CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种参考探测装置，具有供所述射线通过的入射窗，所述参考探测装置还包括：探测组件，所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上；所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置；和/或，根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度；其中，所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿，以限定所述投影区域和/或所述预设区域。这样，能够跟踪射线源的焦点位置以及检测射线源的射线强度，进而对CT系统的成像进行修正，避免射线输出波动导致图像成像出现伪影，提高图像成像质量。本发明专利技术还提供一种CT设备及射线源的射线探测方法。

A ray detection method for CT equipment, reference detector and ray source

The present invention provides a reference for the detection device, with the incident rays through the window, the reference detection device also comprises a detection module, the ray penetrates the entrance window and onto the detection component; the detection component is determined according to the focus position of ray source ray energy information of the ray projected on the projection area of the detection component detected within; and / or determined according to the strength of the ray source ray radiation energy information preset region of the detection component detected; among them, the entrance window has at least two extended along different directions to define the edge. The projection area and / or the preset area. In this way, we can track the focus location of the radiation source and detect the radiation intensity of the X-ray source, and then make corrections to the imaging of the CT system, avoiding the artifacts of the image output caused by the fluctuation of the output of the X-ray, and improving the imaging quality of the image. The invention also provides a ray detection method for CT equipment and ray source.

【技术实现步骤摘要】
CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法
本专利技术涉及医疗设备
，特别是涉及一种CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法。
技术介绍
目前，CT机等成像设备成像时通常通过球管发出X射线对人体进行扫描，通过探测器接收及检测X射线。但是，CT机等成像设备在扫描过程中，球管位置受到温度等因素影响会发生偏移，使得X射线在输出时会存在波动，导致X射线强度以及焦点的位置发生变化，进而探测器在图像重建中若仍使用原来的球管发出的X射线强度以及焦点位置数据会造成图像伪影，导致图像成像质量差，不利于医生的诊断。
技术实现思路
基于此，有必要针对目前因球管位置偏移引起X射线输出波动导致的图像出现伪影的问题，提供一种能够对球管的焦点位置以及射线强度进行跟踪避免图像成像出现伪影的参考探测装置，同时还提供一种射线源的射线探测方法，以及提供一种含有上述参考探测装置的CT设备。上述目的通过下述技术方案实现：一种参考探测装置，用于探测射线源发射的射线，所述参考探测装置具有供所述射线通过的入射窗，所述参考探测装置还包括：探测组件，所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上；所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置；和/或，根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度；其中，所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿，以限定所述投影区域和/或所述预设区域。在其中一个实施例中，所述参考探测装置还包括截面呈L型的挡板，用于遮挡所述射线，L型的所述挡板的两个所述边沿形成所述入射窗。在其中一个实施例中，所述探测组件包括探测芯片和信号处理板，所述探测芯片位于所述入射窗的下方，所述射线经所述入射窗后投射于所述探测芯片上以形成所述投影区域和/或所述预设区域；所述信号处理板与所述探测芯片电连接，所述信号处理板根据所述投影区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的焦点位置，和/或，根据所述预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度。在其中一个实施例中，所述预设区域位于所述射线通过所述入射窗在所述探测芯片上形成的本影范围内。在其中一个实施例中，所述射线通过所述入射窗投射至所述探测芯片上形成的所述投影区域至少包括本影区域和半影区域，所述信号处理板根据所述本影区域和所述半影区域的关系计算所述射线源的焦点位置。在其中一个实施例中，沿其中一个所述边沿的延伸方向可将所述投影区域分为第一区域和第二区域，根据所述探测芯片在所述第一区域和所述第二区域内探测到的射线能量的关系确定所述射线源沿所述边沿的延伸方向的焦点位置，其中，至少部分所述半影区域位于所述第一区域内。在其中一个实施例中，所述探测芯片与所述挡板之间的距离范围为20mm～50mm。在其中一个实施例中，所述射线源与所述入射窗之间的距离记为d1，所述入射窗与所述探测芯片之间的距离记为d2，所述d1和所述d2之间的关系为：d2/d1＞1/3。在其中一个实施例中，所述参考探测装置还包括射线过滤板，所述射线过滤板位于所述入射窗的下方，用于过滤穿过所述入射窗的射线。一种射线源的射线探测方法，包括如下步骤：获取探测组件上的投影区域；根据所述投影区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的焦点位置；和/或，获取所述探测组件上的预设区域；根据所述预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度。在其中一个实施例中，所述获取所述探测组件上的投影区域的步骤包括如下步骤：获取所述投影区域中的半影区域与本影区域信息；将所述投影区域划分为第一区域和第二区域，并确定所述第一区域与所述第二区域内探测到的射线能量信息；根据所述第一区域内探测到的射线能量与所述第二区域内探测到的射线能量的关系确定所述射线源的焦点位置；其中，所述第一区域至少包括部分半影区域；所述预设区域位于所述本影范围内。一种CT设备，包括射线源、成像探测装置及多个如上述任一技术特征所述的参考探测装置；所述参考探测装置与所述成像探测装置接收所述射线源发射的射线，且所述参考探测装置设置于所述射线源与所述成像探测装置之间，所述参考探测装置跟踪所述射线源的位置和/或检测所述射线源的射线强度，并向所述成像探测装置提供参考。采用上述技术方案后，本专利技术的有益效果是：本专利技术的CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法，射线源发射的射线通过挡板的入射窗后照射在探测组件上，探测组件能够接收射线的信息，并根据射线在探测组件上的投影生成位置信息，以跟踪发射源的焦点的位置信息，同时，还能生成强度信息，以检测射线源的射线强度；这样，当球管发生射线的位置及强度发生变化时，射线穿过入射组件投射于探测芯片上的面积会发生变化，能够有效的解决目前因球管位置偏移引起X射线输出波动导致的图像出现伪影的问题，使得探测组件能够根据射线投影面积的变化检测射线强度以及焦点位置，进而对CT系统的成像进行修正，避免射线输出波动导致图像成像出现伪影，提高图像成像质量，方便医生诊断。附图说明图1为本专利技术一实施例的参考探测装置的立体图；图2为图1所示的参考探测装置的局部示意图；图3为图2所示的参考探测装置中入射窗的结构示意图；图4为图2所示的球管发射的X射线在探测芯片上投影的示意图；图5a为图4所示的球管发射X射线在探测芯片上在沿Z轴方向投影的示意图，其中球管焦点处于正常位置；图5b为图4所示的球管发射X射线在探测芯片上在沿Z轴方向投影的示意图，其中球管焦点从正常位置运动到右极限位置；图5c为图4所示的球管发射X射线在探测芯片上在沿Z轴方向投影的示意图，其中球管焦点从右极限位置运动到正常位置；图6为球管焦点的能量强度比值与球管焦点移动位置的曲线图；其中：100-参考探测装置；110-壳体组件；111-上壳；112-下壳；113-前壳；120-挡板；121-入射窗；122-第一边沿；123-第二边沿；130-探测组件；131-探测芯片；132-信号处理板；140-射线过滤板；200-球管。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下通过实施例，并结合附图，对本专利技术的CT设备、参考探测装置及射线源的射线探测方法进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。参见图1至图3，本专利技术提供了一种参考探测装置100，该参考探测装置100设置于扫描系统中。本实施例中，扫描系统以CT设备为例进行说明，CT设备包括射线源、参考探测装置100及成像探测装置，射线源在本实施例中指球管200。成像探测装置用于接收球管200发射的穿过患者的X射线，并对X射线的信息进行处理，并进行成像，方便医生诊断。参考探测装置100能够接收球管200发出的X射线，以检测球管200的焦点位置及球管200发出的X射线强度，这样CT设备的成像探测装置接收球管200发射的穿过患者的X射线后，CT设备能够根据参考探测装置100检测到的球管200的焦点位置及X射线强度，对成像探测装置的图像成像进行修正，避免球管200的焦点位置或X射线强度的波动导致图像成像出现伪影，提高图像成像质量，方便医生诊断。在本专利技术中，参考探测装置100包括壳体组件110及探测组件130。壳体组件110具有容置腔室，能够起到收纳作用，参考探本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种参考探测装置，用于探测射线源发射的射线，其特征在于，所述参考探测装置具有供所述射线通过的入射窗，所述参考探测装置还包括：探测组件，所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上；所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置；和/或，根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度；其中，所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿，以限定所述投影区域和/或所述预设区域。

【技术特征摘要】
1.一种参考探测装置，用于探测射线源发射的射线，其特征在于，所述参考探测装置具有供所述射线通过的入射窗，所述参考探测装置还包括：探测组件，所述射线穿设所述入射窗并投射到所述探测组件上；所述探测组件根据所述射线投射在所述探测组件的投影区域内探测到的射线能量信息确定射线源的焦点位置；和/或，根据所述探测组件的预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度；其中，所述入射窗具有至少两条沿不同方向延伸的边沿，以限定所述投影区域和/或所述预设区域。2.根据权利要求1所述的参考探测装置，其特征在于，所述参考探测装置还包括截面呈L型的挡板，用于遮挡所述射线，L型的所述挡板的两个所述边沿形成所述入射窗。3.根据权利要求2所述的参考探测装置，其特征在于，所述探测组件包括探测芯片和信号处理板，所述探测芯片位于所述入射窗的下方，所述射线经所述入射窗后投射于所述探测芯片上以形成所述投影区域和/或所述预设区域；所述信号处理板与所述探测芯片电连接，所述信号处理板根据所述投影区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的焦点位置，和/或，根据所述预设区域内探测到的射线能量信息确定所述射线源的射线强度。4.根据权利要求3所述的参考探测装置，其特征在于，所述预设区域位于所述射线通过所述入射窗在所述探测芯片上形成的本影范围内。5.根据权利要求3所述的参考探测装置，其特征在于，所述射线通过所述入射窗投射至所述探测芯片上形成的所述投影区域至少包括本影区域和半影区域，所述信号处理板根据所述本影区域和所述半影区域的关系计算所述射线源的焦点位置。6.根据权利要求5所述的参考探测装置，其特征在于，沿其中一个所述边沿的延伸方向可将所述投影区域分为第一区域和第二区域，根据所述探测芯片在所述第一区域和所述第二区域内探测到的射线能量的关系确定所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶婷，杜岩峰，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31