在阻剂应用中作为光酸产生剂的磺酸衍生物化合物制造技术

本发明专利技术提供新颖光酸产生剂化合物。还提供包括所述新颖光酸产生剂化合物的组合物。本发明专利技术进一步提供制造和使用本文中所揭示的所述光酸产生剂化合物和组合物的方法。所述化合物和组合物可用作用于各种微制造应用的化学放大型阻剂组合物中的光活性组分。

Sulfonic derivatives as a photoacid producing agent in the application of inhibitor

The invention provides a novel photoacid producing agent compound. A composition comprising the novel compounds of the novel photoacid producing agent is also provided. The invention further provides a method for the manufacture and use of the photic acid producing agent compounds and compositions disclosed in this article. The compound and composition can be used as a photoactive component in a chemically amplified inhibitor composition for a variety of micromanufacturing applications.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在阻剂应用中作为光酸产生剂的磺酸衍生物化合物相关申请案的交叉参考本申请案主张于2015年8月21日提出申请的美国临时申请案第62/208,077号的优先权，所述申请案的内容以全文引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及新颖光酸产生剂化合物(“PAG”)和包含所述PAG化合物的组合物。具体来说，本专利技术的PAG化合物在有机溶剂中具有极佳溶解性且在光学光刻工艺中展现较常规PAG化合物更高的敏感性和更好性能。
技术介绍
光阻剂是用于将图像转移至衬底的光敏膜。其形成负图像或正图像。在衬底上涂布光阻剂之后，使涂层透过图案化光掩模暴露于活化能来源(例如紫外光)以在光阻剂涂层中形成潜在图像。光掩模具有对活化辐射不透明和透明的区域，所述区域界定欲转移至下伏衬底的图像。已证明，化学放大类型的光阻剂可用于在半导体制造中形成超细图案的工艺中实现高敏感性。所述光阻剂是通过掺和PAG与具有酸不稳定结构的聚合物基质来制备。根据所述光阻剂的反应机制，光酸产生剂在其受光源辐照时产生酸，且经曝光或辐照部分中的聚合物基质的主链或支链在所谓的“曝光后烘烤”(PEB)中与所产生的酸反应并分解或交联，以使得聚合物的极性改变。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种由式(I)或式(II)表示的磺酸衍生物化合物(i)：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.21 US 62/208,0771.一种由式(I)或式(II)表示的磺酸衍生物化合物(i)：其中可相同或不同且可连接形成脂环族或杂环基团的R1和R2独立地选自由以下各项组成的群组：氢原子；氰基；具有1至18的碳数的脂肪族、脂环族或杂环基团，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代；具有1至18的碳数的脂肪族基团，其包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-C(＝O)-S-、-O-C(＝O)-O-、-CN、-C(＝O)-NH-、-C(＝O)-NRa-和-C(＝O)-NRaRb组成的群组的部分，其中Ra和Rb各自独立地是具有1至10的碳数的脂肪族基团，其可相同或不同且可连接形成脂环族或杂环基团，且其中所述脂肪族基团任选地包含至少一个卤素原子；和具有4至18的碳数的芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子、脂肪族基团、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基硫基、双烷基氨基、酰氧基、酰硫基、酰氨基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环族基团、杂环基团、芳基、烷基芳基、氰基或硝基取代；且R3选自由以下各项组成的群组：具有1至18的碳数的脂肪族、脂环族或杂环基团，其可经一或多个卤素原子取代；具有1至18的碳数的脂肪族或脂环族基团，其包含至少一个选自由-O-、-S-、-C(＝O)、-C(＝O)-O-、-C(＝O)-S-、-O-C(＝O)-O-、-CN、-C(＝O)-NH-、-O-C(＝O)-NH-、-C(＝O)-NRa-、-O-C(＝O)-NRa-和-C(＝O)-NRaRb组成的群组的部分，其中Ra和Rb如上文所定义，其中所述脂肪族基团任选地包含至少一个卤素原子；和具有4至18的碳数的芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子、脂肪族基团、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基硫基、双烷基氨基、酰氧基、酰硫基、酰氨基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环族基团、杂环基团、芳基、烷基芳基、氰基或硝基取代。2.根据权利要求1所述的磺酸衍生物化合物，其中式(I)和(II)中的R1和R2中的一个是氢且R1和R2中的另一个是具有1至18的碳数的脂肪族基团，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代；且式(I)和(II)中的R3是具有1至18的碳数的脂肪族基团，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代。3.根据权利要求2所述的磺酸衍生物化合物，其选自由组成的群组。4.根据权利要求1所述的磺酸衍生物化合物，其中式(I)和(II)中的R1和R2中的一个是氢且R1和R2中的另一个是包含至少一个-C(＝O)-O-部分的具有2至18的碳数的脂肪族基团，且R3是具有1至6的碳数的脂肪族基团，其可经一或多个卤素原子取代。5.根据权利要求4所述的磺酸衍生物化合物，其选自由以下各项组成的群组：6.根据权利要求1所述的磺酸衍生物化合物，其中式(I)和(II)中的R1和R2中的一个是氢且R1和R2中的另一个是具有4至18的碳数的芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经脂肪族基团或烷氧基取代，且R3是具有1至18的碳数的脂肪族基团，其可经一或多个卤素原子取代。7.根据权利要求6所述的磺酸衍生物化合物，其选自由以下各项组成的群组：8.根据权利要求1所述的磺酸衍生物化合物，其中式(I)和(II)中的R1和R2连接形成脂环族基团；且式(I)和(II)中的R3是具有1至18的碳数的脂肪族基团，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代。9.根据权利要求8...

【专利技术属性】
技术研发人员：张永强，D·坎波，R·B·夏尔马，M·孔茨，
申请(专利权)人：贺利氏贵金属北美代顿有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US