正投投影系统及正投投影控制方法及幕布技术方案

本发明专利技术实施例提供一种正投投影系统及正投投影控制方法及幕布，属于投影技术领域。正投投影系统包括：正投投影系统，其特征在于，包括：光源、幕布、投影仪，光源和投影仪均设置在幕布的正面，光源设置在天花板上，投影仪设置在地面上，其投影光线沿着从下向斜上方对幕布正面进行投射内容；幕布包括反光层，反光层用于将光源从上到斜下方射入到幕布表面的光线进行反射，且反光层使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，以及将投影仪从下向斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理，且反光层使投影仪的反射光线趋于向幕布前方射出。本发明专利技术实施例实现了在投影时，克服了幕布上的光线不均匀，使得观看者能够清晰的看清楚幕布上的内容。

Positive projection system and projection control method and curtain

The invention provides a positive projection system and a projection projection control method and a curtain, which belong to the field of projection technology. Positive projection system includes: orthographic projection system, which is characterized in that includes a light source, screen, projector, projector and light source are arranged in the front, the light source is arranged on the ceiling, the projector is arranged on the ground, the projection light from above the curtain along the syncline front projection screen comprises a light reflecting layer; for the light source, a reflecting layer from top to bottom to the surface of the oblique incident light reflection and reflective layer of reflection rays light radiated along the syncline above the ceiling into the direction, and the projector reflected from the bottom to the top handle into the surface of the light curtain, and a reflective layer of reflection rays to the projector to emit to the front curtain. The embodiment of the invention overcomes the uneven light on the curtain when the projection is projected, so that the viewer can clearly see the content on the curtain.

【技术实现步骤摘要】
正投投影系统及正投投影控制方法及幕布
本专利技术实施例涉及投影
，尤其涉及一种正投投影系统及正投投影控制方法及幕布。
技术介绍
现有投影机使用的屏幕大部分是正投，投影光束都在一定距离的条件下横过空间，观众在大厅往往都是沿着水平的方面落座，大部分观众的视觉都程度不同地受投影光束的干预和影响，极大地影响视力健康。而现有的背投屏幕程度不同的都存在有投影的内容不清晰，投影的内容亮度不均匀等重要问题，满足不了观众直观质量效果的愿望。尤其是投射光在投影距离的折射、反射(投影距离近的要加一道或两道反射镜)损失一部分，屏幕本身吸收一部份，屏幕中心还会出现太阳效应。目前，提升光源均匀度解决上述问题，一般会在投影仪的光源的光路径后设置积分柱，以使光源发出的光线均能聚焦于积分柱的入光面而进入积分柱内进行多次反射而投射出去。但是，由于一般投影的环境中都配置有白炽灯，白炽灯的光线导致投影的内容不清晰，投影的亮度不均匀等问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例所解决的技术问题之一在于提供一种正投投影系统及正投投影控制方法及幕布，用以解决现有技术中上述问题。本专利技术实施例提供一种正投投影系统，其包括：光源、幕布、投影仪，所述光源和所述投影仪均设置在所述幕布的正面，所述光源设置在天花板上，所述投影仪设置在地面上，其投影光线沿着从下向斜上方对所述幕布正面进行投射内容；所述幕布包括反光层，所述反光层用于将所述光源从上到斜下方射入到幕布表面的光线进行反射，且所述反光层使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，以及将所述投影仪从下到向斜上方射到幕布表面的光线进行反射处理，且所述反光层使投影仪的反射光线趋于所述幕布前方射出。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，所述反光层包括多个反光棱，每个反光棱包括第一反光面和第二反光面，所述第一反光面将所述光源从上到斜下方射入到到幕布表面的光线向上反射，所述第二反光面将所述投影仪投射内容时从下到斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，所述第一反光面使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，所述第二反光面使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，沿着幕布从上到下的方向，反光棱的第一反光面的面积递减，第二反光面的面积递增，第一反光面与水平面的夹角减小，第二反光面与水平面的夹角增大。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，所述反光层包括的多个反光棱分为多组，同一反光棱组中包括规格相同的多个反光棱，沿着幕布从上到下反光棱组之间的反光棱的第一反光面的面积递减，第二反光面的面积递增，第一反光面与水平面的夹角减小，第二反光面与水平面的夹角增大。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，所述反光层下还设置基础层，所述基础层从上到下包括保护层、扩散层、导光层、支撑层、聚氨酯涂层、织物层，所述保护层、扩散层、导光层、支撑层、聚氨酯涂层、织物层经热压形成一体所述基础层。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，所述保护层、扩散层、导光层、支撑层、聚氨酯涂层、织物层中，每层的厚度为0.01mm～0.15mm。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，多个所述光源分多行设置在所述天花板上。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，相邻行所述光源之间的行距为40-50cm，同一行所述光源之间的列距为30-40cm。可选地，在本专利技术的任一正投投影系统的实施例中，对所述光源进行分组，为每一组光源配置同一亮度调整开关，用于对同一组的所述光源同时进行亮度的调整。上到斜下方照射出本专利技术实施例提供一种正投投影控制方法，其包括：设置在天花板上的光源从上到斜下方向幕布射入光线；幕布包括的反光层将所述光源从上到斜下方照射出到幕布表面的光线向上反射，射入天花板方向，以及将设置在地面上的投影仪从下向斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理，且所述反光层使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，所述反光层包括多个反光棱，每个反光棱包括第一反光面和第二反光面，所述第一反光面将所述光源从上到斜下方射入到到幕布表面的光线向上反射，所述第二反光面将所述投影仪投射内容时从下到斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，所述第一反光面使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，所述第二反光面使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，沿着幕布从上到下的方向，反光棱的第一反光面的面积递减，第二反光面的面积递增，第一反光面与水平面的夹角减小，第二反光面与水平面的夹角增大。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，所述反光层包括的多个反光棱分为多组，同一反光棱组中包括规格相同的多个反光棱，沿着幕布从上到下反光棱组之间的反光棱的第一反光面的面积递减，第二反光面的面积递增，第一反光面与水平面的夹角减小，第二反光面与水平面的夹角增大。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，所述反光层下还设置基础层，所述基础层从上到下包括保护层、扩散层、导光层、支撑层、聚氨酯涂层、织物层，所述保护层、扩散层、导光层、支撑层、聚氨酯涂层、织物层经热压形成一体所述基础层。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，所述保护层、扩散层、导光层、支撑层、聚氨酯涂层、织物层中，每层的厚度为0.01mm～0.15mm。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，多个所述光源分多行设置在所述天花板上。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，相邻行所述光源之间的行距为40-50cm，同一行所述光源之间的列距为30-40cm。可选地，在本专利技术的任一正投投影控制方法的实施例中，对所述光源进行分组，为每一组光源配置同一亮度调整开关，用于对同一组的所述光源同时进行亮度的调整。本专利技术实施例提供一种幕布，其包括：反光层，所述反光层用于将光源从上到斜下方照射出到幕布表面的光线向上反射，以及将所述投影仪从所述正面投射内容时从下到斜上方照射出的光线进行反射处理，汇集于所述幕布前方用户的视野。可选地，在本专利技术的任一幕布的实施例中，所述反光层包括多个反光棱，每个反光棱包括第一反光面和第二反光面，所述第一反光面将所述光源从上到斜下方射入到到幕布表面的光线向上反射，所述第二反光面将所述投影仪投射内容时从下到斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理。可选地，在本专利技术的任一幕布的实施例中，所述第一反光面使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，所述第二反光面使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出。可选地，在本专利技术的任一幕布的实施例中，沿着幕布从上到下的方向，反光棱的第一反光面的面积递减，第二反光面的面积递增，第一反光面与水平面的夹角减小，第二反光面与水平面的夹角增大。可选地，在本专利技术的任一幕布的实施例中，所述反光层包括的多个反光棱分为多组，同一反光棱组中包括规格相同的多个反光棱，沿着幕布从上到下反光棱组之间的反光棱的第一反光面的面积递减，第二反光面的面积递增，第一反光面与水平面的夹角减小，第二反光面与水平面的夹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正投投影系统，其特征在于，包括：光源、幕布、投影仪，所述光源和所述投影仪均设置在所述幕布的正面，所述光源设置在天花板上，所述投影仪设置在地面上，其投影光线沿着从下向斜上方对所述幕布正面进行投射内容；所述幕布包括反光层，所述反光层用于将所述光源从上到斜下方射入到幕布表面的光线进行反射，且所述反光层使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，以及将所述投影仪从下向斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理，且所述反光层使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出。

【技术特征摘要】
1.一种正投投影系统，其特征在于，包括：光源、幕布、投影仪，所述光源和所述投影仪均设置在所述幕布的正面，所述光源设置在天花板上，所述投影仪设置在地面上，其投影光线沿着从下向斜上方对所述幕布正面进行投射内容；所述幕布包括反光层，所述反光层用于将所述光源从上到斜下方射入到幕布表面的光线进行反射，且所述反光层使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，以及将所述投影仪从下向斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理，且所述反光层使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出。2.一种正投投影控制方法，其特征在于，包括：设置在天花板上的光源从上到斜下方向幕布射入光线；幕布包括的反光层将所述光源从上到斜下方照射出到幕布表面的光线向上反射，射入天花板方向，以及将设置在地面上的投影仪从下向斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理，且所述反光层使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出下到斜上方照射出。3.一种幕布，其特征在于，包括：反光层，所述反光层用于将所述光源从上到斜下方射入到幕布表面的光线进行反射，且所述反光层使光源的反射光线沿向斜上方射出，射入天花板方向，以及将设置在地面上的投影仪从下向斜上方射入到幕布表面的光线进行反射处理，且所述反光层使投影仪的反射光线趋于向所述幕布前方射出。4.根据权利要求1所述的系统，或者权利要求2所述的方法，或权利要求3所述的幕布，其特征在于，所述反光层包括多个反光棱，每个反光棱包括第一反光面和第二反光面，所述第一反光面将所述光源从上到斜下方射入到幕布表面的光线向上反射，所述第二反光面将从下到斜上射入到幕布表面的光线进行反射处理。5.根据权利要求4所述的系统，或者...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢元，丁国齐，王亚文，张鹏，石富锋，
申请(专利权)人：北京新唐思创教育科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11