等离子危废处理系统技术方案

一种等离子危废处理系统，其中的进料装置用于给等离子体熔炉输送废料，等离子体熔炉用于将废料气化或者熔化，二次反应室用于将等离子体熔炉所输送来的合成气体二次反应转换成可排放气体，净化装置用于将次反应室输送来的气体进行净化以达到排放标准，等离子体熔炉包括容器，容器具有接收废料的空腔，所述容器的侧壁设置有进料口；至少两个等离子体电极组件，其中第一等离子体电极组件安装在容器内上部，并在电极组件运行机构的作用下能够在容器内部的空腔中上下移动，第二等离子体电极组件安装在容器内下部，在第一等离子体电极组件和第二等离子体电极组件之间设置有呈碗形或盘形的旋转废料支架，且位于进料口之下方。本发明专利技术提供的系统，其加热效率高，处理废料的速度较快。

Plasma hazardous waste treatment system

A plasma processing system of hazardous waste, feeding device which is used for transporting the waste to the plasma furnace, plasma furnace for waste gasification or melting, two time reaction chamber for synthesis gas plasma furnace conveyed to the two reaction can be converted into an exhaust gas purification device for purifying the body, in order to meet emission standards for gas transport to switch the reaction chamber, the plasma furnace comprises a container, the container having a cavity to receive waste, the side wall of the container is provided with a feed inlet; at least two plasma electrode assembly, wherein the first plasma electrode assembly is mounted on the upper part of the container, and the electrode assembly operation mechanism can move up and down in the cavity of the container inside, second plasma electrode assembly is mounted at the lower part of the container, the first component and the plasma electrode A rotary bowl or dish shaped scrap bracket is arranged between the two electrode plasma components, and is located below the feed port of. The system provided by the invention has high heating efficiency and fast processing of waste.

【技术实现步骤摘要】
等离子危废处理系统
本专利技术涉及等离子危废处理系统，更具体的说，涉及危险和无危险的物质的可控热破坏系统。
技术介绍
以前，将废品处理方法是将废料置于填埋场。当填埋处理的后果有些有害有毒的物质慢慢向空气、水和土壤中释放，因此，造成了环境的污染，为解决这个问题，现有技术中采用焚化处理，但是焚化处理是有局限性的，如，有的废料不均匀，这使得焚化炉不能保持足够高的恒定温度以完全处理废品中的所有有机和无机物质，在低温循环中，产生不完全燃烧的产物(污染物)和潜在危险的有机物质(例如二氧芑、呋喃和温室气体)，并最终释放至大气中。在高温循环中，颗粒、氧化氮和金属氧化物的释放增加，包括已知的一种致癌物：六价铬。为解决上述技术问题，现有技术中采用等离子体气化对无机和/或有机固体废物、半固体废物和/或液体废物进行处理，现有技术中的气化炉通常是通过气化炉的进料口将待处理的废品输送到炉堂中，而后通过等离子火炬对待送入到炉堂的废品加热气化形成气体，而后再对所产生的气体再处理形成可用气体进行再利用或者形成无害气体排放到空中。但是现有技术中将废品输送到炉堂中时，废品进行了叠积，如此导致加热效率低。
技术实现思路
为克服现有技术中存在的技术问题，本专利技术的专利技术目的是提供一种等离子危废处理系统，处理废料的速度较快，效率高。为实现所述专利技术目的，本专利技术提供一种等离子危废处理系统，其至少包括进料装置、等离子体熔炉、二次反应室和净化装置，其中，所述进料装置用于给等离子体熔输送废料，所述等离子体熔炉用于将废料气化或者熔化以将废料转化为合成气体或者熔渣，所述二次反应室用于将等离子体熔炉所输送来的合成气体二次反应转换成可排放气体，所述净化装置用于将次反应室输送来的气体净化以基本去除任何夹带的微粒和/或酸性气体，所述等离子体熔炉包括容器，所述容器具有接收废料的空腔，所述容器的侧壁设置有进料口；至少两个等离子体电极组件，其中第一等离子体电极组件安装在容器内上部，并在电极组件运行机构的作用下能够在容器内部的空腔中上下移动，第二等离子体电极组件安装在容器内下部，其特征在于，在第一等离子体电极组件和第二等离子体电极组件之间设置有呈碗形或盘形的旋转废料支架，且位于进料口之下方。优选地，第一等离子体电极组件沿碗形或盘形的旋转废料支架的轴线上下运行，以控制容器空腔内的温度。优选地，旋转废料支架在支架运行机构的作用下能够绕第一等离子体电极组件的轴线旋转，从而使排入到容器中的废料均匀分布于旋转废料支架上。优选地，等离子危废处理系统还包括循环子系统，所述循环子系统用于将从容器中排出的气体再次导入容器，以对未分解完全的气体再次进行分解。优选地，呈碗形或盘形的旋转废料支架包括直径略小于容器内腔的直径的圆环齿轮、直径远小于容器内腔直径的圆环，圆环齿轮和圆环平行设置且在它们之间均匀设置有多个与圆环平面呈2度到30度夹角的倾斜连接条，如此形成锥台，相邻两倾斜连接条之间沿锥台周向至少设置有一个或者多个周向连接条。优选地，呈碗形或盘形的旋转废料支架为斜面与上底面或者下底面呈2度到30度夹角的锥台筒用于盛放液体废料。优选地，所述进料装置包括与安装平面呈0度到15度夹角的圆筒形进料室和设置在进料室内并沿进料室的轴线延伸的运输轴113，沿运输轴周向盘旋设置有凸肋112，所述运输轴由电机驱动旋转，沿圆柱形筒的周向盘旋设置有导气管，所述导气管与容器101的排气孔连通。优选地，沿圆筒形进料室的周向盘旋设置的导气管形成圆筒形，在由导气管形成的圆筒的外周设置有保温筒108或保温层。优选地，所述第一等离子体电极组件至少包括一个电极板和垂直设置在电极板上的多个电极柱，第二等离子体电极组件包括曲面电极，第一等离子体电极组件的多个电极柱的自由端与曲面电极的间距相同。优选地，用于给第一等离子体电极组件中的电极和第二等离子体电极组中的电极提供的电能的直流电源根据电源控制器的指令而提供不同的电能。与现有技术相比，本专利技术提供等离子危废处理系统处理废料的速度较快，效率高。附图说明图1是本专利技术例提供的等离子危废处理系统的组成框图；图2是本专利技术等离子熔炉的纵向截面示意图；图3是本专利技术提供旋转废料支架的结构示意图；图4是本专利技术提供的直流电流的电路图；图5是本专利技术变形例提供的等离子熔炉的纵向截面示意图；图6是本专利技术变形例提供的第一等离子电极组件的仰视图；图7是本专利技术变形例提供的第二等离子电极组件的仰视图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，所示实施例仅用于解释本专利技术，而不能解释为对本专利技术的限制。本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本专利技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。应该理解，当我们称元件被“连接”到另一元件时，它可以直接连接到其他元件，或者也可以存在中间元件。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。本
技术人员可以理解，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本专利技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，本申请文件中所用术语，应该被理解为具有与现有技术一致的意义，除非在本申请文件被特定定义，否则不会用极端化的含义来解释。图1是本专利技术提供的等离子危废处理系统的组成框图，如图1所示，等离子危废处理系统，其至少包括进料装置、等离子体熔炉、二次反应室和净化装置，其中，所述进料装置用于给等离子体熔炉输送废料，所述等离子体熔炉用于将废料气化或者熔解以将废料转化为合成气体或者熔渣。二次反应室用于将等离子体熔炉所输送来的合成气体二次反应转换成可排放气体，二次反应器300可由低碳钢构成并衬有适当隔离/耐火材料，在二次反应器中注入氧化剂，以使合成气进一步调节，例如使任何未反应的碳与氧化剂反应而形成一氧化碳，或使挥发性金属组分与氧化剂反应而形成金属氧化物，或者在二次反应器中注入大量的空气，以使合成气可转换成可排放气体，可排放气体包括氮、氧、二氧化碳和/或水蒸气。二次反应器300的下游是净化装置400，在进入净化装置400时，合成气可处于高温，该温度可为大约1100℃。净化装置400可将合成气降低温度或者防止非预期的复杂分子的再结合或防止新化合物(如呋喃)的形成，并净化可排放气体以基本去除任何夹带的微粒和/或酸性气体以形成达到排放标准的可排放气体。根据一个实施例，本专利技术提供的等离子危废处理系统还包括集气箱300，其设置于等离子熔炉100的排气口与余热锅炉之间，用于收集从等离子熔炉中100产生的合成气体，利用气体分析仪测量集气箱中的气体的成份，如果还含有有毒或污染的有机或者无机成份，则通过循环装置循环再次引入熔炉，以再次进行分解。在循环装置中可包括循环气泵，单向阀、控制阀等器件，以将集气箱中的气体再次引入熔炉。本专利技术中，还因集气箱收集的气体温度较高，可达1000℃以上，因此，利用该气体对进料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子危废处理系统，其至少包括进料装置、等离子体熔炉、二次反应室和净化装置，其中，所述进料装置用于给等离子体熔输送废料，所述等离子体熔炉用于将废料气化或者熔化以将废料转化为合成气体或者熔渣，所述二次反应室用于将等离子体熔炉所输送来的合成气体二次反应转换成可排放气体，所述净化装置用于将次反应室输送来的气体净化以基本去除任何夹带的微粒和/或酸性气体，所述等离子体熔炉包括容器，所述容器具有接收废料的空腔，所述容器的侧壁设置有进料口；至少两个等离子体电极组件，其中第一等离子体电极组件安装在容器内上部，并在电极组件运行机构的作用下能够在容器内部的空腔中上下移动，第二等离子体电极组件安装在容器内下部，其特征在于，在第一等离子体电极组件和第二等离子体电极组件之间设置有呈碗形或盘形的旋转废料支架，且位于进料口之下方。

【技术特征摘要】
1.一种等离子危废处理系统，其至少包括进料装置、等离子体熔炉、二次反应室和净化装置，其中，所述进料装置用于给等离子体熔输送废料，所述等离子体熔炉用于将废料气化或者熔化以将废料转化为合成气体或者熔渣，所述二次反应室用于将等离子体熔炉所输送来的合成气体二次反应转换成可排放气体，所述净化装置用于将次反应室输送来的气体净化以基本去除任何夹带的微粒和/或酸性气体，所述等离子体熔炉包括容器，所述容器具有接收废料的空腔，所述容器的侧壁设置有进料口；至少两个等离子体电极组件，其中第一等离子体电极组件安装在容器内上部，并在电极组件运行机构的作用下能够在容器内部的空腔中上下移动，第二等离子体电极组件安装在容器内下部，其特征在于，在第一等离子体电极组件和第二等离子体电极组件之间设置有呈碗形或盘形的旋转废料支架，且位于进料口之下方。2.根据权利要求1所述的等离子危废处理系统，其特征在于，第一等离子体电极组件沿碗形或盘形的旋转废料支架的轴线上下运行，以控制容器空腔内的温度。3.根据权利要求2所述的等离子危废处理系统，其特征在于，旋转废料支架在支架运行机构的作用下能够绕第一等离子体电极组件的轴线旋转，从而使排入到容器中的废料均匀分布于旋转废料支架上。4.根据权利要求3所述的等离子危废处理系统，其特征在于，还包括循环子系统，所述循环子系统用于将从容器中排出的气体再次导入容器，以对未分解完全的气体再次进行分解。5.根据权利要求4所述的等离子危废处理系统，其特征在于，呈碗形或盘形的旋转...

【专利技术属性】
技术研发人员：舒小明，刘立新，张安国，张明杰，宋慧，郑德刚，
申请(专利权)人：航天环境工程有限公司，
类型：发明
国别省市：天津,12