激光腔室制造技术

抑制激光的性能恶化。激光腔室具有：第1放电电极；第2放电电极；风扇，其使激光气体向第1放电电极和第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在第2放电电极的激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在第2放电电极的激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在第2绝缘部件的激光气体流的下游侧，在第2金属缓冲部件和第2绝缘部件的边界部分中，第2金属缓冲部件的放电空间侧的第1表面相比于第2绝缘部件的放电空间侧的第2表面，位于与放电空间相反的一侧，第2金属缓冲部件的第2绝缘部件侧的第1侧面和第1表面所形成的第1角部可以与第2绝缘部件的第2金属缓冲部件侧的第2侧面接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光腔室
本公开涉及激光腔室。
技术介绍
随着半导体集成电路的细微化、高集成化，要求提高半导体曝光装置的分辨率。以下将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。因此，从曝光用光源输出的光的短波长化得到发展。在曝光用光源中代替以往的水银灯而使用了气体激光装置。当前，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的KrF准分子激光装置以及输出波长为193nm的紫外线的ArF准分子激光装置。作为当前的曝光技术，如下的液浸曝光已经实用化：利用液体填满曝光装置侧的投影透镜和晶片之间的间隙，通过改变该间隙的折射率而使曝光用光源的表现波长变短。在使用ArF准分子激光装置作为曝光用光源来进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称作ArF液浸曝光。ArF液浸曝光也被称作ArF浸液光刻。KrF、ArF准分子激光装置的自然振荡中的光谱线宽大约宽至350～400pm，因此，通过曝光装置侧的投影透镜在晶片上缩小投影的激光(紫外线光)产生色像差，分辨率降低。因此，需要使从气体激光装置输出的激光的光谱线宽窄带化至能够无视色像差的程度。光谱线宽也被称作光谱宽度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内设置具有窄带元件的窄带模块(LineNarrowingModule：LNM)，通过该窄带模块实现光谱宽度的窄带化。另外，窄带元件可以是标准具、光栅等。这样，将使光谱宽度窄带化后的激光装置称作窄带激光装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2006-229137号专利文献2：日本特开2006-148016号专利文献3：美国专利6914919号专利文献4：日本特表2005-502210号专利文献5：美国专利6639929号专利文献6：日本特开2003-60270号专利文献7：日本特开2007-208183号
技术实现思路
本公开的1个方面的激光腔室是放电激励式气体激光装置的激光腔室，可以是，其具有：第1放电电极，其配置在所述激光腔室内；第2放电电极，其在所述激光腔室内与所述第1放电电极对置地配置；风扇，其使激光气体向第1放电电极和第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在第2放电电极的激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在第2放电电极的激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在第2绝缘部件的激光气体流的下游侧，在第2金属缓冲部件和第2绝缘部件的边界部分中，第2金属缓冲部件的放电空间侧的第1表面相比于第2绝缘部件的放电空间侧的第2表面，位于与放电空间相反的一侧，第2金属缓冲部件的第2绝缘部件侧的第1侧面和所述第1表面所形成的第1角部与第2绝缘部件的第2金属缓冲部件侧的第2侧面接触。本公开的另一方面的激光腔室是放电激励式气体激光装置的激光腔室，可以是，其具有：第1放电电极，其配置在激光腔室内；第2放电电极，其在激光腔室内与第1放电电极对置地配置；风扇，其使激光气体向第1放电电极和第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在第2放电电极的激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在第2放电电极的激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在第2绝缘部件的激光气体流的下游侧，第1角部与第2角部接触，其中，该第1角部是第2金属缓冲部件的放电空间侧的第1表面和第2绝缘部件侧的第1侧面所形成的角部，该第2角部是第2绝缘部件的放电空间侧的第2表面和第2金属缓冲部件侧的第2侧面所形成的角部，第1表面和所述第2表面位于大致同一平面内，第1角部的角度和第2角部的角度的合计小于180°。本公开的另一方面的激光腔室是放电激励式气体激光装置的激光腔室，可以是，其具有：第1放电电极，其配置在所述激光腔室内；第2放电电极，其在所述激光腔室内与所述第1放电电极对置地配置；风扇，其使激光气体向所述第1放电电极和所述第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在所述第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在所述第2绝缘部件的所述激光气体流的下游侧，第2金属缓冲部件和第2绝缘部件的边界部分与第2放电电极之间的距离在第2放电电极的长度方向范围内变化。附图说明下面参照附图，仅以本公开的若干实施方式为例进行说明。图1是用于对比较例的气体激光装置进行说明的图。图2是从Z轴方向观察图1所示的激光腔室的图。图3是用于对比较例的激光腔室的课题进行说明的图。图4是是用于对第1实施方式的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图5是用于对第1实施方式的变形例1的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图6是用于对第1实施方式的变形例2的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图7是用于对第2实施方式的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图8是用于对第2实施方式的变形例1的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图9是用于对第2实施方式的变形例2的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图10是用于对第3实施方式的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图11是用于对第3实施方式的变形例1的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图12是用于对第3实施方式的变形例2的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图13是用于对第4实施方式的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图14是从Y轴方向观察图13所示的第2金属缓冲部件、第2绝缘部件和第2放电电极时的概略图。图15是用于对第4实施方式的变形例1的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。图16是从Y轴方向观察图15所示的第2金属缓冲部件、第2绝缘部件和第2放电电极时的概略图。图17是用于对第4实施方式的变形例2的激光腔室中包含的第2金属缓冲部件和第2绝缘部件进行说明的图。具体实施方式～内容～1.用语的说明2.课题2.1比较例的结构2.2比较例的动作2.3课题3.第1实施方式3.1结构3.2动作和作用效果3.3第1实施方式的变形例4.第2实施方式4.1结构、动作和作用效果4.2第2实施方式的变形例5.第3实施方式5.1结构、动作和作用效果5.2第3实施方式的变形例6.第4实施方式6.1结构6.2动作和作用效果6.3第4实施方式的变形例7.其他以下，参照附图详细说明本公开的实施方式。以下所说明的实施方式示出本公开的若干例子，但不对本公开的内容进行限定。此外，各实施方式中说明的全部结构和动作作为本公开的构成和动作并不一定是必须的。另外，对相同的构成要素标注相同的参照标号，省略重复的说明。[1.用语的说明]“光路轴”是沿着激光的行进方向通过激光的光束截面的中心的轴。“光路”是激光通过的路径。光路可以包含光路轴。“放电空间”是位于一对放电电极之间，产生用于对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种放电激励式气体激光装置的激光腔室，其具有：第1放电电极，其配置在所述激光腔室内；第2放电电极，其在所述激光腔室内与所述第1放电电极对置地配置；风扇，其使激光气体向所述第1放电电极和所述第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在所述第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在所述第2绝缘部件的所述激光气体流的下游侧，在所述第2金属缓冲部件和所述第2绝缘部件的边界部分中，所述第2金属缓冲部件的所述放电空间侧的第1表面相比于所述第2绝缘部件的所述放电空间侧的第2表面，位于与所述放电空间相反的一侧，所述第2金属缓冲部件的所述第2绝缘部件侧的第1侧面和所述第1表面所形成的第1角部与所述第2绝缘部件的所述第2金属缓冲部件侧的第2侧面接触。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种放电激励式气体激光装置的激光腔室，其具有：第1放电电极，其配置在所述激光腔室内；第2放电电极，其在所述激光腔室内与所述第1放电电极对置地配置；风扇，其使激光气体向所述第1放电电极和所述第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在所述第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在所述第2绝缘部件的所述激光气体流的下游侧，在所述第2金属缓冲部件和所述第2绝缘部件的边界部分中，所述第2金属缓冲部件的所述放电空间侧的第1表面相比于所述第2绝缘部件的所述放电空间侧的第2表面，位于与所述放电空间相反的一侧，所述第2金属缓冲部件的所述第2绝缘部件侧的第1侧面和所述第1表面所形成的第1角部与所述第2绝缘部件的所述第2金属缓冲部件侧的第2侧面接触。2.根据权利要求1所述的激光腔室，其中，所述第1表面和所述第2表面随着从所述激光气体的上游侧去往下游侧而朝向与所述放电空间相反的一侧倾斜。3.根据权利要求2所述的激光腔室，其中，所述第2表面和所述第2侧面所成的第2角部的角度与所述第1角部的角度的合计小于180°。4.一种放电激励式气体激光装置的激光腔室，其具有：第1放电电极，其配置在所述激光腔室内；第2放电电极，其在所述激光腔室内与所述第1放电电极对置地配置；风扇，其使激光气体向所述第1放电电极和所述第2放电电极之间的放电空间流动；第1绝缘部件，其配置在所述第1放电电极的激光气体流的上游侧和下游侧；第1金属缓冲部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的上游侧；第2绝缘部件，其配置在所述第2放电电极的所述激光气体流的下游侧；以及第2金属缓冲部件，其配置在所述第2绝缘部件的所述激光气体流的下游侧，第1角部与第2角部接触，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：胜海久和，对马弘朗，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP