用于测序应用的聚合物片层制造技术

本申请的实施方案涉及用于测序应用的图案化聚合物片层和制备该聚合物片层的方法。具体来说，制备了柔性微米和纳米图案化的聚合物片层并在测序反应中用作模板表面，并且描述了在纳米孔中形成分离的水凝胶塞的新的无抛光方法。

Polymer lamellae for sequencing applications

The implementation scheme of the present application relates to a patterned polymer layer for sequencing applications and a method for preparing the polymer layer. Specifically, flexible micrometer and nano patterned polymer lamellae were prepared and used as template surfaces in sequencing reactions, and new non polishing methods for forming separate hydrogel plugs in nanopores were described.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测序应用的聚合物片层专利
一般而言，本申请涉及用于多核苷酸测序应用的聚合物片层以及制备该聚合物片层的方法的领域。专利技术背景经聚合物涂覆的基底用于制备和/或分析生物分子。分子分析(如某些核酸测序方法)依赖于将核酸链附着到基底的经聚合物涂覆的表面上。然后，可以通过本领域公知的多种不同的方法来确定所附着的核酸链的序列。流动池用于某些边合成边测试过程中。典型地，这些流动池包括惰性空隙区域内的活性表面。通常使用以下步骤制造流动池的表面：(1)最初将孔蚀刻到均一的基底中；(2)用硅烷和聚合物或水凝胶对孔和空隙区域官能化；(3)通过抛光工艺除去覆盖空隙区域的过量聚合物或水凝胶；(4)然后将单链引物DNA嫁接(graft)到孔中的聚合物或水凝胶，从而为下游测序应用提供流动池表面。在此情况中，在制作工作流程的抛光步骤中浪费了一些聚合物或水凝胶。专利技术概述本文描述的一些实施方案涉及用于核酸测序应用的聚合物片层的制备方法，其包括提供具有表面的基底；将聚合物组合物层沉积到基底的表面上，其中所述聚合物组合物包含用于嫁接寡核苷酸的官能团；将所述聚合物组合物在所述表面上形成聚合物片层；和从所述基底的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备用于测序应用的聚合物片层的方法，其包括：提供具有表面的基底；将聚合物组合物层沉积到所述基底的表面上，其中所述聚合物组合物包含用于嫁接寡核苷酸的官能团；将所述聚合物组合物在所述表面上形成聚合物片层；和从所述基底的所述表面取出所述聚合物片层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.17 US 62/194,0611.制备用于测序应用的聚合物片层的方法，其包括：提供具有表面的基底；将聚合物组合物层沉积到所述基底的表面上，其中所述聚合物组合物包含用于嫁接寡核苷酸的官能团；将所述聚合物组合物在所述表面上形成聚合物片层；和从所述基底的所述表面取出所述聚合物片层。2.权利要求1的方法，其中所述聚合物组合物包含水凝胶。3.权利要求1或2的方法，其中所述聚合物组合物包含聚(N-(5-叠氮乙酰胺基戊基)丙烯酰胺-共-丙烯酰胺)(PAZAM)。4.权利要求1至3中任一项的方法，其中所述形成聚合物片层包括对所述聚合物组合物脱水。5.权利要求4的方法，其中在升高的温度进行所述脱水。6.权利要求5的方法，其中在约60℃发生所述脱水。7.权利要求1-6中任一项的方法，其中所述基底的表面包含微米级或纳米级的图案。8.权利要求7的方法，其中所述微米级或纳米级的图案包含通道、沟槽、柱状体、孔或其组合。9.权利要求7或8的方法，其中将图案化的表面的所述微米级或纳米级图案的印记转移至所述聚合物片层以形成图案化的聚合物片层。10.制备用于测序应用的基底表面的方法，其包括：提供包含第一多个官能团的聚合物片层；将所述聚合物片层与基底的表面接触，其中所述表面包含第二多个官能团；将所述聚合物片层的所述第一多个官能团与所述表面的所述第二多个官能团共价键合。11.权利要求10的方法，其还包括通过将官能化的寡核苷酸与所述聚合物片层的所述第一多个官能团反应来在所述基底表面上嫁接寡核苷酸。12.权利要求10或11的方法，其中所述聚合物片层是图案化的聚合物片层，其包含多个微米级或纳米级图案化的通道、沟槽、柱状体、孔或其组合。13.权利要求10至12中任一项的方法，其中所述聚合物片层包含多个纳米级图案化的柱状体或孔。14.权利要求10至13中任一项的方法，其中所述聚合物片层包含脱水的水凝胶。15.权利要求14的方法，其中在嫁接寡核苷酸前将所述聚合物片层再水合。16.权利要求10至15中任一项的方法，其中所述第一多个官能团选自C8-14环烯烃、8至14元杂环烯烃、C8-14环炔烃、8至14元杂环炔烃、炔基、乙烯基、卤素、叠氮基、氨基、酰氨基、环氧基、缩水甘油基、羧基、腙基、肼基、羟基、四唑基、四嗪基、氧化腈、氮宾、硝酮、氧代-氨基，或硫醇，或其任选取代的变体及其组合。17.权利要求16的方法，其中所述第一多个官能团选自叠氮基、炔基、氨基、羧基、环氧基、缩水甘油基、卤素或四嗪基，或其任选取代的变体及组合。18.权利要求17的方法，其中所述第一多个官能团包含叠氮基。19.权利要求10至18中任一项的方法，其中所述聚合物片层包含聚(N-(5-叠氮乙酰胺基戊基)丙烯酰胺-共-丙烯酰胺)(PAZAM)。20.权利要求10至16中任一项的方法，其中所述第二多个官能团选自乙烯基、丙烯酰基、烯基、炔基、C8-14环烯烃、8至14元杂环烯烃、氮宾、醛、肼基、缩水甘油醚、环氧基、氨基、卡宾、异氰酸盐/酯或马来酰亚胺，或其任选取代的变体及组合。21.权利要求20的方法，其中所述第二多个官能团选自炔基、丙烯酰基、C8-14环烯烃、炔基、缩水甘油醚、环氧基，或其任选取代的变体及组合。22.权利要求21的方法，其中所述第二多个官能团包含任选取代的降冰片烯。23.用于制备用于测序应用的图案化基底表面的方法，其包括：提供具有图案化的表面的基底，其中所述表面包含多个微米级或纳米级图案化的孔；将聚合物组合物沉积在所述图案化的表面上以形成第一聚合物层，其中所述聚合物组合物填充所述微米级或纳米级图案化的孔；和分开所述第一聚合物层，其中在所述图案化表面的所述微米级或纳米级图案化的孔中分离所述聚合物组合物。24.权利要求23的方法，其还包括在分...

【专利技术属性】
技术研发人员：BM温卡特桑，K陈，SM巴纳德，
申请(专利权)人：亿明达股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US