基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法及系统技术方案

技术编号:16835279 阅读:58 留言:0更新日期:2017-12-19 18:37
本发明专利技术属于测定电解镍中杂质元素技术领域,公开了一种基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法及系统,对试样用硝酸分解完全,在硝酸介质中,用ICP等离子发射光谱仪于各杂质元素分析线处测定各杂质元素含量;具体包括:在ICP上选择分析的元素,再选择各元素所对应的谱线;依次测定混合标准试剂空白、混合标准试剂S1、混合标准试剂S2和混合标准试剂S3之后,得到所有元素的标准曲线;试样量称取;使用ICP6300等离子发射光谱仪于所得的各杂质元素分析线的标准曲线处进行测定,从各元素的标准曲线上得到相应元素的含量。本发明专利技术适用于测定电解镍中的杂质元素的测定,测定范围:0.0001~0.010%。

Method and system for the determination of impurity elements in electrolytic nickel based on ICP emission spectrometry

The invention belongs to the technical field of impurity elements in electrolytic nickel determination, and discloses a method and system for determination of impurity elements in electrolytic nickel in the emission spectra of ICP based on the samples with nitric acid decomposition, in nitric acid medium in various impurities analysis line determination of the contents of impurity elements in ICP plasma emission spectrometer; including: Analysis on the selection of elements in the ICP, and then select the line corresponding to each element in turn; Determination of mixed standard reagent blank, mixed standard reagent S1, mixed S2 and mixed reagent standard standard reagent S3, get all the elements of the standard curve; sample amount; the impurity elements using ICP6300 plasma emission spectrometer in the the standard curve line analysis were determined. The content of the corresponding elements obtained from the standard curve of each element. The invention is suitable for the determination of impurity elements in electrolytic nickel, and the range of determination is 0.0001 ~ 0.010%.

【技术实现步骤摘要】
基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法及系统
本专利技术属于测定电解镍中杂质元素
,尤其涉及一种基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法及系统。
技术介绍
原子吸收分光光度法的测量对象是呈原子状态的金属元素和部分非金属元素,是由待测元素灯发出的特征谱线通过供试品经原子化产生的原子蒸气时,被蒸气中待测元素的基态原子所吸收,通过测定辐射光强度减弱的程度,求出供试品中待测元素的含量。但是原子吸收仪的光谱通道只有一个,也就是说,一次只能测定一种元素,而电解镍中需要测定的杂质元素有13种之多,就要把同一个试样重复测定13次以测定其中13种不同的元素,这种方法即耗时又费工。综上所述,现有技术存在的问题是:由于原有的测定方法所用的仪器光谱通道只有一个,每次只能调至一个波长,只可测定一种元素;而ICP可同时多波长多元素测定;并且现有技术不能在硝酸介质中,用ICP等离子发射光谱仪对电解镍中杂质元素准确测定其含量;测定范围误差大。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题,本专利技术提供了一种基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法及系统。本专利技术是这样实现的,通过在维普、万方等数据库的查本文档来自技高网...
基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法及系统

【技术保护点】
一种基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法,其特征在于,所述基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法对试样用硝酸分解完全,在硝酸介质中,用ICP等离子发射光谱仪于各杂质元素分析线处测定各杂质元素含量。

【技术特征摘要】
1.一种基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法,其特征在于,所述基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法对试样用硝酸分解完全,在硝酸介质中,用ICP等离子发射光谱仪于各杂质元素分析线处测定各杂质元素含量。2.如权利要求1所述的基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法,其特征在于,所述基于ICP发射光谱测定电解镍中杂质元素的方法具体包括:分析方法及标准曲线的建立:在ICP上选择分析的元素,再选择各元素所对应的谱线;依次测定混合标准试剂空白、混合标准试剂S1、混合标准试剂S2和混合标准试剂S3之后,得到所有元素的标准曲线;试样量称取:准确称取电解镍试样1.0000g±0.0002g;将试样置于300mL烧杯中,用去离子水清洗样品2~3次,再加入硝酸10~15mL,盖上表面皿于电热板上加热200℃±20...

【专利技术属性】
技术研发人员:摆媚余陶华维王利霞杨利红叶胜英赵旭璐李江平罗建江
申请(专利权)人:新疆新鑫矿业股份有限公司阜康冶炼厂
类型:发明
国别省市:新疆,65

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