一种彩膜基板及其制造方法、显示设备技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板及其制造方法、显示设备，涉及显示技术领域。彩膜基板包括衬底基板，其定义有显示区及非显示区，非显示区位于显示区外围；第一遮光层，设置于非显示区，且具有第一电导率；第二遮光层，设置于非显示区的远离显示区的一侧，第二遮光层设置在第一遮光层的外围并将第一遮光层包围，述第二遮光层具有第二导电率，其中，第二电导率小于第一电导率。通过上述方案解决现有的彩膜基板容易受静电影响，造成彩膜基板损坏的问题，从而提高彩膜基板的抗静电能力。

A color film substrate and its manufacturing method and display equipment

The invention discloses a color film substrate, a manufacturing method and a display device, which relates to the technical field of display. The color film substrate comprises a substrate, the definition of a display area and a non display area, display area is located in the non display area periphery; the first shading layer is arranged on the non display area, and has a first conductivity; second shading layer arranged on the non display area away from the side of the display area, the second light shielding layer is arranged on the periphery of the first the light shielding layer and the first light shielding layer surrounded by the second light shielding layer having a second conductivity, the conductivity conductivity is less than the first second. The above scheme solves the problem that the existing color film substrate is easily influenced by static electricity, resulting in the damage of the color film substrate, thereby improving the antistatic ability of the color film substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制造方法、显示设备
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种彩膜基板及其制造方法、显示设备。
技术介绍
现有的显示面板以及具有显示面板的显示装置在生产、制造以及运输的过程中常常会受到静电的影响，从而造成显示面板不能正常工作的问题，甚至当静电值达到一定程度时会损坏显示面板，导致显示面板无法发光。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种彩膜基板及其制造方法、显示设备，能够提高显示面板的抗静电能力，从而解决显示面板容易受静电影响，从而无法正常工作的问题。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种彩膜基板，包括：衬底基板，其定义有显示区及非显示区，非显示区位于显示区外围；第一遮光层，设置于非显示区，且具有第一电导率；第二遮光层，设置于非显示区的远离显示区的一侧，第二遮光层设置在第一遮光层的外围并将第一遮光层包围，述第二遮光层具有第二导电率，其中，第二电导率小于第一电导率。为解决上述技术问题，本专利技术采用的另一种一个技术方案是：提供一种彩膜基板的制造方法，包括：提供一衬底基板，衬底基板定义有显示区及非显示区，非显示区位于显示区外围；在衬底基板一侧的非显示区制造具有第一导电率的第一遮光层；在第一遮光层同一层制造具有第二导电率的第二遮光层，第二遮光层设置在第一遮光层的外围并将第一遮光层包围，其中，第二电导率小于第一电导率。为解决上述技术问题，本专利技术采用的又一个技术方案是：提供一种显示设备，包括上述的彩膜基板。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术提出一种彩膜基板及其制造方法、显示设备。其中彩膜基板包括：衬底基板，其定义有显示区及非显示区，非显示区位于显示区外围；第一遮光层，设置于非显示区，且具有第一电导率；第二遮光层，设置于非显示区的远离显示区的一侧，第二遮光层设置在第一遮光层的外围并将第一遮光层包围，述第二遮光层具有第二导电率，其中，第二电导率小于第一电导率。因此，本专利技术通过在彩膜基板非显示区的第一遮光层的外侧添加导电率更小的第二遮光层，使静电更难通过非显示区，从而可以保护显示区的线路不受静电影响而受到损坏。附图说明图1是本专利技术一种彩膜基板一实施例的结构示意图；图2是图1所示的彩膜基板一实施例在II-II’方向上的剖面的结构示意图；图3是图1所示的彩膜基板一实施例在III位置的局部放大图；图4是图1所示的彩膜基板另一实施例在III位置的局部放大图；图5是图1所示的彩膜基板另一实施例在II-II’方向上的剖面的结构示意图；图6是本专利技术一种彩膜基板制造方法的流程示意图；图7是本专利技术一种显示设备一实施例的结构示意图；图8是图7所示的显示设备实施例在VI-VI’方向上的剖面的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施例的技术方案作进一步的详细描述。参阅图1以及图2，图1是本专利技术一种彩膜基板的结构示意图，图2是图1所示的彩膜基板一实施例在II-II’方向上的剖面的结构示意图。其中彩膜基板10包括基层13，基层13设置有显示区11以及非显示区12，非显示区12设置在显示区11的外围，非显示区12上设置有第一遮光层121以及第二遮光层122。第一遮光层121包围显示区11，第二遮光层122设置在第一遮光层121的外围并包围第一遮光层121。其中，第一遮光层121具有第一导电率，第二遮光层122具有第二导电率，第二导电率小于第一导电率。因此，本专利技术通过在彩膜基板10非显示区12的第一遮光层121的外侧添加导电率更小的第二遮光层122，使静电更难通过非显示区，从而可以保护彩膜基板10不受静电影响而受到损坏。在本实施例中的彩膜基板10为液晶显示面板的CF(colourfilter，彩色滤光片)基板。其中，第一遮光层121以及第二遮光层122可以通过光罩显影工艺制备获得，其具体制造方法为：首先，提供一衬底基板，通过光罩显影工艺在衬底基板的一侧蚀刻出所需要的第一遮光层，然后再经过第二次光罩显影工艺蚀刻出第二遮光层，可以将第一遮光层121以及第二遮光层122设置在同一层来减少彩膜基板的厚度。具体制造步骤如后文所示，在此不做赘述。其中，第一遮光层121可以采用彩膜基板10的BM(BlackMatrix，黑色矩阵)层(图中未示出)所使用的材料进行制备，例如金属氧化膜、树脂材料等，BM层的作用包括将显示区分隔为一个一个的单独的像素。BM层通过光罩显影工艺在彩膜基板10上成形。其中第一遮光层121可以使用BM层相同的材料并与BM层同时成型。在制造BM层时，通过调整光罩就可以同时得到BM层以及第一遮光层121，这样可以使制作工艺简单，便于的生产。在其他实施例中，还可以设置第一遮光层121的材料与BM层的材料不同。即根据需要对第一遮光层121的材料进行选取。第二遮光层122可以采用彩色光阻进行制备，彩色光阻材料可以是红色(R)、绿色(G)以及蓝色(B)光阻中的至少一种。本实施例中，基层13一侧设置有显示区11以及非显示区12，非显示区12设置在显示区11的外围，非显示区12上设置有第一遮光层121以及第二遮光层122。第一遮光层121包围显示区11，第二遮光层122设置在第一遮光层121的外围并包围第一遮光层121。其中，第二遮光层122是单色光阻层，可以由红色(R)、绿色(G)以及蓝色(B)光阻中的任意一种光阻形成，第一遮光层121的导电率大于第二遮光层122。因此，在制造第二遮光层122时选用导电率小于第一遮光层121的光阻材料，可以屏蔽外界静电，防止外界静电损坏彩膜基板10。在其他实施例中，第二遮光层122还可以由不同色的光阻层形成。其中，第二遮光层122可以由不同的色阻在同一层中交替排列而成，或者第二遮光层122也可以由不同的光阻层交替叠加形成。对于第二遮光层122可以由不同的色阻在同一层中交替排列而成的情况，第二遮光层122可以采用不同色的带状光阻层交替排列而成，或者利用不同色的带状光阻层交错排列而成。请参阅图3，图3是图1所示的彩膜基板一实施例在III处的局部放大图。其中，第二遮光层122由带状红色光阻层1221、带状绿色光阻层1222以及带状蓝色光阻层1223交替排列而成，通过将光阻层交替排列可以减小第二遮光层122的导电率，使抗静电性能更好。在本实施例中，光阻的排列顺序是，在逐渐远离第一遮光层121的方向上，带状光阻层依次是红色光阻层1221、绿色光阻层1222以及蓝色光阻层1223，其排列方式可以简称为RGB的排列方式；在其他实施例中，带状光阻层依次还可以是红色光阻层1221、蓝色光阻层1223以及绿色光阻层1222，简称RBG的排列方式。以此类推，带状光阻层的排列方式还可以是GRB、GBR、BGR以及BRG的排列方式。更进一步的，第二遮光层122还可以由两种带状光阻层交替排列而成，其排列方式可以是RG、RB、GR、GB、BR以及BG的排列方式。更进一步的，参阅图4，第二遮光层122还可以由带状的红色光阻层1221、绿色光阻层1222以及蓝色光阻层1223交替排列拼接而成。对于第二遮光层122由不同的光阻层交替叠加形成的情况，请参阅图5，其中图5是图1所示的彩膜基板另一实施例在II-II’方向上的剖面的结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，其定义有显示区及非显示区，所述非显示区位于所述显示区外围；第一遮光层，设置于所述非显示区，且具有第一电导率；第二遮光层，设置于所述非显示区的远离所述显示区的一侧，所述第二遮光层设置在所述第一遮光层的外围并将所述第一遮光层包围，具有第二导电率，其中所述第二电导率小于所述第一电导率。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板，其定义有显示区及非显示区，所述非显示区位于所述显示区外围；第一遮光层，设置于所述非显示区，且具有第一电导率；第二遮光层，设置于所述非显示区的远离所述显示区的一侧，所述第二遮光层设置在所述第一遮光层的外围并将所述第一遮光层包围，具有第二导电率，其中所述第二电导率小于所述第一电导率。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一遮光层是黑矩阵遮光层，所述第二遮光层是彩色光阻层。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二遮光层是单色光阻层。4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二遮光层由不同色光阻层拼接而成。5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述不同色光阻层由不同色的带状光阻层交替排列而成，或者所述不同色光阻层由不同色的带状光阻层交错排列而成。6.一种彩膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪光辉，龚强，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42