙：15,按重量配比进行备料，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度1000℃，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片。实施例4：针对氟化镱材料在红外镀膜技术中出现膜层微观不均匀的问题，本专利技术提供一种低折射率红外光学镀膜材料，红外光学镀膜材料是由氟化镱和添加物氟化钙组成。低折射率红外光学镀膜材料的重量配比：氟化镱85～99.5，添加的氟化钙总量0.5～15。红外光学镀膜材料也可以是两种氟化物的熔融混合物，熔化温度在1260℃以上。红外光学镀膜材料用于镀膜多层增透膜。由于氟化钙的红外透过性能比氟化镱的差，因而，氟化钙的引入量不能太高，否则会影响混合物折射率，通常引入量小于15。实施例5：一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按重量比进行配比，氟化镱99，氟化钙1，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的氟化镱和氟化钙烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物，镀膜步骤；镀膜条件：镀膜机直径1100mm，在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。实施例6：一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按重量比进行配比，氟化镱98，氟化钙2，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的氟化镱和氟化钙烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物，镀膜步骤；镀膜条件：镀膜机直径1100mm，在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。实施例7：一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按重量比进行配比，氟化镱95，氟化钙5，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的氟化镱和氟化钙烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物，镀膜步骤；镀膜条件：镀膜机直径1100mm，在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。实施例8：一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按重量比进行配比，氟化镱97，氟化钙3，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的氟化镱和氟化钙烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物，镀膜步骤；镀膜条件：镀膜机直径1100mm，在镀膜时的蒸发速度为10A°/S，基板玻璃温度200℃。实施例9：一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,含有以下步骤；配比步骤；按重量比进行配比，氟化镱90，氟化钙10，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物可以是颗粒，也可以是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的氟化镱本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,其特征在于含有以下步骤；配比步骤；以氟化镱和氟化钙的重量配比：氟化镱：85～99.5，氟化钙：0.5～15，按重量配比进行备料，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物是颗粒，或者是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物。

【技术特征摘要】
1.一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法,其特征在于含有以下步骤；配比步骤；以氟化镱和氟化钙的重量配比：氟化镱：85～99.5，氟化钙：0.5～15，按重量配比进行备料，烧结步骤；将配比后得到的氟化镱和氟化钙混合物进行烧结，烧结温度700℃～1250℃之间，得到的烧结混合物是颗粒，或者是不同尺寸的片，熔融步骤；将烧结后的烧结混合物在1260℃以上进行真空熔化3～6小时，得到氟化镱和氟化钙的熔融混合物。2.根据权利要求1所述的一种低折射率红外光学镀膜材料的制备方法，其特征在于熔融混合物的镀膜步骤；将熔融混合物用于镀膜，镀膜条件：镀膜机直径1100mm，在镀膜时的蒸发...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦海波，
申请(专利权)人：北京富兴凯永兴光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11