成膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种成膜装置，包括：容器，其内部能容置基板；能将所述容器内部排气至真空状态的排气机构；储藏溶液的储藏机构；能将所述溶液排出至所述基板上的喷嘴；加热机构，其能对所述喷嘴和/或所述容器内部加热。本实用新型专利技术提供的成膜装置能够减少或消除基板在成膜过程中形成的液迹。

Film forming device

The utility model discloses a film forming device includes: a container for holding the internal substrate; the container will exhaust internal exhaust gas to the vacuum state storage mechanism; storage solution; the solution can be discharged into the nozzle substrate; a heating mechanism, it can on the nozzle and / or the heating inner container. The film forming device provided by the utility model can reduce or eliminate the liquid trace formed during the film forming process.

【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本技术涉及薄膜形成领域，尤其涉及一种成膜装置。
技术介绍
已知使用涂布法，浸渍法等湿式法作为在基板的表面上形成薄膜、例如有机膜、无机膜的成膜方法。例如，专利文献1中提出了一种成膜方法，其中，在大气中，在玻璃、塑料等基板的表面上，刻出深10～400nm的刻痕(划痕)，使其具有规定方向的条纹状的精细凹凸面，之后通过涂布按规定组成制作的涂布液(稀释溶液)并使其干燥，从而在所述精细凹凸面上形成规定组成的防污膜(有机膜)。此外，专利文献2中提出了一种成膜方法，其中，将氧化钛粒子混合于水中形成悬浊液，进一步调整为特定的pH后，将该悬浊液涂布在支撑体上并使其干燥，由此形成无机氧化钛膜(无机膜)。湿式法中所用的涂布液、悬浊液使用的是溶质浓度低的稀溶液。因此，加热干燥后得到的膜的密度低，随之存在形成的膜的功能容易消失的问题。例如，在用湿式法涂布的防污膜中，最表面上形成的膜容易由于擦拭而被刮掉，其防油性有时消失。与此相对，也考虑使用真空蒸镀法(干式法)在基板上形成薄膜的成膜方法，使用该方法的情况下，成膜时需要形成高真空条件，需要高价的真空排气系统。其结果是难以实现低成本下的成膜。现有技术文献专本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜装置，其特征在于，包括：容器，其内部能容置基板；能将所述容器内部排气至真空状态的排气机构；储藏溶液的储藏机构；能将所述溶液排出至所述基板上的喷嘴；加热机构，其能对所述喷嘴和/或所述容器内部加热。

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，其特征在于，包括：容器，其内部能容置基板；能将所述容器内部排气至真空状态的排气机构；储藏溶液的储藏机构；能将所述溶液排出至所述基板上的喷嘴；加热机构，其能对所述喷嘴和/或所述容器内部加热。2.如权利要求1所述成膜装置，其特征在于，所述加热机构设置于所述容器内。3.如权利要求2所述成膜装置，其特征在于，所述加热机构靠近所述喷嘴设置。4.如权利要求1所述成膜装置，其特征在于，所述加热机构包括电阻丝。5.如权利要求1所述成膜装置，其特征在于，还包括温度测量机构，其能够测量所述喷嘴或所述容器内部的温度。6.如权利要求5所述成膜装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：长江亦周，高坂佳弘，青山贵昭，远藤光人，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：新型
国别省市：日本,JP