具有可倾斜结构的微机电器件和可倾斜结构的位置检测制造技术

本申请涉及具有可倾斜结构的微机电器件和可倾斜结构的位置检测。公开了微机电器件(50)，其中，平台(52)形成在顶部衬底中并且被配置为通过旋转角度(θ)旋转。平台具有狭缝(70)并且面对腔(53)。集成的多个光电检测器(70)形成在底部衬底中以检测通过狭缝的光，并生成与通过狭缝的光相关的信号。狭缝的面积随着平台的旋转角度而改变并引起衍射，其或多或少根据角度而被标记。相对于狭缝布置在不同位置的两个光电检测器的信号之间的差值产生该角度。

Position detection of microprocessor-based electrical appliances and inclined structures with tilted structure

This application relates to the position detection of a micro-computer electrical appliance and an inclined structure with a tilted structure. A micro-computer electrical device (50) is disclosed, in which a platform (52) is formed on a top substrate and configured to rotate through a rotating angle (theta). The platform has a slit (70) and is faced with a cavity (53). A plurality of integrated photoelectric detectors (70) are formed on the bottom substrate to detect the light passing through the slit and generate signals related to the light through the slit. The area of the slit changes with the angle of the platform and causes diffraction, which is more or less marked by the angle. This angle is generated by the difference between the signals of the two photodetectors arranged in different locations with respect to the slit.

【技术实现步骤摘要】
具有可倾斜结构的微机电器件和可倾斜结构的位置检测
本专利技术涉及具有可倾斜结构的微机电器件。具体地，以下将参照通过MEMS(微机电系统)技术得到的微反射镜，但不丧失一般性。
技术介绍
已知微机电器件具有反射镜结构，该反射镜结构使用半导体材料的技术。这些微机电器件例如用于便携式装置，诸如便携式计算机、膝上型电脑、笔记本(包括超薄笔记本)、PDA、平板电脑、蜂窝电话、智能手机等，其用于光学应用，尤其用于根据期望的形态引导由光源生成的光束。由于小尺寸，上述器件能够满足关于空间占用(面积和厚度二者)的严格要求。例如，微机电反射镜器件用于小型化的投影仪模块(所谓的微型投影仪)，其能够在远处投射图像或者生成光的期望图案。微机电反射镜器件通常包括悬置在空腔上方并且从半导体材料的主体开始形成的反射镜元件，从而可移动(通常为倾斜或旋转的移动)用于根据期望引导入射光束。例如，图1是微型投影仪9的示意图，其包括生成光束2的光源1，通常为激光源，光束2由三个单色束形成(针对每个基础颜色存在一束)，光束经由仅示意性示出的光学系统3、被反射镜元件5朝向屏幕6偏转。在所示实例中，反射镜元件5是二维型，其被控制以绕本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微机电器件(50；150)，包括：平台(52)，被配置为通过旋转角度(θ)来转动；狭缝(70)，在所述平台中；腔(53)，面对所述平台的第一侧(52A)；以及集成的多个光电检测器(70)，面对所述腔(53)和所述平台的第一侧。

【技术特征摘要】
2016.06.30 IT 1020160000680071.一种微机电器件(50；150)，包括：平台(52)，被配置为通过旋转角度(θ)来转动；狭缝(70)，在所述平台中；腔(53)，面对所述平台的第一侧(52A)；以及集成的多个光电检测器(70)，面对所述腔(53)和所述平台的第一侧。2.根据权利要求1所述的器件，其中，所述狭缝(70)具有中心(B)，并且所述多个光电检测器(71)包括被布置为与面向所述平台(52)的所述腔(53)的底壁(53A)相邻的至少一个第一光电检测器(71A)和至少一个第二光电检测器(71B)，所述第一光电检测器和所述第二光电检测器被布置为与穿过所述狭缝(70)的中心且垂直于所述底壁(53A)的垂直线相距不同的距离。3.根据权利要求2所述的器件，其中，所述第一光电检测器(71A)沿着所述垂直线布置，并且所述第二光电检测器(71B)被布置为与所述垂直线相距一距离。4.根据前述权利要求中任一项所述的器件，其中，所述多个光电检测器(70)包括以从直线、四边形、圆形、多边形、椭圆形、环形和环形截面中选择的构型进行布置的光电检测器的阵列。5.根据前述权利要求中任一项所述的器件，还包括用于支撑所述平台的结构(51)，所述结构包括接合到一起的第一衬底(60)和第二衬底(61)，其中所述第一衬底(60)具有面对所述第二衬底(61)的顶面(60A)并形成所述腔(53)的底壁(53A)，所述多个光电检测器(70)被集成在所述第一衬底(60)中或所述第一衬底(60)上；所述第一衬底或所述第二衬底(61)形成横向地界定所述腔(53)的承载壁(54)并包括半导体材料。6.根据权利要求5所述的器件，包括在所述腔(53)内位于所述底壁(53A)上或所述承载壁上的抗反射结构(90)。7.根据前述权利要求中任一项所述的器件，其中，所述狭缝(70)具有包括在1μmx10μm和5μmx50μm之间的尺寸。8.根据前述权利要求中任一项所述的器件，其中，所述狭缝(70)沿着所述旋转轴(A)相对于所述平台(52)布置在中心处。9.根据权利要求2或从属于权利要求2的权利要求3至8中任一项所述的器件，还包括处理单元(75)，接收分别由所述第一光电检测器(71A)和所述第二光电检测器(71B)生成的第一光强度信号和第二光强度信号，所述处理单元包括减法器(76)和计算单元(77)，所述减法器被配置为生成所述第一光强度信号和所述第二光强度信号之间的差值信号，所述计算单元用于基于所述差值信号计算所述平台(52)的旋转角度。10.根据权利要求9所述的器件，其中，所述计算单元(77)基于以下等式计算所述平台(52)的旋转角度(θ)：θ＝m[I(0,θ)-I(X,θ)]+q其...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·卡尔米纳蒂，E·杜奇，S·康蒂，
申请(专利权)人：意法半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：意大利,IT