一种硅片用新型抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片用新型抛光装置，包括抛光装置壳体、三相驱动电机、超声波发生器和液体流出管，所述抛光装置壳体上方安装有保护轴承，所述保护轴承上方安装有传动轴，所述传动轴上方安装有所述三相驱动电机，所述三相驱动电机上方设置有抛光清洗槽，所述抛光磨片内部安装有超声波发射探头，所述超声波发射探头下方安装有硅片放置槽，所述硅片放置槽下方连通有减震弹簧，所述抛光装置壳体外侧安装有所述液体流出管，所述抛光装置壳体顶部安装有外部电源插口。有益效果在于：能够在对硅片抛光的同时对其表面进行超声波清洗，能够有效防止在抛光时掉落的小颗粒粘附在抛光磨片上，对硅片造成划痕。

A new type of polishing device for silicon wafer

The utility model discloses a new polishing device with a silicon wafer polishing device, including a shell, a three-phase motor, the ultrasonic generator and the liquid outlet pipe, wherein the upper polishing device shell is provided with the protection of bearings, the bearing protection is installed above the transmission shaft, the transmission shaft is installed above the three-phase motor drive, there are polishing cleaning groove is arranged above the three-phase motor drive, the polishing disc is mounted inside the ultrasonic transmitting probe, the ultrasonic transmitting probe is installed below the wafer placing slot is communicated with the groove is arranged below the damping spring of the silicon, the outside of the polishing device shell are provided with the liquid outlet pipe, the polishing device at the top of the shell equipped with an external power supply socket. The beneficial effect is that can be carried out on the surface of ultrasonic cleaning in wafer polishing at the same time, can effectively prevent the drop in the polishing of small particles adhered on the polishing disc, causing scratches on the silicon wafer.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片用新型抛光装置
本技术涉及硅片抛光设备
，特别是涉及一种硅片用新型抛光装置。
技术介绍
微电子技术正在悄悄走进航空、航天、工业、农业和国防，也正在悄悄进入每一个家庭。小小硅片的巨大“魔力”是我们的前人根本无法想象的。硅片制成的芯片是有名的“神算子”，有着惊人的运算能力。无论多么复杂的数学问题、物理问题和工程问题，也无论计算的工作量有多大，工作人员只要通过计算机键盘把问题告诉它，并下达解题的思路和指令，计算机就能在极短的时间内把答案告诉你。这样，那些人工计算需要花费数年、数十年时间的问题，计算机可能只需要几分钟就可以解决。甚至有些人力无法计算出结果的问题，计算机也能很快告诉你答案。在大型电子计算机的控制下，无人飞机可以自由地在蓝天飞翔；人造卫星、宇宙飞船、航天飞机可以准确升空、飞行、定位，并自动向地面发回各种信息。在电子计算机的指挥下，火炮、导弹可以弹无虚发，准确击中目标，甚至可以准确击中空中快速移动目标，包括敌方正在飞行中的导弹。工业中广泛使用计算机和各种传感技术，可以节省人力，提高自动化程度及加工精度，大大提高劳动生产效率。机器人已在许多工业领域中出现。目前我国使用的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片用新型抛光装置，其特征在于：包括抛光装置壳体（1）、三相驱动电机（4）、超声波发生器（8）和液体流出管（12），所述抛光装置壳体（1）上方安装有保护轴承（2），所述保护轴承（2）上方安装有传动轴（3），所述传动轴（3）上方安装有所述三相驱动电机（4），所述三相驱动电机（4）上方设置有抛光清洗槽（5），所述抛光清洗槽（5）上方安装有抛光磨片（6），所述抛光磨片（6）上方安装有超声传输管（7），所述超声传输管（7）上方连接有所述超声波发生器（8），所述超声波发生器（8）下方安装有超声波发射探头（9），所述超声波发射探头（9）下方安装有硅片放置槽（10），所述硅片放置槽（10）下方连通有减震...

【技术特征摘要】
1.一种硅片用新型抛光装置，其特征在于：包括抛光装置壳体（1）、三相驱动电机（4）、超声波发生器（8）和液体流出管（12），所述抛光装置壳体（1）上方安装有保护轴承（2），所述保护轴承（2）上方安装有传动轴（3），所述传动轴（3）上方安装有所述三相驱动电机（4），所述三相驱动电机（4）上方设置有抛光清洗槽（5），所述抛光清洗槽（5）上方安装有抛光磨片（6），所述抛光磨片（6）上方安装有超声传输管（7），所述超声传输管（7）上方连接有所述超声波发生器（8），所述超声波发生器（8）下方安装有超声波发射探头（9），所述超声波发射探头（9）下方安装有硅片放置槽（10），所述硅片放置槽（10）下方连通有减震弹簧（11），所述抛光装置壳体（1）外侧安装有所述液体流出管（12），所述抛光装置壳体（1）顶部安装有外部电源插口（13）。2.根据权利要求1所述的一种硅片用新型抛光装置，其特征在于：所述抛光装置壳体（1）内部设置有所述保护轴承（2），...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪伟华，
申请(专利权)人：浙江羿阳太阳能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33