用于制造光学薄膜的组合物及光学薄膜制造技术

技术编号:16829751 阅读:35 留言:0更新日期:2017-12-19 15:18
本发明专利技术的课题是提供在基材或偏光膜与光学薄膜之间显示优异的紧贴性的光学薄膜制造用组合物、以及由该组合物制造的光学薄膜。解決手段是提供含有以下的(A)、(B)及(C)的组合物以及由该组合物形成的光学薄膜:(A)聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳‑碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物(C)光致聚合引发剂。优选地,所述(B)为具有异氰酸基作为活性氢反应性基团的化合物。

Compositions and optical films for making optical thin films

The subject of the present invention is to provide an optical thin film manufacturing composition for displaying excellent adhesion between substrate or polarizing film and optical film, and optical film made from the composition. The solution is provided containing the following (A), (B) and (C) the composition and optical film formed from the composition: (A) polymerizable liquid crystal compound (B) compounds with intramolecular carbon carbon unsaturated bond and active hydrogen reactive groups (C) induced photopolymerization agent. Preferably, the (B) is a compound with the reactive group of the isothiocyanate as a reactive hydrogen group.

【技术实现步骤摘要】
用于制造光学薄膜的组合物及光学薄膜本申请是申请号为201310022096.7、专利技术名称为“用于制造光学薄膜的组合物及光学薄膜”的专利申请的分案申请。
本专利技术涉及组合物及光学薄膜。
技术介绍
平板显示装置(FPD)中使用着含有偏光板及相位差薄膜等光学薄膜的构件。作为光学薄膜,已知通过将含有聚合性液晶化合物、光致聚合引发剂及溶剂的组合物涂布在基材上制造而成的光学薄膜。例如,专利文献1中,记载着在实施了取向处理的基材上涂布组合物得到涂布膜,使涂布膜中包含的聚合性液晶化合物取向之后,通过使聚合性液晶化合物聚合而形成的光学薄膜。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2007-148098号公报
技术实现思路
解决问题的手段本专利技术包括以下的专利技术。[1]一种含有以下的(A)、(B)及(C)的组合物。(A)聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物(C)光致聚合引发剂[2]根据[1]记载的组合物,(B)是具有作为活性氢反应性基团的异氰酸基的化合物。[3]根据[1]记载的组合物,(B)是下述式(X)所表示的化合物,[式(X)中,n表示1~10本文档来自技高网...
用于制造光学薄膜的组合物及光学薄膜

【技术保护点】
一种组合物,其含有以下的(A)、(B)及(C):(A)具有至少2个丙烯酰基或甲基丙烯酰基作为聚合性基团的聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳‑碳不饱和键和至少2个活性氢反应性基团的化合物,所述活性氢反应性基团选自环氧基、缩水甘油基及异氰酸基中的至少1种(C)光致聚合引发剂。

【技术特征摘要】
2012.01.23 JP 2012-010753;2012.01.23 JP 2012-010751.一种组合物,其含有以下的(A)、(B)及(C):(A)具有至少2个丙烯酰基或甲基丙烯酰基作为聚合性基团的聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳-碳不饱和键和至少2个活性氢反应性基团的化合物,所述活性氢反应性基团选自环氧基、缩水甘油基及异氰酸基中的至少1种(C)光致聚合引发剂。2.根据权利要求1记载的组合物,其中,(B)是具有异氰酸基作为活性氢反应性基团的化合物。3.根据权利要求1所述的组合物,其中,(B)是具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基作为碳-碳不饱和键的化合物。4.根据权利要求1记载的组合物,其中,(B)是下述式(X)所表示的化合物,式(X)中,n表示1~10的整数,R1’表示碳原子数2~20的2价脂肪族或脂环式烃基或者碳原子数5~20的2价芳烃基,各重复单元中的2个R2’中的一个是-NH-,另一个是-[N-C(=O)-R3’]-所表示的基团,R3’表示具有羟基或碳-碳不饱和键的基团,R3’之中,至少1个R3’是具有碳-碳不饱和键的基团。5.根据权利要求1~4中任一项记载的组合物,其中,(A)是式(A)所表示的化合物,式(A)中,X1表示氧原子、硫原子或-NR1-,R1表示氢原子或碳原子数1~4的烷基,Y1表示具有或不具有取代基的碳原子数6~12的1价芳烃基或者具有或不具有取代基的碳原子数3~12的1价芳香族杂环式基,Q3及Q4分别独立地表示氢原子、具有或不具有取代基的碳原子数1~20的1价脂肪族烃基、碳原子数3~20的脂环式烃基、具有或不具有取代基的碳原子数6~20的1价芳烃基、卤原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2,或Q3及Q4互相键合,它们与其分别键合的碳原子共同形成芳香环或芳杂环,R2及R3分别独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基,D1及D2分别独立地表示单键、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-或-NR4-CR5R6...

【专利技术属性】
技术研发人员:小林忠弘
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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