一种阵列基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，以改善因标记图案的厚度，导致阵列基板的上表面在标记图案位置处高低不平的问题；进而解决在对阵列基板进行摩擦取向过程中，经过标记图案位置处时，导致摩擦布变形甚至破损的问题，从而改善显示效果。该阵列基板，包括位于阵列基板的标记区域中第一子区域的标记图案，还包括绝缘层；在标记区域内，绝缘层设置于除第一子区域以外的第二子区域，且标记图案的厚度与绝缘层的厚度之差小于标记图案的厚度；或者，在标记区域内，绝缘层覆盖标记图案，且绝缘层位于第一子区域的部分和标记图案的厚度和，与绝缘层位于第二子区域的部分的厚度之差，小于标记图案的厚度。

An array substrate and its preparation method and display device

The embodiment of the invention provides an array substrate and a preparation method thereof, display device, relates to the technical field of display, so as to improve the labeling pattern thickness leads to the upper surface of the substrate in the array pattern position mark uneven problem; and solve in the array substrate friction orientation process, after marking pattern position the problem of damage, even lead to friction cloth deformation, so as to improve the display effect. The array substrate comprises a first sub region marking area is located in the array substrate in marking pattern, also includes an insulating layer; in the marked areas, the insulation layer is arranged on the first sub region except second sub regions, and the thickness of the differential marking pattern and thickness of insulating layer is less than the thickness of the marking patterns; or, in in the marked area, an insulating layer covering the marking patterns, and the insulation layer is located on the first sub region and the marking patterns and the thickness of insulation layer, and is located in the second sub region of the part thickness difference is less than the thickness of the marking patterns.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
对于液晶显示面板，在制作阵列基板时，为了方便阵列基板和对盒基板对合，如图1所示，通常在形成栅极的同时，在非显示区域形成标记图案(Mark)11，之后，在衬底基板上形成覆盖标记图案11的栅绝缘层薄膜12和钝化层薄膜13。然而，由于标记图案11具有一定厚度，因此，在非显示区域中有标记图案11的位置形成台阶，当采用摩擦辊对阵列基板进行摩擦取向时，摩擦辊上的摩擦(rubbing)布经过台阶时容易变形甚至破损，变形甚至破损的摩擦布经过阵列基板的显示区域，会影响阵列基板取向层沟槽的形成、及后续液晶的滴注，这样一来，当阵列基板应用于显示装置显示时，将形成显示斑(Mura)，影响显示装置的显示效果。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，以改善因标记图案的厚度，导致阵列基板的上表面在标记图案位置处高低不平的问题；进而解决在对阵列基板进行摩擦取向过程中，经过标记图案位置处时，导致摩擦布变形甚至破损的问题，从而改善显示效果。为达到上述目的，本专利技术的实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括位于所述阵列基板的标记区域中第一子区域的标记图案，其特征在于，还包括绝缘层；在所述标记区域内，所述绝缘层设置于除所述第一子区域以外的第二子区域，且所述标记图案的厚度与所述绝缘层的厚度之差小于所述标记图案的厚度；或者，在所述标记区域内，所述绝缘层覆盖所述标记图案，且所述绝缘层位于所述第一子区域的部分和所述标记图案的厚度和，与所述绝缘层位于所述第二子区域的部分的厚度之差，小于所述标记图案的厚度。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括位于所述阵列基板的标记区域中第一子区域的标记图案，其特征在于，还包括绝缘层；在所述标记区域内，所述绝缘层设置于除所述第一子区域以外的第二子区域，且所述标记图案的厚度与所述绝缘层的厚度之差小于所述标记图案的厚度；或者，在所述标记区域内，所述绝缘层覆盖所述标记图案，且所述绝缘层位于所述第一子区域的部分和所述标记图案的厚度和，与所述绝缘层位于所述第二子区域的部分的厚度之差，小于所述标记图案的厚度。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层为一层；或者，所述绝缘层包括第一绝缘层和第二绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述标记图案、且设置于所述第二子区域，所述第二绝缘层设置于所述第二子区域、且位于所述第二绝缘层背离衬底基板的一侧。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层为栅绝缘层；或者，所述第一绝缘层为栅绝缘层，所述第二绝缘层为钝化层。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述栅绝缘层的厚度与所述标记图案的厚度相等；或者，所述钝化层的厚度与所述标记图案的厚度相等。5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的阵列基板。6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成金属层，所述金属层包括：位于所述阵列基板标记区域中的第一子区域的标记图案；在设置有所述金属层的所述衬底基板上形成绝缘层，所述绝缘层包括：位于所述第二子区域的部分，且所述绝缘层未设置于所述第一子区域；其中，所述标记图案的厚度与所述绝缘层的厚度之差小于所述标记图案的厚度；所述第二子区域为所述标记区域中除所述第一子区域以外的区域。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在设置有所述金属层的衬底基板上形成绝缘层，具体包括：在设置有所述金属层的所述衬底基板上形成第一绝缘层薄膜，并在所述第一绝缘层薄膜上方形成第一光刻胶图案，所述第一光刻胶图案位于所述第一子区域以外、且至少设置于所述第二子区域；在形成有所述第一光刻胶图案的所述衬底基板上形成第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张光明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11