铝硅酸盐玻璃及其制备方法、电子设备技术

本发明专利技术公开了一种铝硅酸盐玻璃及其制备方法，以及电子设备。其中，对于铝硅酸盐玻璃，以质量百分数计，包含：55％～65％的SiO2，12％～24％的Al2O3，12％～20％的Na2O，0.1％～6％的K2O，2％～7％的MgO，以及0.01％～1.5％的ZrO2。通过对玻璃的组成进行了特殊优化，增强了其抵抗应力松弛的能力。

Aluminosilicate glass and its preparation methods and electronic equipment

The invention discloses an aluminum silicate glass and a preparation method, as well as an electronic device. Among them, for aluminosilicate glass, the mass percentage includes 55% to 65% SiO2, 12% to 24% Al2O3, 12% to 20% Na2O, 0.1% to 6% K2O, 2% to 7% MgO, and 0.01% to 0.01% ZrO2. By a special optimization of the composition of the glass, the ability to resist stress relaxation is enhanced.

【技术实现步骤摘要】
铝硅酸盐玻璃及其制备方法、电子设备
本专利技术涉及铝硅酸盐玻璃，进一步涉及一种铝硅酸盐玻璃，以及该铝硅酸盐玻璃的制备方法，还涉及该铝硅酸盐玻璃材料的玻璃板。
技术介绍
随着智能手机已经普及，各种触摸屏设备也得到了广泛的应用，相应的，对用于这些设备的玻璃也提出了更高的要求，例如更高的表面压应力(CS)与压应力层深度(DOL)值，更好的耐刮擦性能，更低的热膨胀系数以及更好的化学稳定性等。普通的钠钙玻璃不满足上述要求，即使对钠钙玻璃进行化学强化，由于其离子交换能力较低，经强化后其性能仍达不到要求。为了解决上述问题，在保护盖板以及手机贴片的材料方面选择了离子交换能力较强的高铝玻璃，通常其氧化铝含量在12％以上，本身的强度比钠钙玻璃高。对高铝玻璃进行一步法离子交换，采用纯硝酸钾熔盐，离子交换的温度和时间分别为390℃～450℃和2h～5h，强化后表面压应力CS能达到650MPa～800MPa，压应力层深度DOL达到20μm～50μm，满足一般的使用要求，且当跌落高度不太高时，可防止屏幕破裂。但是，以上产品的性能并不满足3D盖板的要求，在3D盖板进入迅猛发展的阶段，这些产品将面临被淘汰的问题。另本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铝硅酸盐玻璃，以质量百分数计，包含：55％～65％的SiO2，12％～24％的Al2O3，12％～20％的Na2O，0.1％～6％的K2O，2％～7％的MgO，以及0.01％～1.5％的ZrO2。

【技术特征摘要】
1.一种铝硅酸盐玻璃，以质量百分数计，包含：55％～65％的SiO2，12％～24％的Al2O3，12％～20％的Na2O，0.1％～6％的K2O，2％～7％的MgO，以及0.01％～1.5％的ZrO2。2.根据权利要求1所述的铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以质量百分数计，还包括大于0％且小于等于7％的P2O5。3.根据权利要求2所述的铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以质量百分数计，所述P2O5的含量为1％～5％。4.根据权利要求1所述的铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以质量百分数计，还包括大于0％且小于等于4％的Li2O。5.根据权利要求4所述的铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以质量百分数计，所述Li2O的含量为0.5％～3％。6.根据权利要求1所述的铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以质量百分数计，还包括大于0％且小于等于4％的ZnO。7.根据权利要求6所述的铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以质量百分数计，所述ZnO的含量为1％～3％。8.一种铝硅酸盐玻璃的制备方法，其特征在于包括：以质量百分数计，称量含55％～65％的SiO2，12％～24％的Al2O3，12％～20％的Na2O，0.1％～6％的K2O，2％～7％的MgO，以及0.01％～1.5％组成的配合料，配合料进行混合后，经高温熔制和浇注成型，再经退火后加工为成形玻璃；对所述成形玻...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴斌，肖子凡，何浩波，邓臻禄，刘攀，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，深圳南玻应用技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44