双面精抛机制造技术

本发明专利技术公开了一种双面精抛机，包括工作台、控制台、下模和上模，下模设置在工作台上，下模包括托盘、内齿环、中心齿轮和料盘，托盘位于内齿环内，托盘中心开有容纳中心齿轮的通孔，料盘放置在托盘上；上模包括压盘、注水盘、升降液缸、驱动电机、控制盒、注水管道和供料管道；在压盘和托盘上均设有绒布抛光垫。本双面精抛机在上下模具上均设置有抛光面，能够对镜片进行正反两面同步抛光。通过硅胶液、绒布抛光垫柔软、摩擦系数高以及绒布抛光垫上刻画的纹理的存料作用使得本双面精抛机能够更进一步的修正镜片的损伤，去除镜片在粗抛和定型过程中产生的划痕，使镜片表面的光洁度及镜片通透性更佳，满足高精密光学仪器的应用要求。

Double-sided polishing machine

【技术实现步骤摘要】
双面精抛机
本专利技术涉及一种抛光设备，尤其涉及一种镜片双面精抛机。
技术介绍
在现有技术中，抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在60r/min以内，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。然而现有的抛光机只能对工件进行单面抛光，一面抛光完毕后需要停止抛光机将工件翻面继续抛光。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种双面精抛机。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的：一种双面精抛机，包括工作台、控制台、下模和上模，所述下模设置在工作台上，所述下模包括托盘、内齿环、中心齿轮和料盘，所述托盘位于内齿环内，托盘中心开有容纳中心齿轮的通孔，所述料盘放置在托盘上；所述料盘为齿轮盘，内齿环、料盘和中心齿轮依次啮合，内齿环通过电机驱动；所述上模包括压盘、注水盘、升降液缸、驱动电机、控制盒、注水管道和供料管道，压盘位于注水盘的下方，注水盘与压盘之间通过连杆固定连接，驱动电机驱动压盘和注水盘旋转，升降液缸的活塞杆驱动压盘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面精抛机，其特征在于，包括工作台、控制台、下模和上模，所述下模设置在工作台上，所述下模包括托盘、内齿环、中心齿轮和料盘，所述托盘位于内齿环内，托盘中心开有容纳中心齿轮的通孔，所述料盘放置在托盘上；所述料盘为齿轮盘，内齿环、料盘和中心齿轮依次啮合，内齿环通过电机驱动；所述上模包括压盘、注水盘、升降液缸、驱动电机、控制盒、注水管道和供料管道，压盘位于注水盘的下方，注水盘与压盘之间通过连杆固定连接，驱动电机驱动压盘和注水盘旋转，升降液缸的活塞杆驱动压盘和注水盘升降，注水管道和供料管道的出口悬挂设置在注水盘的上方；控制台位于工作台一侧，控制盒和升降液缸的控制器均与控制台电路连接；在中心齿轮上方设...

【技术特征摘要】
1.一种双面精抛机，其特征在于，包括工作台、控制台、下模和上模，所述下模设置在工作台上，所述下模包括托盘、内齿环、中心齿轮和料盘，所述托盘位于内齿环内，托盘中心开有容纳中心齿轮的通孔，所述料盘放置在托盘上；所述料盘为齿轮盘，内齿环、料盘和中心齿轮依次啮合，内齿环通过电机驱动；所述上模包括压盘、注水盘、升降液缸、驱动电机、控制盒、注水管道和供料管道，压盘位于注水盘的下方，注水盘与压盘之间通过连杆固定连接，驱动电机驱动压盘和注水盘旋转，升降液缸的活塞杆驱动压盘和注水盘升降，注水管道和供料管道的出口悬挂设置在注水盘的上方；控制台位于工作台一侧，控制盒和升降液缸的控制器均与控制台电路连接；在中心齿轮上方设置有驱动块，对应的在压盘中心开有与驱动块对应的通孔，压盘上表面对应通孔位置设置有卡块，卡块与驱动块相互卡接；在压盘下表面及托盘上表面均铺设有绒布抛光垫。2.根据权利要求1所述的双面精抛机，其特征在于，所述绒布抛光垫的抛光面上开有多道横竖交叉的纹路。3.根据权利要求1所述的双面精抛机，其特征在于，所述卡块包括活动块和设置在活动块两侧的固定座，活动块通过销轴铰...

【专利技术属性】
技术研发人员：葛旭瑞，
申请(专利权)人：北京陆星科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11