The invention discloses a polymer prepared by the following methods: styrene monomer, 4 Vinyl benzocyclobutene, initiator and organic solvent mixture, reaction under the protection of inert gas, cooling after the reaction, the reaction mixture precipitation solvent the polymer precipitated, filtered, vacuum drying polymer. The invention also discloses the application of the polymer as the anti reflection layer and / or the hard mask layer material of the photolithography process. The carbon content of polymer of the present invention is more than 85%, to meet the high selectivity to the desired plasma etching process, with high aspect ratio and high resolution image transfer. At the same time, with excellent solubility and spin coating, a good film coating can be formed on the photolithography layer. In addition, the polymer can be quickly crosslinked to ensure that the solvent is not dissolved in the solvent of the material on the upper part of the polymer. The polymer has a controllable optical index to meet the anti reflective properties of the material layer when 193nm or other wavelengths are photolithography.
【技术实现步骤摘要】
具有高碳含量和可控光学指数的可交联聚合物及其合成方法和应用
本专利技术涉及具有高碳含量和可控光学指数的可交联聚合物及其合成方法和应用,该聚合物具有可控光学指数包括折射指数(n)和消光系数(k)值,以及在有机溶剂中优良的溶解性,旋涂成膜性能以及快速热交联能力。
技术介绍
半导体领域研究人员在不断探索如何让器件特征尺寸最小化,从而提高产率、降低成本,同时提高芯片计算能力。在光刻技术中,研究人员使用越来越短的光波长、更先进的材料和光刻工艺来克服器件特征尺寸最小化带来的技术困难。光刻工艺使用抗反射涂层使成像层和底层之间的反射率最小化以提高分辨率。然而,抗反射涂层材料可能由于与成像层相似的基本元素组成,使成像层的蚀刻选择性变差。另外由于光刻胶层材料一般缺乏为随后的蚀刻提供足够的抗蚀性以使所需光刻图形有效地转移到光刻胶材料之下的材料层,因此大部分光刻工艺中需要硬掩模层。硬掩模层用作光刻胶层和需要图案转移的目标材料层之间的中间层,从光刻胶层接受图形并转移给目标材料层。硬掩模层应具有优秀的蚀刻选择性并应当能够耐受转移图形所需的蚀刻工艺。光刻工艺优选具有抗反射所需光学性能,同时具有优蚀刻选择性涂层材料,其可同时兼顾抗反射涂层和硬掩模层二合一的功能,因此可以减少光刻过程所需的材料和工艺步骤。
技术实现思路
本专利技术的目的提供一种新型高碳含量和可控光学指数的可热交联聚合物。本专利技术的另一个目的是提供所述的聚合物的合成方法。本专利技术的另一个目的是提供所述的聚合物的应用。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的:一种聚合物,由苯乙烯类单体和4-乙烯基苯并环丁烯共聚而成。本专利技术 ...
【技术保护点】
一种聚合物,其特征在于所述的聚合物由苯乙烯类单体和4‑乙烯基苯并环丁烯共聚而成;所述的聚合物是由以下方法制备得到的:将苯乙烯类单体、4‑乙烯基苯并环丁烯、引发剂和有机溶剂混合后,在惰性气体保护下反应,反应结束后降温,将反应液倒入沉析溶剂中使聚合物沉淀出来,过滤,真空干燥得聚合物;其中,所述的苯乙烯类单体如式
【技术特征摘要】
1.一种聚合物,其特征在于所述的聚合物由苯乙烯类单体和4-乙烯基苯并环丁烯共聚而成;所述的聚合物是由以下方法制备得到的:将苯乙烯类单体、4-乙烯基苯并环丁烯、引发剂和有机溶剂混合后,在惰性气体保护下反应,反应结束后降温,将反应液倒入沉析溶剂中使聚合物沉淀出来,过滤,真空干燥得聚合物;其中,所述的苯乙烯类单体如式其中,R为取代或未取代的苯基、联苯基、萘基或蒽基,苯基、联苯基、萘基或蒽基的取代基为烷基CnH2n+1,n为1-10。2.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于所述的苯乙烯类单体为苯乙烯、乙烯基联苯、2-乙烯基萘、9-乙烯基蒽。3.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于所述的4-乙烯基苯并环丁烯的质量为单体总量的1~50wt%,优选为5~40wt%,更优选为5~30wt%。4.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于所述的引发剂为有机过氧化物或偶氮化合物;所述的引发剂的用量为单体总量的0.01~5wt%,优选为0.1~1wt%;所述的有机溶剂为苯、甲苯、1,3,5-三甲基苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、1,4-二氧六环,四氢呋喃、二甲基甲酰胺;所述的沉析溶剂为甲醇、乙醇、己烷或石油醚。5.根据权利要求4所述的聚合物,其特征在于所述的过氧化物为1,1-二叔丁基过氧化环己烷、2,2-二(叔丁基过氧化)丁烷、叔丁基过氧化-3,5,5-三甲基己酸酯、叔丁基过氧化苯甲酸酯、2,5-二甲基-2,5-二叔丁基过氧化己烷、二叔丁基过氧化物;所...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋继明,
申请(专利权)人:江苏明魁高分子材料技术有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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