碱性洗净剂制造技术

本发明专利技术提出一种碱性洗净剂，由碱性成分（Ａ）、多价醇类（Ｂ）及醇类（Ｃ）所组成。其中，多价醇类（Ｂ）为不含氮原子且平均分子量在９２～４００的三～八价的醇类。醇类（Ｃ）为选自不含氮原子且平均分子量在６２～２５０的二价醇类（Ｃ１）及不含氮原子且平均分子量在３２～５００的一价醇类（Ｃ２）所组成的族群中至少一醇类。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种用以去除附着于电子部件、金属部件及陶瓷部件等部件上的油脂、树脂及微粒等的碱性洗净剂，更详细地说，是关于一种用作液晶面板的垂直配向聚亚胺膜(特别是半烧成膜)的剥离液，或是用作半导体组件电路及液晶面板的半导体组件电路等电路制造时的光阻剥离液的碱性洗净剂。
技术介绍
一直以来，碱性洗净剂相较于中性洗净剂，因为对于油脂、树脂及微粒等的去除能力较为显著，所以广泛地使用在电子部件、金属部件及陶瓷部件等的生产现场。但是，因为铝等非铁金属容易被碱性洗净剂所腐蚀，所以目前在一部份或全部使用铝的电子部件等部件的洗净方法，是不会使用碱性洗净剂的。例如是电子部件，特别是液晶面板的聚亚胺配向膜，之前是水准配向型，随着对广视角的液晶面板的需求越来越强，垂直配向型的聚亚胺配向膜有增加的趋势。如果是水准配向型的聚亚胺配向膜玻璃基板，在完全烧成(烧成温度约180℃)前的半烧成状态，此时不合格品可以N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone)等溶剂剥离其配向膜，且不会腐蚀铝薄膜(内联机)。但是在配向膜为垂直配向型的聚亚胺配向膜时，因为其在半烧成状态的时候，无法使用N-甲基吡咯烷酮等溶剂加以剥离，所以须使用碱性洗净剂加以剥离，如日本专利申请案早期公开第平6-306661号所述者。在这个时候，因为玻璃基板的铝薄膜(内联机)会被腐蚀，所以铝薄膜的部分用蜡等物质进行保护再进行洗净，接着再以烃类溶剂等溶剂去除蜡以使基板及铝薄膜复原，或是将配向膜及铝薄膜同时完全剥离及溶解，而仅使基板复原。此外，关于半导体组件电路等的制程，为了去除形成内联机时所产生的光阻残留物，一直以来都是使用胺系剥离剂来进行。但是，胺系剥离剂具有腐蚀基板上的铝及钨等的金属内联机及金属薄膜的问题。这个问题可以使用含有第四级铵氢氧化物、糖类的水溶液来解决，日本专利申请案早期公开第平4-48633号所述者，但是在光阻的剥离性及抑制金属内联机的腐蚀这两方面，并无法同时完全满足。
技术实现思路
本专利技术的目的就是提供一种金属(特别是铝)非腐蚀性佳的新型洗净剂、洗净方法及以此洗净剂进行洗净的电子部件。本专利技术人为达成上述目的，积极研究而完成本专利技术。换言之，本专利技术提出一种碱性洗净剂，由碱性成分(A)、不含氮原子且数量平均分子量在92-400的三-八价的多价醇类(B)、及选自不含氮原子且数量平均分子量在62-250的二价醇类(C1)及不含氮原子且数量平均分子量在32-500的一价醇类(C2)所组成的族群中至少一醇类(C)所组成。本专利技术提出一种洗净方法，适用于电子部件、电器部件或铝建材，其特征在于使用本专利技术的洗净剂，以选自超音波洗净、喷淋(shower)洗净、喷洒(spray)洗净、浸渍及浸渍摇动中一或多种的方法进行洗净。本专利技术提出一种电子部件、电器部件或铝建材，是以本专利技术的洗净方法进行洗净、冲洗后，干燥而得。本专利技术的洗净剂具有金属(特别是铝)非腐蚀性佳的优点，例如是液晶面板用的玻璃基板及半导体基板的铝内联机、滤光部件不会受到破坏，且半烧成垂直配向聚亚胺膜、光阻可在短时间内被剥离及洗净。因此，关于配向膜剥离洗净制程(玻璃基板复原制程)，不再是如习知般只能使玻璃基板复原，还可以同时使铝内联机、滤光部材复原。另外，本专利技术的洗净剂在去除油份、指纹、树脂及微粒的能力也是相当出色。为让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，作详细说明如下。具体实施例方式在本专利技术中的碱性成分(A)，例如是(A1)金属氢氧化物、(A2)碳酸盐、(A3)磷酸盐、(A4)硅酸盐、(A5)氨、(A6)羟胺、(A7)下列一般式(1)所示的有机碱及这些物质的混合物。 ——(R5O)p-H(2)式中，R1例如是碳数为1-24的烃基，更佳的是碳数1-14的烃基，R2、R 3及R4中每一个为氢原子、碳数为1-24(更佳的是碳数为1-14)的烃基或一般式(2)所表示的官能基，R5为碳数2-4的烷撑基，p为1-6的整数。在一般式(1)中，R1例如是直链或分枝的饱和或不饱和烃基、脂环式烃基及含有芳香环的烃基等。直链或分枝的饱和烃基，例如是烷基(甲基、乙基，正、异、二级及三级丁基，辛基、2-乙基己基、十八烷基(octadecyl)等)。直链或分枝的不饱和烃基，例如是烯基(乙烯基、丙烯基、烯丙基及丁烯基等)。脂环式烃基，例如是环烷基(环己烷等)。含有芳香环的烃基，例如是芳烃基(苯基及萘基等)、芳烷基(苯甲基及苯乙基等)、烷芳烃基(甲苯基、乙苯基、壬苯基、甲萘基及乙萘基等)。在这些烃基中，以洗净性的观点来看，较佳的是烷基及烯基。若R1碳数在24以下，会有较佳的洗净性(或剥离性，以下同)。R2、R3及R4为烃基的时候，此烃基例如是与R1相同的烃基，其较佳的烃基也如同R1。若R2、R3及R4碳数在24以下，会有良好的洗净性。在一般式(2)中，R5例如是乙烯基、丙烯基及丁烯基等碳数为2-4的烯烃基。若R5碳数在4以下，会有良好的洗净性。p为1-6(较佳为1-3)的整数，若p在6以下，会有良好的洗净性。有机碱(A7)，例如是结合氮原子的下列(1)-(5)的阳离子和氢氧化物阴离子的盐及这些物质的混合物中至少一个烃基。(1)含有四个烃基的四级铵阳离子含有四个碳数1-6的烷基的四烃基铵，例如是四甲基铵、四乙基铵、四(正或异)丙基铵、四(正、异或三级)丁基铵、四戊基铵及四己基铵等。含有三个碳数1-6的烷基的四烃基铵，例如是三甲基庚基铵、三甲基辛基铵、三甲基癸基铵、三甲基十二烷基铵、三甲基硬脂基(stearyl)铵、三甲基苯甲基铵、三乙基己基铵、三乙基辛基铵、三乙基硬脂基铵、三乙基苯甲基铵、三丁基苯甲基铵、三丁基辛基铵及三己基硬脂基铵等。含有二个碳数1-6的烷基的四烃基铵，例如是二甲基二辛基铵、二乙基二辛基铵及二甲基二苯甲基铵等。含有一个碳数1-6的烷基的四烃基铵，例如是甲基三辛基铵、乙基三辛基铵及甲基辛基二苯甲基铵等。(2)含有三个烃基的三级胺阳离子含有三个碳数1-6的烷基的三烃基胺阳离子，例如是三甲基胺阳离子、三乙基胺阳离子及三丁基胺阳离子等。含有二个碳数1-6的烷基的三烃基胺阳离子，例如是二甲基辛基胺阳离子、二甲基硬脂基胺阳离子、二乙基辛基胺阳离子、二丁基辛基胺阳离子及二甲基苯甲基胺阳离子等。含有一个碳数1-6的烷基的三烃基胺阳离子，例如是甲基二辛基胺阳离子、乙基二辛基胺阳离子及甲基辛基苯甲基胺阳离子等。(3)含有二个烃基的二级胺阳离子含有二个碳数1-6的烷基的二烃基胺阳离子，例如是二甲基胺阳离子、二乙基胺阳离子、二丁基胺阳离子及二己基胺阳离子等。含有一个碳数1-6的烷基的二烃基胺阳离子，例如是甲基辛基胺阳离子、乙基辛基胺阳离子、丁基辛基胺阳离子、己基辛基胺阳离子、甲基硬脂基胺阳离子、甲基苯甲基胺阳离子及乙基苯甲基胺阳离子等。(4)含有一个烃基的一级胺阳离子单烃基(碳数1-6)胺阳离子，例如是甲基胺阳离子、乙基胺阳离子、丁基胺阳离子及己基胺阳离子等。(5)含有氧烯烃基的阳离子(i)含有一个氧烯烃基的阳离子，例如是羟乙基三甲基胺阳离子、羟乙基三乙基胺阳离子、羟丙基三甲基胺阳离子、羟丙基三乙基胺阳离子、羟乙基二甲基乙基胺阳离子及羟乙基二甲基辛基胺阳离子等。(ii)含有二个氧烯烃基的阳离子，例如是二羟本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种碱性洗净剂，其特征在于其包括：　　　　一碱性成分（Ａ）；　　　　一多价醇类（Ｂ），不含氮原子且平均分子量在９２～４００的三～八价醇类；以及　　　　至少一醇类（Ｃ），选自不含氮原子且平均分子量在６２～２５０的二价醇类（Ｃ１）及不含氮原子且平均分子量在３２～５００的一价醇类（Ｃ２）所组成的族群。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山田康博，川口幸治，
申请(专利权)人：三洋化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]