一种简易的PVD真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种简易的PVD真空镀膜装置，包括有真空腔（1），真空腔（1）连接有真空泵（10），真空腔（1）外设有薄膜厚度监测仪（6）和回转接头（7），所述薄膜厚度监测仪（6）的测试探头（12）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（1）内，所述回转接头（7）的一端连接有样品安装板（13）和挡板（9），样品安装板（13）和挡板（9）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（1）内，样品安装板（13）和所述测试探头（12）处于同一水平面；所述真空腔（1）内的下方设有蒸发器（4），蒸发器（4）连接电源（11）。本实用新型专利技术具有结构简单、镀膜效果理想、维护难度小的特点。

A simple PVD vacuum coating device

The utility model discloses a PVD vacuum coating device is simple, comprising a vacuum chamber (1), vacuum chamber (1) is connected with a vacuum pump (10), vacuum chamber (1). A film thickness monitor (6) and the rotary joint (7), the thin film thickness monitor (6). The test probe (12) through the vacuum chamber (1) of the cavity wall (2) extends into the vacuum chamber (1), the rotary joint (7) is connected with one end of the sample mounting plate (13) and a baffle plate (9), (13) the sample mounting plate and a baffle plate (9) through the vacuum chamber (1) the cavity wall (2) extension into the vacuum chamber (1), (13) the sample mounting plate and the test probe (12) at the same level; the vacuum chamber (1) in (4) is arranged below the evaporator, the evaporator (4) is connected with a power supply (11). The utility model has the characteristics of simple structure, ideal coating effect and small maintenance difficulty.

【技术实现步骤摘要】
一种简易的PVD真空镀膜装置
本技术涉及一种PVD真空镀膜装置，特别是一种简易的PVD真空镀膜装置。
技术介绍
物理气相沉积（PVD）是通过蒸发，电离或者溅射等方式，产生金属离子并成绩在基板表面。物理气相成绩镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀。其中真空蒸发镀膜是借助于钨丝等材料对拟镀金属块进行加热，因为其相比于电离或溅射等方式而言，相对简单的工作原理被广泛的引用于各个领域。然而现有的真空蒸发镀膜机结构复杂、镀膜效果不理想、维护难度大，成为推广真空蒸发镀膜技术的一个诟病。
技术实现思路
本技术的目的在于，提供一种简易的PVD真空镀膜装置。本技术具有结构简单、镀膜效果理想、维护难度小的特点。本技术的技术方案：一种简易的PVD真空镀膜装置，包括有真空腔，真空腔连接有真空泵，真空腔外设有薄膜厚度监测仪和回转接头，所述薄膜厚度监测仪的测试探头穿过真空腔的腔壁后伸入真空腔内，所述回转接头的一端连接有样品安装板和挡板，样品安装板和挡板穿过真空腔的腔壁后伸入真空腔内，样品安装板和所述测试探头处于同一水平面；所述真空腔内的下方设有蒸发器，蒸发器连接电源。前述的简易的PVD真空镀膜装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种简易的PVD真空镀膜装置，其特征在于：包括有真空腔（1），真空腔（1）连接有真空泵（10），真空腔（1）外设有薄膜厚度监测仪（6）和回转接头（7），所述薄膜厚度监测仪（6）的测试探头（12）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（1）内，所述回转接头（7）的一端连接有样品安装板（13）和挡板（9），样品安装板（13）和挡板（9）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（1）内，样品安装板（13）和所述测试探头（12）处于同一水平面；所述真空腔（1）内的下方设有蒸发器（4），蒸发器（4）连接电源（11）。

【技术特征摘要】
1.一种简易的PVD真空镀膜装置，其特征在于：包括有真空腔（1），真空腔（1）连接有真空泵（10），真空腔（1）外设有薄膜厚度监测仪（6）和回转接头（7），所述薄膜厚度监测仪（6）的测试探头（12）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（1）内，所述回转接头（7）的一端连接有样品安装板（13）和挡板（9），样品安装板（13）和挡板（9）穿过真空腔（1）的腔壁（2）后伸入真空腔（1）内，样品安装板（13）和所述测试探头（12）处于同一水平面；所述真空腔（1）内的下方设有蒸发器（4），蒸发器（4）连接电源（11）。2.根据权利要求1所述的简易的PVD真空镀膜装置，其特征在于：所述真空腔（1）的腔壁（2）上设有观察窗（3）。3.根据权利要求1所述的简易...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗源，任粒，张纯，刘伟，伍玉娇，
申请(专利权)人：贵州理工学院，
类型：新型
国别省市：贵州,52