增透复合板及电子触控产品制造技术

本实用新型专利技术涉及一种增透复合板。一种增透复合板，包括透明基板，透明基板具有相对的第一表面及第二表面，第一表面及第二表面均形成有增透膜，增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，具有蓝宝石结构的氧化铝层位于中间层远离透明基板的一侧。上述增透复合板通过双面四层膜系设计，使增透复合板在420nm～680nm的平均透射率达98％以上，增透效果极佳；同时，增透复合板的硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。

Antireflective composite plate and electronic touch product

【技术实现步骤摘要】
增透复合板及电子触控产品
本技术涉及一种增透复合板及电子触控产品。
技术介绍
随着电子触控产品的普遍使用，手机、平板电脑、笔记本电脑等电子触控产品已经成为人类生活的一部分。但电子触控产品在使用过程中屏幕极易出现划痕，不仅影响产品的美观，严重的甚至影响使用。当前主要采用在电子触控产品的屏幕表面贴附功能性保护膜的方法来避免屏幕被划伤，保证触控屏幕清晰显示并延长产品使用寿命。普通的功能性保护膜虽然可以达到增透效果，但是增透效果有待提升，同时普通的功能性保护膜硬度一般在6H～7H，很难起到真正意义上的防划伤作用。钢化玻璃保护膜虽然硬度可以达到要求，但是增透效果较差，而且厚度较厚。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种兼具加硬和增透效果的增透复合板。此外，还提供一种电子触控产品。一种增透复合板，包括透明基板，透明基板具有相对的第一表面及第二表面，第一表面及第二表面均形成有增透膜，增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，具有蓝宝石结构的氧化铝层位于中间层远离透明基板的一侧。上述增透复合板在透明基板的第一表面及第二表面均形成有增透膜，增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，通过双面四层膜系设计，使增透复合板在420nm～680nm的平均透射率达98％以上，增透效果极佳；同时，增透复合板的第一表面及第二表面均镀有具有蓝宝石结构的氧化铝层，硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。在其中一个实施例中，二氧化硅层的厚度为167nm～177nm。在其中一个实施例中，二氧化锆层的厚度为59nm～69nm。在其中一个实施例中，中间层的厚度为46nm～56nm。在其中一个实施例中，具有蓝宝石结构的氧化铝层的厚度为72nm～82nm。在其中一个实施例中，透明基板为塑料基板或玻璃基板。在其中一个实施例中，透明基板的厚度为1mm。一种电子触控产品，包括屏幕盖板，屏幕盖板为上述增透复合板。附图说明图1为一实施方式的增透复合板的结构示意图。具体实施方式下面主要结合具体实施例及附图对增透复合板及电子触控产品作进一步详细的说明。请参阅图1，一实施方式的增透复合板100，包括透明基板110及增透膜120，增透膜120形成于透明基板110的表面。透明基板110为增透复合板100的主体。透明基板110具有相对的第一表面111及第二表面112。在其中一个实施例中，透明基板110为塑料基板或玻璃基板。优选的，玻璃基板在420nm～680nm的平均透射率达91.8％以上。在其中一个实施例中，透明基板110的厚度为1mm。增透膜120包括依次层叠的二氧化硅层121、二氧化锆层122、中间层123及具有蓝宝石结构的氧化铝层124。在图示的实施方式中，第一表面111及第二表面112均形成有增透膜120，第一表面111及第二表面112上的增透膜120中的具有蓝宝石结构的氧化铝层124均位于中间层123远离透明基板110的一侧。以下以层叠于第一表面111的增透膜120为例对增透膜120的结构进行说明。二氧化硅层121层叠于透明基板110的第一表面111。在其中一个实施例中，二氧化硅层121的厚度为167nm～177nm。优选的，二氧化硅层121的厚度为172nm。二氧化锆层122层叠于二氧化硅层121的表面。在其中一个实施例中，二氧化锆层122的厚度为59nm～69nm。优选的，二氧化锆层122的厚度为64nm。中间层123层叠于二氧化锆层122的表面。在其中一个实施例中，中间层123为二氧化钛层或五氧化二铌层。在其中一个实施例中，中间层123的厚度为46nm～56nm。优选的，中间层123的厚度为51nm。具有蓝宝石结构的氧化铝层124层叠于中间层123的表面。在其中一个实施例中，具有蓝宝石结构的氧化铝层124的厚度为72nm～82nm。优选的，具有蓝宝石结构的氧化铝层124的厚度为77nm。上述增透复合板100在透明基板110的第一表面111及第二表面112均形成有增透膜120，增透膜120包括依次层叠的二氧化硅层121、二氧化锆层122、中间层123及具有蓝宝石结构的氧化铝层124，通过双面四层膜系设计，使增透复合板在420nm～680nm的平均透射率达98％以上，增透效果极佳；同时，增透复合板100的第一表面111及第二表面112均镀有具有蓝宝石结构的氧化铝层124，硬度达9H～10H，既能防止电子触控产品的屏幕表面被划伤，又能避免增透复合板在储存和运输过程中被划伤。因此，上述增透复合板100兼具增透和加硬效果，能够满足市场的需求。上述增透复合板100的制备方法，包括以下步骤：步骤S210，将透明基板100清洗后进行干燥。在其中一个实施例中，清洗的方式为超声。在其中一个实施例中，干燥的方式为烘干。步骤S220，在透明基板100的第一表面111沉积二氧化硅层121。在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。二氧化硅层121的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化硅。优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为10sccm～20sccm。优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为3×3。优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为10mA，预蒸发时间为1min～2min。优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为30mA。步骤S230，在第一表面111上的二氧化硅层121表面沉积二氧化锆层122。在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。二氧化锆层122的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化锆。优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.0×10-2Pa。优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室衬底温度为100℃～150℃。优选的，电子束蒸发镀膜机的氧气流量为5sccm～15sccm。优选的，电子束蒸发镀膜机的样品架转速为8rpm～15rpm。优选的，电子束蒸发镀膜机的电子束斑的大小为1×1。优选的，电子束蒸发镀膜机的预蒸发电子束电流为15mA，预蒸发时间为1min～2min。优选的，电子束蒸发镀膜机的蒸发电子束电流为50mA。步骤S240，在第一表面111上的二氧化锆层122表面沉积中间层123。在其中一个实施例中，沉积的方式为电子束蒸镀。在其中一个实施例中，沉积的设备为电子束蒸发镀膜机。中间层123的厚度由电子束蒸发镀膜机自带的膜厚仪控制，到达预定厚度后会自动停止工作。优选的，电子束蒸发镀膜机的靶材为二氧化钛或五氧化二铌。优选的，电子束蒸发镀膜机的真空室的压力<1.本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种增透复合板，其特征在于，所述增透复合板包括透明基板，所述透明基板具有相对的第一表面及第二表面，所述第一表面及所述第二表面均形成有增透膜，所述增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，所述中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，所述具有蓝宝石结构的氧化铝层位于所述中间层远离所述透明基板的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种增透复合板，其特征在于，所述增透复合板包括透明基板，所述透明基板具有相对的第一表面及第二表面，所述第一表面及所述第二表面均形成有增透膜，所述增透膜包括依次层叠的二氧化硅层、二氧化锆层、中间层及具有蓝宝石结构的氧化铝层，所述中间层为二氧化钛层或五氧化二铌层，所述具有蓝宝石结构的氧化铝层位于所述中间层远离所述透明基板的一侧。2.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为167nm～177nm。3.根据权利要求1所述的增透复合板，其特征在于，所述二氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，周慧蓉，魏先志，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36