陶瓷零件制备方法、陶瓷零件、指纹识别模组及电子设备技术

技术编号:17023689 阅读:32 留言:0更新日期:2018-01-13 14:27
本申请实施例公开了一种陶瓷零件制备方法、陶瓷零件、指纹识别模组及电子设备。该方法包括:准备陶瓷基体;在所述陶瓷基体表面形成颜色膜层,得到彩色陶瓷零件,其中,所述颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层、以及至少一层折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层,并且所述二氧化硅膜层与所述折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层交替设置,所述颜色膜层的表层为二氧化硅膜层;对所述彩色陶瓷零件进行烧结处理。采用上述技术方案提高颜色膜层与陶瓷基体的结合强度,可以有效地避免陶瓷零件表面的颜色膜层局部脱落的情况发生。

【技术实现步骤摘要】
陶瓷零件制备方法、陶瓷零件、指纹识别模组及电子设备
本申请实施例涉及电子设备的零件制备技术,尤其涉及一种陶瓷零件制备方法、陶瓷零件、指纹识别模组及电子设备。
技术介绍
随着材料技术的发展,陶瓷产品凭借其细腻的质感,优异的硬度和耐磨性,以及很好的热稳定性等特点,越来越多的在电子设备上被使用。为了满足人们对电子设备,尤其是智能手机的外观要求,通常需要对用于电子产品的陶瓷零件进行着色,以得到颜色多变的彩色陶瓷。但是,相关技术中,颜色层与陶瓷零件之间膜层应力较大,导致颜色层与陶瓷零件之间的附着力欠佳。在电子产品长期使用过程中容易出现颜色层部分脱落的现象,颜色层脱落后导致表面外观呈现较大色差。
技术实现思路
本申请实施例提供一种陶瓷零件制备方法、陶瓷零件、指纹识别模组及电子设备,可以增加颜色膜层与陶瓷基体之间的附着力,有效地提高陶瓷零件的抗腐蚀性及耐磨性。第一方面,本申请实施例提供了一种陶瓷零件制备方法,包括:准备陶瓷基体;在所述陶瓷基体表面形成颜色膜层,得到彩色陶瓷零件,其中,所述颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层、以及至少一层折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层,并且所述二氧化硅膜层与所述折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层交替设置,所述颜色膜层的表层为二氧化硅膜层;对所述彩色陶瓷零件进行烧结处理。第二方面,本申请实施例还提供了一种陶瓷零件,该陶瓷零件采用如上述第一方面所述的陶瓷零件制备方法制备。其中,该陶瓷零件包括移动终端后壳盖板、指纹识别盖板、按键或可穿戴设备外壳。第三方面,本申请实施例还提供了一种指纹识别模组,该指纹识别模组包括上述第二方面所述的指纹识别盖板。第四方面,本申请实施例还提供一种电子设备,该电子设备包括如上述第二方面所述的陶瓷零件。本申请实施例提供一种陶瓷零件制备方案,通过准备陶瓷基体;在该陶瓷基体表面形成颜色膜层,得到彩色陶瓷零件,其中,所述颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层、以及至少一层折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层;对该彩色陶瓷零件进行烧结处理,使得颜色膜层结晶与陶瓷基体融合,膜层之间的空隙与晶界逐渐减小直至没有明显的界限,从而使得颜色膜层包括的各个膜层,以及颜色膜层与陶瓷基体之间的应力减小,附着力增加,提高了结合强度,可以有效地避免陶瓷零件表面的颜色膜层局部脱落的情况发生。附图说明图1是本申请实施例提供的一种陶瓷零件制备方法的流程图;图2是本申请实施例提供的一种金色陶瓷零件的截面示意图;图3是本申请实施例提供的另一种陶瓷零件制备方法的流程图;图4是本申请实施例提供的一种陶瓷零件的截面示意图;图5是本申请实施例提供的一种指纹识别模组的爆炸图;图6是本申请实施例提供的一种电子设备的示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本申请,而非对本申请的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本申请相关的部分而非全部结构。在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是,一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各步骤描述成顺序的处理,但是其中的许多步骤可以被并行地、并发地或者同时实施。此外,各步骤的顺序可以被重新安排。当其操作完成时所述处理可以被终止,但是还可以具有未包括在附图中的附加步骤。所述处理可以对应于方法、函数、规程、子例程、子程序等等。智能手机的外壳包括塑料外壳和金属外壳等,虽然塑料外壳的成本较低,但是,无论是握持时的手感,还是其外观效果均较差,已经不能满足人们的需求。金属外壳若为一体式结构容易对无线电信号造成静电屏蔽,对智能手机的天线性能存在影响,因此,目前常用的解决方式是将金属外壳进行分割,使其呈现不连续的状态,进而不会影响手机的天线性能。此种形式分割条同样会影响手机外壳的美观性,不能实现手机外壳全金属结构。相关技术中还出现采用陶瓷材料作为智能手机外壳的方案,常用的方案是通过染色剂为陶瓷外壳着色,或者,在陶瓷外壳表面镀上颜色层。但是,采用将陶瓷外壳浸入染色剂的方式为陶瓷外壳着色,得到的彩色陶瓷零件的颜色艳丽程度达不到要求;采用在陶瓷零件表面镀上颜色层的方式,由于热膨胀系数的差异导致颜色层与陶瓷零件之间的膜层应力较大,附着力欠佳,容易出现颜色层部分脱落的问题。本申请实施例提供的陶瓷零件制备方案可以很好的解决上述的彩色陶瓷外观不艳丽以及颜色层易脱落的问题。图1为本申请实施例提供的一种陶瓷零件制备方法的流程图,本申请实施例适用于制备颜色膜层与陶瓷基体结合牢固的彩色陶瓷零件的情况。如图1所示,该方法包括:步骤110、准备陶瓷基体。其中,陶瓷基体包括加工成具有预设结构的陶瓷材料。准备具有设定结构的陶瓷基体可以是将借助预设的模具将陶瓷材料烧制为陶瓷基体。还可以是直接购买已制备好的陶瓷基体。去除准备好的陶瓷基体表面的污渍,将其装挂于真空炉内。针对真空炉进行抽真空处理,真空度越高,镀膜效果越好,但是花费在抽真空操作上的时间也会随着真空度的提高而增加。为了平衡时间与真空度,可以在真空炉内的压强不小于2×10-3Pa时,停止抽真空操作。步骤120、在所述陶瓷基体表面形成颜色膜层,得到彩色陶瓷零件。其中,颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层、以及至少一层折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层,并且该二氧化硅膜层与该折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层交替设置,该颜色膜层的表层为二氧化硅膜层。为了使陶瓷零件表面达到抗脏污易清洁的要求,可以在其表面镀上低表面能的镀层以降低其表面能,从而达到钝化的效果。其中,低表面能材料可以是低表面能自我限制有机氟化物,也可能称为防指纹膜。该低表面能自我限制有机氟化物可以选用大金、信越、道康宁等公司生产的产品。由于低表面能自我限制有机氟化物的主要反应基团是与二氧化硅表面的羟基(Si-OH)进行缩合反应,但是,陶瓷零件表面并无Si-OH,所以若要在陶瓷零件上使用此类的有机氟化物,必须在陶瓷零件的表层形成二氧化硅膜层,再镀低表面能的有机氟化物。由上可知,为了更好的与防指纹膜结合,颜色层的表层需为二氧化硅膜层。可选的,该折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层可以为单晶硅膜层,进而,该颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层以及至少一层单晶硅膜层。由于单晶硅具有良好的消光特性(或称为吸光特性),可以更好的吸收不需要的颜色光,并反射需要的颜色光,使彩色陶瓷零件的表面颜色更纯净。可以根据与陶瓷零件的预期颜色匹配的光学曲线以及膜层材料的折射率确定膜层数量与各个膜层的厚度。示例性的,将预期颜色输入设定的应用程序(该应用程序根据已有的光学理论模型,可以匹配与预期彩色陶瓷对应的光学曲线,从而,确定膜层数量与膜层厚度),匹配出与该预期颜色对应的光学曲线,再输入用于形成各个膜层的物质,即可确定各个膜层的厚度以及膜层数量。例如,预期颜色为金色,以折射率不同的二氧化硅和单晶硅形成颜色膜层,经设定的应用程序计算得到需要5~7层的二氧化硅膜层与单晶硅膜层交替设置,以及得到形成预设厚度的各个膜层所需的镀膜时间,通过控制镀膜时间实现在陶瓷零件表面镀上预设数量的膜层,以在陶瓷零件表面形成颜色膜层,通过该颜色膜层使陶瓷零件呈现金色的外观。以金色陶瓷零件为例,由7层(可以是5层或6层,如果颜色膜层中二氧化硅膜层与单晶硅膜层共本文档来自技高网...
陶瓷零件制备方法、陶瓷零件、指纹识别模组及电子设备

【技术保护点】
一种陶瓷零件制备方法,其特征在于,包括:准备陶瓷基体;在所述陶瓷基体表面形成颜色膜层,得到彩色陶瓷零件,其中,所述颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层、以及至少一层折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层,并且所述二氧化硅膜层与所述折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层交替设置,所述颜色膜层的表层为二氧化硅膜层;对所述彩色陶瓷零件进行烧结处理。

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷零件制备方法,其特征在于,包括:准备陶瓷基体;在所述陶瓷基体表面形成颜色膜层,得到彩色陶瓷零件,其中,所述颜色膜层包括至少一层二氧化硅膜层、以及至少一层折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层,并且所述二氧化硅膜层与所述折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层交替设置,所述颜色膜层的表层为二氧化硅膜层;对所述彩色陶瓷零件进行烧结处理。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述折射率超过二氧化硅的材料对应的膜层包括单晶硅膜层。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,采用氮化硅膜层、碳化硅膜层、氧化铌膜层中的至少一种替代所述单晶硅膜层。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述陶瓷基体表面形成颜色膜层,包括:以硅作为靶材,采用磁控溅射工艺在所述陶瓷基体表面交替形成单晶硅膜层及二氧化硅膜层,其中,所述单晶硅膜层的面积、二氧化硅膜层的面积均与所述陶瓷基体的表面积相等。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,以硅作为靶材,采用磁控溅射工艺在所述陶瓷基体表面交替形成单晶硅膜层及二氧化硅膜层,包括:步骤一、以硅作为靶材,向真空炉内持续通入氧气,采用磁控溅射工艺在所述陶瓷基体表面形成预设厚度的二氧化硅膜层;步骤二、停止向真空炉内通入氧气,并排出所述真空炉内剩余氧气,采用磁控溅射工艺在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋正南
申请(专利权)人:广东欧珀移动通信有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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