一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法技术

技术编号:17287851 阅读:71 留言:0更新日期:2018-02-17 21:27
本发明专利技术属于表面处理技术,涉及一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法。其特征在于,涂覆氧化镁涂膜的步骤如下:涂液调配;涂液稀释;预热;喷涂;烘干。本发明专利技术提出了一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法,能准确地控制膜层厚度,进而保证了1J22冲片叠合形成的铁芯总厚度尺寸,提高了产品合格率。

A coating method of Magnesium Oxide film for 1J22 flushing

The invention belongs to the surface treatment technology, and relates to a coating method of the 1J22 film Magnesium Oxide film. It is characterized by the following steps of coating the Magnesium Oxide film as follows: coating solution; coating dilution; preheating; spraying; drying. The invention puts forward a coating method of 1J22 punching Magnesium Oxide coating, which can accurately control the thickness of the film, thereby ensuring the total thickness of the iron core formed by 1J22 punching and improving the qualified rate of the product.

【技术实现步骤摘要】
一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法
本专利技术属于表面处理技术,涉及一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法。
技术介绍
1J22冲片涂覆氧化镁膜的作用是使硅钢极氧化镁具有良好的导磁性即具有较大的正磁率和优秀的绝缘性能即电导率低到10-14us/cm致密态。可使硅钢片表面形成良好的绝缘层和导磁介质,以制和克服变压器中硅钢铁芯的窝流和集肤效应损失。一般用于绝缘材料,阻燃剂,干燥剂,无线高频顺磁导磁材料,磁棒天线,调频元件的磁芯等。1J22冲片涂覆氧化镁膜现在的涂覆方法是:采用手工或者喷涂方法将质量浓度为8%~12%的氧化镁涂液涂覆到1J22冲片表面,经烘干生成15μm~30μm的氧化镁涂膜。其缺点是:膜层厚度难以控制,使1J22冲片叠合形成的铁芯总厚度尺寸容易超差,导致产品合格率低。
技术实现思路
本专利技术的目的是:提出一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法,以便能准确地控制膜层厚度,进而保证1J22冲片叠合形成的铁芯总厚度尺寸,提高产品合格率。本专利技术的技术方案是:一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法,其特征在于,涂覆氧化镁涂膜的步骤如下:1、涂液调配:氧化镁涂液是质量浓度为8%~12%本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法,其特征在于,涂覆氧化镁涂膜的步骤如下:1.1、涂液调配:氧化镁涂液是质量浓度为8%~12%的氧化镁和水的混合液;将氧化镁放在研磨机中研磨至少8小时,转速为300r/s~400r/s,取出后用去离子水与氧化镁混合,用搅拌器搅拌至少2小时即可;1.2、涂液稀释:将氧化镁涂液用去离子水稀释至氧化镁质量浓度5%,得到氧化镁涂液稀释液;1.3、预热:将1J22冲片放到烘箱中加热到100℃~150℃,保温至少15min;同时将氧化镁涂液稀释液加热到60℃~70℃,用玻璃棒搅拌氧化镁涂液稀释液至少30s,倒入不锈钢喷枪的储液罐中;1.4、喷涂:用不锈钢喷枪向1J22冲片...

【技术特征摘要】
1.一种1J22冲片氧化镁涂膜的涂覆方法,其特征在于,涂覆氧化镁涂膜的步骤如下:1.1、涂液调配:氧化镁涂液是质量浓度为8%~12%的氧化镁和水的混合液;将氧化镁放在研磨机中研磨至少8小时,转速为300r/s~400r/s,取出后用去离子水与氧化镁混合,用搅拌器搅拌至少2小时即可;1.2、涂液稀释:将氧化镁涂液用去离子水稀释至氧化镁质量浓度5%,得到氧化镁涂液稀释液;1.3、预热:将...

【专利技术属性】
技术研发人员:李忠山代强罗志勇
申请(专利权)人:北京曙光航空电气有限责任公司
类型:发明
国别省市:北京,11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1