正型光阻剂组成物及其应用制造技术

本发明专利技术是有关于一种正型光阻性组成物，其大致包括（Ａ）的共聚合物，其是为具有如下式（１）结构单元的共聚合物、或具有如下式（２）结构单元的共聚合物、或具有如下式（３）结构单元的共聚合物，其中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｕ、Ｖ、Ｘ、Ｙ及Ｚ定义如说明书；（Ｂ）含萘醌二叠氮基感光化合物；以及（Ｃ）有机溶剂，其是选自包括醚族、酮族、酯族、芳香族或醯胺族溶剂。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种正型光阻剂组成物，更详细者是有关于硷性显影正型光阻剂组成物，适合于使用曝光制程制造印刷电路板、软性印刷电路板及其他类似的制程。
技术介绍
曝光制程是指于基板亦即加工物表面涂布感光性树脂组成物后，由石版成像技术(photolithography)使涂膜图型化后，以此做为光罩的化学蚀刻、电解或电镀做为主体的线路成型的技术以单独或组合后制造各种精密零件的技术的总称，为目前的精密微细线路加工技术主流。现有利用紫外线汞灯成像的正型光阻，其组成物包含有硷可溶酚醛树脂、萘醌二叠氮基的感光化合物、溶剂与其他添加剂等，但因酚醛树脂的材料特性属于较硬脆型，光阻成膜的后较容易拨离或脆裂，若脆裂发生于涂膜图型化后的蚀刻阶段，将会导致电路短路。如此，现有的正型光阻组成物将无法满足需求因此并不适用。正型光阻组成物如特开平10-207057号公报所载的，主要添加丙烯树脂以提升电镀耐性为目的。此技术虽可被期待降低裂化，惟为抑制裂化产生所大量添加的丙烯树脂则造成光阻的对比降低，成型的形状恶化。
技术实现思路
为了改善上述的问题，本专利技术的提出一种新的正型光阻性组成物。本专利技术的正型光阻组成物具有良好的涂布性与柔韧性，可以完全地改善光阻成膜的后容易脆裂的问题。本专利技术的正型光阻性组成物，其包括(A)100份重的共聚合物，其重量平均分子量介于2,000-300,000(GPC法的聚苯乙烯换算值)，该共聚合物是为具有如下式(1)结构单元的共聚合物或具有如下式(2)结构单元或具有如下式(3)结构单元的共聚合物， 其中R1是为H、-CH3、-C2H5；R2是为H、-CH3、-C2H5；R3是为C1-C12烷基、C4-C12环烷基或C6-C18芳香取代基；U＞0，V＞0，且U+V＝1； 其中R1、R2及R3定义如前述式(1)；R4是为H、-CH3、-C2H5；R5是为C1-C12烷基、C4-C12环烷基或C6-C18芳香取代基；R6是为H、-CH3、-C2H5；X＞0，Y＞0，Z＞0，且X+Y+Z＝1；(B)5至80份重的的含萘醌二叠氮基感光化合物，该含萘醌二叠氮基感光化合物的份重是以100份重的共聚合物(A)为基准计算，以及(C)100至2,000份重的有机溶剂，其是选自包括醚族、酮族、酯族、芳香族或醯胺族溶剂，该有机溶剂的份重是以100份重的共聚合物(A)为基准计算。前述式(1)结构单元中的U及V，较佳的是为该U是介于0.05至0.7，而该V是介于0.95至0.3。前述式(2)结构单元中的X、Y、及Z的中，较佳的是为该x是介于0.05至0.7；y是介于0.90至0.05；且Z是介于0.05至0.25。前述式(1)结构单元中的R3，较佳的是为该R3是为C1-C12烷基，或该R3是为C4-C12环烷基。前述式(2)结构单元中的R3与R5，较佳的是为该R3是为C1-C12烷基；且该R5是为C1-C12烷基。前述式(2)结构单元中的R3与R5，另一较佳的是为R3是为C4-C12环烷基；且该R5是为C4-C12环烷基。前述含萘醌二叠氮基感光化合物，较佳的是为1，2-萘醌二叠氮磺酸与具有羟基的多元酚反应而得的酯化物。更佳的是为1，2-萘醌二叠氮磺酸与2，3，4-三羟二苯基酮、或双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-3，4-二羟苯甲烷、或2，2’，4，4’-四羟二苯基酮反应而得的酯化物。前述有机溶剂是为醚族溶剂时，较佳的是选自包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丙醚、乙二醇单正丁醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丙醚、二甘醇单正丁醚、三甘醇单甲醚、三甘醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙醚、二丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、三丙二醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙醚、二甘醇二乙醚、或四氢呋喃。前述有机溶剂是为酮族溶剂时，较佳的是选自包括甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、或3-庚酮。前述有机溶剂是为酯族溶剂时，较佳的是选自包括乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、二甘醇单甲醚醋酸酯、二甘醇单乙醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、2-羟基丙酸甲酸、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酸、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、甲酸正戌酸、醋酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯、或2-羟基丁酸乙酯。前述有机溶剂是为芳香族溶剂时，较佳的是选自包括甲苯、或二甲苯。前述有机溶剂是为醯胺族溶剂时，较佳的是选自包括N-甲基口比咯烷酮、或N，N-二甲基甲醯胺N，N-二甲基乙醯胺。本专利技术的硷性显影正型光阻性组成物，其中更包括(D)添加剂，该添加剂是选自包括色素、染料、热聚合物抑制剂、增稠剂、防沫剂、增感剂及偶联剂。该等添加剂为熟悉此项技艺人士所熟知，于此不在一一赘述。本专利技术的正型光阻性组成物，其是做为在制造印刷电路板时，供涂敷在一铜箔基板上，乾燥使形成一覆膜，用活化能射线选择性的照射该覆膜的一部分后，并用弱硷性水溶液将该覆膜显影以去除受照射的部分，以形成蚀刻保护层膜。本专利技术的正型光阻组成中的共聚合物具有良好的涂布性与柔韧性。可以完全地改善光阻成膜的后容易破裂的问题。另外，对于光阻的其他特性如解析度，耐蚀刻性，去墨性等，亦有非常优异的性能表现。具体实施例方式以下是就本专利技术组成物的各组成份，分别详细描述如下。(A)共聚合物本专利技术使用的(A)共聚合物，是至少具有一个以上羧基的乙烯性不饱和自由基聚合性单体(以下，称为“含羧基的不饱和单体”)或其他可共聚的乙烯自由基聚合性不饱和单体(以下，称为“共聚性不饱和单体”)的共聚物(以下，单称为“含羧基的共聚物”)为佳。含羧基的不饱和单体，可列举例如含单羧酸基不饱和单体丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸(crotonic acid)等的不饱和单羧酸类；含二羧酸或其酸酐类不饱和单体，可列举例如马来酸(maleic acid)、反丁烯二酸(fumaric acid)、citroconic acid、甲基延胡索酸(Mesaconicacid)、衣康酸(itaconic acid)、等的不饱和二羧酸类，上述的单体较佳的是丙烯酸、甲基丙烯酸。上述的这些单体可单独或二种以上混合使用。其他共聚的自由基聚合性单体可列举例如有苯乙烯、苯乙烯的α-甲基、邻烷基、间烷基、对烷基、烷氧基、卤素、硝基、氰基、醯胺基或酯取代的取代物；丁二烯、异戌二烯、氯戊二烯的烯烃类；(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯，正丙基(甲基)丙烯酸酯、异丙基(甲基)丙烯酸酯，正丁基(甲基)丙烯酸酯、第二丁基(甲基)丙烯酸酯、第三丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(甲基)丙烯酸酯、新戌基(甲基)丙烯酸酯、异戊基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、环己基甲基丙烯酸酯、金刚烷基(甲基)烷基丙烯酸酯、烯丙基(甲基)丙烯酸酯、丙炔基(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正型光阻性组成物，包含：（Ａ）１００份重的共聚合物，其重量平均分子量介于２，０００～３００，０００，该共聚合物是为具有如下式（１）结构单元的共聚合物、或具有如下式（２）结构单元的共聚合物、或具有如下式（３）结构单元的共聚合物，　 　＊＊＊（１）　其中Ｒ１是为Ｈ、－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５；Ｒ２是为Ｈ、－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５；　Ｒ３是为Ｃ１－Ｃ１２烷基、Ｃ４－Ｃ１２环烷基或Ｃ６－Ｃ１８芳香取代基；Ｕ＞０，Ｖ＞０，且Ｕ＋Ｖ＝１；　 　＊＊＊其中Ｒ１、Ｒ２及Ｒ３定义如前述式（１）；Ｒ４是为Ｈ、－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５；Ｒ５是为Ｃ１－Ｃ１２烷基、Ｃ４－Ｃ１２环烷基或Ｃ６－Ｃ１８芳香取代基；Ｒ６是为Ｈ、－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５；Ｘ ＞０，Ｙ＞０，Ｚ＞０，且Ｘ＋Ｙ＋Ｚ＝１；（Ｂ）５至８０份重的含萘醌二叠氮基感光化合物，该含萘醌二叠氮基感光化合物的份重是以１００份重的共聚合物（Ａ）为基准计算，以及（Ｃ）１００至２０００份重的有机溶剂，其是选自包括醚族、酮族 、酯族、芳香族或醯胺族溶剂，该有机溶剂的份重是以１００份重的共聚合物（Ａ）为基准计算。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：廖信铭，陈昱名，李晏成，
申请(专利权)人：明德国际仓储贸易上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]