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一种大口径光学抛光系统的气动压力控制技术方案

技术编号:17431635 阅读:31 留言:0更新日期:2018-03-10 03:14
一种大口径光学抛光系统的气动压力控制,利用压力传感器和比例阀及多组双模态PID控制算法构建了闭环压力控制系统,以实现高精度、高稳定性的抛光盘压力控制。该压力控制系统能够较好的满足项目中对施加在磨盘上的压力的要求。在不同的扰动及控制要求下,具有良好的鲁棒性及速度平稳性,可以满足大口径抛光系统对压力的设计要求。

Pneumatic pressure control for a large aperture optical polishing system

A pneumatic control system for large aperture optical polishing system is developed. A closed loop pressure control system is constructed by using pressure sensor and proportional valve and multi group PID control algorithm, so as to achieve high accuracy and high stability of pressure control for polishing discs. The pressure control system can meet the requirements of the pressure applied to the grinding disc in the project. Under the requirements of different disturbances and control, it has good robustness and speed stability. It can meet the pressure design requirements of the large caliber polishing system.

【技术实现步骤摘要】
一种大口径光学抛光系统的气动压力控制所属
本专利技术涉及一种大口径光学抛光系统的气动压力控制,适用于机械领域。
技术介绍
光学加工是一个复杂工艺过程,不仅存在磨盘与工件之间的机械切削,还有研磨液与工件之间的化学作用。精密的光学仪器,更需要纳米级的精度,而且整个加工过程周期长。大口径轻质高精度非球面镜的加工,材质既脆又硬,而且后期到抛光阶段时镜面口径大而薄,加工难度非常大。国内外一直以来主要依赖技术熟练的工人通过反复地局部修抛和不断监测完成,不仅成本高、效率低、劳动强度大,而且加工精度难以保证。近年来,关于气动压力控制系统研究较多,而将气动压力控制系统应用于抛光系统进行光学系统抛光还是比较少,故当前光学抛光系统主要还是依赖于人眼辅助,以手动抛光为主。
技术实现思路
本专利技术提出了一种大口径光学抛光系统的气动压力控制,利用压力传感器和比例阀及多组双模态PID控制算法构建了闭环压力控制系统,以实现高精度、高稳定性的抛光盘压力控制。本专利技术所采用的技术方案是。所述气动控制系统由以下部分组成:PLC、变频器、电动机、空压机、电源控制柜、电抗器、压力变送器、接触器、中间继电器、热继电器、空气开关本文档来自技高网...
一种大口径光学抛光系统的气动压力控制

【技术保护点】
一种大口径光学抛光系统的气动压力控制,其特征是:所述气动控制系统由以下部分组成:PLC、变频器、电动机、空压机、电源控制柜、电抗器、压力变送器、接触器、中间继电器、热继电器、空气开关、电缆、电流表、电压表、按钮、互感器等。

【技术特征摘要】
1.一种大口径光学抛光系统的气动压力控制,其特征是:所述气动控制系统由以下部分组成:PLC、变频器、电动机、空压机、电源控制柜、电抗器、压力变送器、接触器、中间继电器、热继电器、空气开关、电缆、电流表、电压表、按钮、互感器等。2.根据权利要求1所述的一种大口径光学抛光系统的气动压力控制,其特征是:所述控制系统提供手动/自动两种工作模式,具有现场控制方式、状态显示以及故障报警等功能。3.根据权利要求1所述的一种大口径光学抛光系统的气动压力...

【专利技术属性】
技术研发人员:李征
申请(专利权)人:李征
类型:发明
国别省市:辽宁,21

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