五层夹心结构三稳态光致变色薄膜的制备方法技术

本发明专利技术属于薄膜技术领域，涉及一种五层夹心结构三稳态光致变色薄膜的制备方法；本发明专利技术提出的方法是在聚碳酸酯基板上依次蒸镀2‑氨基‑3,8‑二氰基‑4,7‑二(2‑萘基)‑5‑苯基喹啉层、氟化锂层、(2‑亚苯并噻唑啉基)丙二腈层、锌层以及四(4‑甲基‑7‑香豆素氧甲基)甲烷层，构建五层结构O/M/O/M/O复合结构，利用复合结构中各组分间的协同效应，获得三稳态光致变色薄膜。本发明专利技术的优点在于：(1)首次获得五层O/M/O/M/O复合结构三稳态光致变色薄膜；(2)制备的三稳态光致变色薄膜在不同波长紫外光照射下，显现不同的颜色，实现了光致变色薄膜颜色的可控性。

【技术实现步骤摘要】
五层夹心结构三稳态光致变色薄膜的制备方法
本专利技术属于薄膜材料
，具体涉及一种五层夹心结构三稳态光致变色薄膜的制备方法。
技术介绍
光致变色是指单一的化学物种在光的辐射下，可转化为具有明显不同吸收光谱的另一物质，这种物质在光或热的作用下，又可恢复到原来的状态。随着科学技术的日益发展以及对计算机应用要求的普遍推广，人们对信息数据传递与存储的要求越来越高，开发高存储密度、高响应速度、可擦写的光盘材料，已成为当今世界的研究热点。在空间上达到纳米尺寸，甚至原子尺寸；在时间上达到皮秒甚至飞秒速度响应的光存储材料是研究人员追求的最终目标。到目前为止，研究最广泛的光学记录介质是碲、锗及其合金材料。但无机材料的制作成本较高，而长时间受光照射还容易产生鳞片状的龟裂。从80年代以来大量的研究工作开始转向有机光存储材料。这是因为有机光存储材料吸收带窄而且吸收度低，柔顺性好，可用甩膜法涂布，成本较低：熔点及软化点低，因而灵敏度高：热传导率低，记忆痕迹小，清晰度高；空气或湿气不易使其降解；光学和热变形性质可以通过改变有机分子的结构来进行调变，并且来源广泛，毒性较小。因此有机光致变色化合物在光信息存储领本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种五层夹心结构三稳态光致变色薄膜的制备方法，其特征在于具体步骤如下：将厚度为0.2mm、面积为16cm

【技术特征摘要】
1.一种五层夹心结构三稳态光致变色薄膜的制备方法，其特征在于具体步骤如下：将厚度为0.2mm、面积为16cm2的聚碳酸酯基板依次用甲醇、乙醇及去离子水洗涤1次，晾干，放置于真空镀膜机中，在真空度为2×10-3Pa下依次蒸镀25nm厚的2-氨基-3,8-二氰基-4,7-二(2-萘基)-5-苯基喹啉层、5nm厚的氟化锂...

【专利技术属性】
技术研发人员：蓝碧健，
申请(专利权)人：太仓碧奇新材料研发有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32