检测光路及用于安装检测光路的安装支架制造技术

本实用新型专利技术涉及一种检测光路及用于安装检测光路的安装支架，该检测光路包括检测通道、光源、反射装置、图像采集处理装置，其中：检测通道被配置为安置待检测的硅片；光源设置在检测通道的侧边，反射装置设置在检测通道与光源之间，反射装置用于将检测通道所安置的硅片所反射出来的光线反射到图像采集处理装置上，硅片所反射出来的光线是硅片对接收到的光源发射的光线反射得到的光线；图像采集处理装置设置在检测通道的侧边，用于将反射装置反射出来的光线成像采集处理。通过设置在检测通道侧边的光源提供用于检测硅片的光线，通过反射装置的设置可以实现将电池片不同的面反射出来的光线反射到图像采集处理装置上，从而实现了同时硅片多方向检测。

【技术实现步骤摘要】
检测光路及用于安装检测光路的安装支架
本技术涉及一种检测光路及用于安装检测光路的安装支架，属于光伏检测设备领域。
技术介绍
在太阳能电池片的生产过程中，需要先将硅棒切割成硅片，然后对硅片清洗，清洗完成后需要对硅片进行检测，一般是将硅片放在输送装置上，检测装置设置在输送装置两侧，逐步对硅片表面的脏污、隐裂、边缘缺陷、翘曲度等情况进行检测。对于硅片检测的时候，传统的检测方式只能检测单个面，这种检测方式检测效率低，检测不全面，因此，需要提供一种检测光路及与之适应的用于安装检测光路的安装支架。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种检测光路，能够同时实现硅片多方向的检测。同时提供一种用于安装检测光路的安装支架，能够适应上述检测光路，且能够实现上述检测光路的调整。根据本技术的第一方面，提供了一种检测光路，该检测光路包括检测通道、光源、反射装置、图像采集处理装置，其中：检测通道被配置为安置待检测的硅片；光源设置在检测通道的侧边，光源被配置为向检测通道所安置的硅片位置发射光线；反射装置设置在检测通道与光源之间，反射装置被配置为将检测通道所安置的硅片所反射出来的光线反射到图像采集处理装置上，硅片所反射出来的光线是硅片对接收到的光源发射的光线反射得到的光线；图像采集处理装置设置在检测通道的侧边，图像采集处理装置被配置为将反射装置反射出来的光线成像采集处理。通过设置在检测通道侧边的光源提供用于检测硅片的光线，通过反射装置的设置可以实现将电池片不同的面反射出来的光线反射到图像采集处理装置上，从而实现了同时硅片多方向检测。进一步地，光源包括安装在检测通道的上方的上光源、安装在检测通道下方的下光源及安装在检测通道侧边的侧光源。进一步地，反射装置包括上反射装置与下反射装置，上反射装置设置在上光源与检测通道之间，下反射装置设置在下光源与检测通道之间。进一步地，上反射装置包括第一直角三棱镜，下反射装置包括第二直角三棱镜。进一步地，第一直角三棱镜的第一直角面平行于检测通道所在的平面，第一直角三棱镜的第二直角面靠近图像采集处理装置设置；第二直角三棱镜的第一直角面平行于检测通道所在的平面，第二直角三棱镜的第二直角面靠近图像采集处理装置设置。进一步地，图像采集处理装置为相机。根据本技术的第二方面，还提供了一种用于安装检测光路的安装支架，该安装支架包括上述的检测光路以及用于安装检测光路中反射装置的支撑架。通过支撑架的设置不仅实现了适应上述检测光路，且实现了上述检测光路的调整。所述安装支架包括如权利要求1所述的检测光路以及用于安装所述检测光路中反射装置的支撑架进一步地，检测光路包括反射装置，支撑架设有豁口，上反射装置设置在豁口上侧，下反射装置设置在豁口下侧。进一步地，检测光路包括：光源、反射装置、图像采集处理装置，支撑架上还包括用于安装上光源的上光源安装座、用于安装下光源的下光源安装座、用于安装侧光源的侧光源安装座和和用于安装图像采集处理装置的相机座。进一步地，安装支架还包括支撑杆以及横移装置，支撑架通过锁紧装置安装在支撑杆上，支撑杆相对于支撑架的高度可调，支撑杆安装在横移装置上，横移装置被配置为带动支撑杆移动。通过横移装置的设置实现了带动检测光路的移动，能够检测不同大小的硅片。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。图1为本技术提供的一种检测光路示意图；图2为本技术提供的一种用于安装检测光路的安装支架装配示意图；图3为图2的俯视图；图4为图3的A-A剖视图的B向视图。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。在太阳能电池片的生产过程中，需要先将硅棒切割成硅片，然后对硅片清洗，清洗完成后需要对硅片进行检测，一般是将硅片放在输送装置上，检测装置设置在输送装置两侧，逐步对硅片表面的脏污、隐裂、边缘缺陷、翘曲度等情况进行检测。对于硅片检测的时候，传统的检测方式只能检测单个面，这种检测方式检测效率低，检测不全面，因此，需要提供一种检测光路及与之适应的用于安装检测光路的安装支架。以下结合图1、图2、图3、图4对检测光路及用于安装检测光路的安装支架进行说明。根据申请的第一方面，公开了一种检测光路，该检测光路包括检测通道1、光源2、反射装置3、图像采集处理装置4，其中：检测通道1被配置为安置待检测的硅片5；光源2设置在检测通道1的侧边，光源2被配置为向检测通道1所安置的硅片5位置发射光线；反射装置3设置在检测通道1与光源2之间，反射装置3被配置为将检测通道1所安置的硅片5所反射出来的光线反射到图像采集处理装置4上，硅片5所反射出来的光线是硅片5对接收到的光源2发射的光线反射得到的光线；图像采集处理装置4设置在检测通道1的侧边，图像采集处理装置4被配置为将反射装置3反射出来的光线成像采集处理。通过设置在检测通道1侧边的光源2提供用于检测硅片5的光线，通过反射装置3的设置可以实现将电池片不同的面反射出来的光线反射到图像采集处理装置4上，从而实现了同时硅片5多方向检测。光源2包括安装在检测通道1的上方的上光源2a、安装在检测通道1下方的下光源2b及安装在检测通道1侧边的侧光源2c。通过上光源2a向检测通道1上硅片5的上表面提供检测光线，通过下光源2b向检测通道1的下表面提供检测光线。反射装置3包括上反射装置3a与下反射装置3b，上反射装置3a设置在上光源2a与检测通道1之间，下反射装置3b设置在下光源2b与检测通道1之间。上反射装置3a用于将检测通道1上硅片5上侧反射出来的光线反射到图像采集处理装置4上，下反射装置3b用于将检测通道1上硅片5下侧反射出来的光线反射到图像采集处理装置4上。图像采集处理装置4设置在检测通道1的侧边，侧光源2c照射在硅片5的侧边可直接反射到图像采集处理装置4上。上反射装置3a包括第一直角三棱镜，下反射装置3b包括第二直角三棱镜。在其中一个实施例中，上反射装置采用第一直角三棱镜，下反射装置采用第二直角三棱镜。第一直角三棱镜的第一直角面平行于检测通道1所在的平面，第一直角三棱镜的第二直角面靠近图像采集处理装置4设置；第二直角三棱镜的第一直角面平行于检测通道1所在的平面，第二直角三棱镜的第二直角面靠近图像采集处理装置4设置。第一直角三棱镜的顶端低于图像采集处理装置4的顶端，第二直角三棱镜的底端高于图像采集处理装置4的底端。图像采集处理装置4为相机。综上所述，本申请实施例提供的检测光路，通过设置在检测通道侧边的光源提供用于检测硅片的光线，通过反射装置的设置可以实现将电池片不同的面反射出来的光线反射到图像采集处理装置上，从而实现了同时硅片多方向检测。根据本申请的第二方面，还公开了一种用于安装检测光路的安装支架，该安装支架用于实现检测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测光路，其特征在于，所述检测光路包括检测通道、光源、反射装置、图像采集处理装置，其中：所述检测通道被配置为安置待检测的硅片；所述光源设置在所述检测通道的侧边，所述光源被配置为向所述检测通道所安置的硅片位置发射光线；所述反射装置设置在所述检测通道与所述光源之间，所述反射装置被配置为将所述检测通道所安置的硅片所反射出来的光线反射到所述图像采集处理装置上，所述硅片所反射出来的光线是所述硅片对接收到的所述光源发射的光线反射得到的光线；所述图像采集处理装置设置在所述检测通道的侧边，所述图像采集处理装置被配置为将所述反射装置反射出来的光线成像采集处理图像采集处理装置。

【技术特征摘要】
1.一种检测光路，其特征在于，所述检测光路包括检测通道、光源、反射装置、图像采集处理装置，其中：所述检测通道被配置为安置待检测的硅片；所述光源设置在所述检测通道的侧边，所述光源被配置为向所述检测通道所安置的硅片位置发射光线；所述反射装置设置在所述检测通道与所述光源之间，所述反射装置被配置为将所述检测通道所安置的硅片所反射出来的光线反射到所述图像采集处理装置上，所述硅片所反射出来的光线是所述硅片对接收到的所述光源发射的光线反射得到的光线；所述图像采集处理装置设置在所述检测通道的侧边，所述图像采集处理装置被配置为将所述反射装置反射出来的光线成像采集处理图像采集处理装置。2.根据权利要求1所述的检测光路，其特征在于，所述光源包括安装在所述检测通道的上方的上光源、安装在所述检测通道下方的下光源及安装在所述检测通道侧边的侧光源。3.根据权利要求2所述的检测光路，其特征在于，所述反射装置包括上反射装置与下反射装置，所述上反射装置设置在所述上光源与所述检测通道之间，所述下反射装置设置在所述下光源与所述检测通道之间。4.根据权利要求3所述的检测光路，其特征在于，所述上反射装置包括第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文，韦孟锑，丁治祥，郑余，王美，黄浩，桑俞，
申请(专利权)人：无锡奥特维科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32