【技术实现步骤摘要】
一种用于CVD设备的过滤装置
本技术属于半导体CVD
,特别涉及一种用于CVD设备的过滤装置。
技术介绍
半导体CVD(化学气相沉积)工艺中会产生很多粉尘,这些粉尘会对尾气端的真空系统产生污染和堵塞,所以在CVD设备的反应室出口端需要增加颗粒过滤器,把产生的粉尘过滤干净。目前的颗粒过滤器是采用传统的纸质滤芯过滤装置,传统的纸质过滤装置只有粗滤和精馏两级滤筒,这种过滤器使用一段时间后就会发生堵塞,导致过滤器的使用周期缩短,需要经常更换,否则会导致反应室真空度失控,或者过压,影响机台的稼动率及稳定性。且每次更换滤芯也会造成成本上升。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种改进的用于CVD设备的过滤装置。为解决以上技术问题,本技术采用如下技术方案:一种用于CVD设备的过滤装置,所述CVD设备具有反应室,所述过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵,所述进气管的一端与所述反应室相连,所述出气管的一端与所述过滤器单元的出气口相连、另一端与所述真空泵相连,所述过滤装置还包括具有内腔的沉积桶,所述沉积桶的进气口与所述进气管的另一端相连,所述沉积桶的出气口与所述过滤器单元的进气口相连,所述沉积桶内固定设置有水冷盘管。进一步地,所述沉积桶的进气口设置在所述沉积桶的顶部,所述沉积桶的出气口设置在所述沉积桶的侧部。进一步地,所述沉积桶的底部设置有排尘孔。优选地,所述沉积桶为不锈钢桶。优选地,所述水冷盘管为螺旋盘管,其在所述沉积桶内沿上下方向延伸设置。根据本技术的一些优选实施方案,所述过滤器单元包括串联连接的粗过滤器和精过滤器,所述粗过滤器使 ...
【技术保护点】
一种用于CVD设备的过滤装置,所述CVD设备具有反应室,所述过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵,所述进气管的一端与所述反应室相连,所述出气管的一端与所述过滤器单元的出气口相连、另一端与所述真空泵相连,其特征在于:所述过滤装置还包括具有内腔的沉积桶,所述沉积桶的进气口与所述进气管的另一端相连,所述沉积桶的出气口与所述过滤器单元的进气口相连,所述沉积桶内固定设置有水冷盘管。
【技术特征摘要】
1.一种用于CVD设备的过滤装置,所述CVD设备具有反应室,所述过滤装置包括进气管、过滤器单元、出气管和真空泵,所述进气管的一端与所述反应室相连,所述出气管的一端与所述过滤器单元的出气口相连、另一端与所述真空泵相连,其特征在于:所述过滤装置还包括具有内腔的沉积桶,所述沉积桶的进气口与所述进气管的另一端相连,所述沉积桶的出气口与所述过滤器单元的进气口相连,所述沉积桶内固定设置有水冷盘管。2.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置,其特征在于:所述沉积桶的进气口设置在所述沉积桶的顶部,所述沉积桶的出气口设置在所述沉积桶的侧部。3.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置,其特征在于:所述沉积桶的底部设置有排尘孔。4.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置,其特征在于:所述沉积桶为不锈钢桶。5.根据权利要求1所述的用于CVD设备的过滤装置,其特征在于:所述水冷盘管为螺旋盘管,其在所述沉积桶内沿上下方向延伸设置。6.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:林俊贤,
申请(专利权)人:苏州汉德曼精密制造有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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