显影装置及其显影方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显影装置，包括显影机构，所述显影机构用于对基板进行显影，所述显影装置还包括加热机构，所述加热机构包括多个加热单元，每个加热单元对应所述基板上的至少一个显影区域，不同加热单元所对应的显影区域不同，且多个所述加热单元能够分别独立控制。相应地，本发明专利技术还提供一种利用所述显影装置的显影方法。本发明专利技术能够使得基板上各显影区域的均一性提高。

Developing device and its developing method

The invention provides a developing apparatus includes a developing mechanism for developing the substrate developing mechanism, the developing device also comprises a heating mechanism, wherein the heating mechanism comprises a plurality of heating unit, at least one developing region of each heating unit corresponding to the substrate, the developing region corresponding to different heating unit the different, and a plurality of the heating unit can independently control. Accordingly, the invention also provides a developing method using the developing device. The invention can improve the uniformity of the developing regions on the substrate.

【技术实现步骤摘要】
显影装置及其显影方法
本专利技术涉及显示产品的制作领域，具体涉及一种显影装置及其显影方法。
技术介绍
光刻构图工艺是阵列基板上形成图形时常用的工艺，以利用光刻构图工艺制作像素电极的图形为例，包括：依次沉积导电材料层和光刻胶层；对光刻胶进行曝光；对曝光后的光刻胶进行显影，以保留像素电极区的光刻胶、去除其他位置的光刻胶；对未被光刻胶覆盖的导电材料层进行刻蚀；去除剩余的光刻胶。在实际生产中，由于工艺条件的限制，导致在对基板上的光刻胶显影时，会出现不同区域显影速度不一致，从而导致最终形成的图形的关键尺寸不一致，进而影响产品质量。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种显影装置及其显影方法，以提高显影速度的均一性。为了解决上述技术问题之一，本专利技术提供一种显影装置，包括显影机构，所述显影机构用于对基板进行显影，所述显影装置还包括加热机构，所述加热机构包括多个加热单元，每个加热单元对应所述基板上的至少一个显影区域，不同加热单元所对应的显影区域不同，且多个所述加热单元能够分别独立控制。优选地，所述显影装置还包括：控制机构，用于根据所述基板上的异常区域的位置，开启本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影装置，包括显影机构，所述显影机构用于对基板进行显影，其特征在于，所述显影装置还包括加热机构，所述加热机构包括多个加热单元，每个加热单元对应所述基板上的至少一个显影区域，不同加热单元所对应的显影区域不同，且多个所述加热单元能够分别独立控制。

【技术特征摘要】
1.一种显影装置，包括显影机构，所述显影机构用于对基板进行显影，其特征在于，所述显影装置还包括加热机构，所述加热机构包括多个加热单元，每个加热单元对应所述基板上的至少一个显影区域，不同加热单元所对应的显影区域不同，且多个所述加热单元能够分别独立控制。2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述显影装置还包括：控制机构，用于根据所述基板上的异常区域的位置，开启能够加热该异常区域的加热单元；所述异常区域为未加热情况下，显影后保留的图形尺寸大于目标尺寸的区域。3.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述显影机构包括传输组件和显影液输出组件，所述传输组件用于传输所述基板；所述显影液输出组件包括显影液输出口，该显影液输出口设置在所述传输组件上方，以向所述传输组件上的基板喷洒显影液；所述加热机构位于所述传输组件上方，且位于所述显影液输出口的沿基板传输方向的一侧。4.根据权利要求3所述的显影装置，其特征在于，所述控制机构包括：加热时间获取模块，用于根据预设的映射关系获取目标加热时间，所述映射关系为基板上多个显影区域显影后保留的图形尺寸的离散度与该基板上异常区域的加热时间之间的映射关系，所述目标加热时间为最小离散度对应的加热时间；加热时间控制模块，用于根据所述目标加热时间控制加热单元对所述异常区域进行加热的时间。5.根据权利要求4所述的显影装置，其特征在于，多个所述加热单元沿与基板传输方向相交叉的方向排列，每个加热单元包括沿所述基板传输方向排列的多个加热件；所述加热时间控制模块包括：计算单元，用于根据所述目标加热时间、所述基板的传输速度和每个加热件在所述基板上的加热宽度，计算用于加热所述异常区域的加热件的目标数量；其中，所述加热宽度为所述加热件在基板上的加热区域沿所述基板传输方向的尺寸；目标确定单元，用于在所述异常区域能够经过的加热单元中，选择所述目标数量的加热件作为目标加热件。6.根据权利要求5所述的显影装置，其特征在于，所述计算单元还能够根据基板的传输速度、所述基板处于初始位置时所述异常区域到每个目标加热件的距离，计算每个目标加热件的开启时间；并根据所述异常区域沿所述基板传输方向的尺寸计算每个目标加热件的关闭时间；所述加热时间控制模块还包括开关控制单元，该开关控制单元用于根据每个目标加热件的开启时间控制相应的目标加热件开启；并根据每个目标加热件关闭时间控制相应的目标加热件关闭。7.根据权利要求6所述的显影装置，其特征在于，所述初始位置位于所述显影液输出口的逆向于基板传输方向的一侧，所述显影装置还包括位置检测器件，所述位置检测器件用于检测所述基板是否到达所述初始位置。8.根据权利要求4至7中任意一项所述的显影装置，其特征在于，所述显影装置还包括：参数设置模块，用于预先设置多个样本加热时间，每个样本加热时间对应一个样本基板；尺寸获取模块，用于获取每个样本基板上多个显影区域显影后保留...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴克芳，周伟，徐加荣，李允伟，王朝磙，王震宇，陈远丹，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11