基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术包含：具有内部空间的第一管；基板固持器，其中多个基板垂直地堆叠在第一管的内部空间中，基板固持器界定多个处理空间，基板在多个处理空间中个别加工；具有多个主要注入孔的气体供应单元，多个主要注入孔中的每一者经垂直界定以对应于处理空间中的每一者从而将气体供应至第一管中；以及排气单元，其被设置以将第一管中的供应至多个处理空间中的气体排出至外部。所述排气单元包含多个排气孔，多个排气孔面向主要注入孔且垂直地配置成行以对应于处理空间。因此，气体可在基板上顺畅地流动。

Substrate treatment device

The invention includes: having a space inside the first tube; substrate holder, wherein a plurality of vertically stacked on the substrate of the first tube interior space, substrate holder defining a plurality of processing space, individual substrate in a plurality of processing space processing; having a plurality of main injection hole of the gas supply unit, a plurality of main into each hole in the vertical is defined to correspond to the processing space in each of the gas supply to the first tube; and an exhaust unit, which is arranged in the gas supply to the first tube in the treatment space is discharged to the outside. The exhaust unit comprises a plurality of exhaust holes, a plurality of exhaust holes are oriented to the main injection hole and vertically configured to correspond to the processing space. Therefore, the gas can flow smoothly on the substrate.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置
本
技术实现思路
与基板处理装置有关，且更特定而言，与能够允许基板上的气体顺畅地流动的基板处理装置有关。
技术介绍
一般而言，基板处理设备经分类成能够一次加工一个基板的单个晶圆型基板处理设备及能够同时加工多个基板的批量型基板处理设备。单个晶圆型基板处理设备具有简单结构，但具有低生产力。因此，广泛使用能够大量生产基板的批量型基板处理设备。批量型基板处理设备包含：处理腔室，以多级水平地堆叠的基板容纳于处理腔室中且在其中加工；处理气体供应喷嘴，其用于将处理气体供应至处理腔室中；以及排气管线，处理腔室中的气体是经由排气管线排出。可如下执行使用批量型基板处理设备的基板加工程序。首先，将多个基板载入于处理腔室中。接着，当处理腔室中的气体经由排气管线排出时，经由处理气体供应喷嘴将处理气体供应至处理腔室中。此处，经由排气孔将自处理气体供应喷嘴注入的处理气体引入至排气管线中，处理气体同时在基板之间传递以在基板中的每一者上形成薄膜。然而，在根据相关技术的基板处理装置中，自供应喷嘴注入的处理气体经引入至排气孔，但非均匀地分布在基板上。意即，经由基板的中心部分传递的处理气体缓慢地流动，且经由基板的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于包括：第一管，界定内部空间；基板固持器，其中多个基板垂直地堆叠在所述第一管的所述内部空间中，所述基板固持器分开地界定多个处理空间，所述基板在所述多个处理空间中个别加工；气体供应单元，具有多个主要注入孔，所述多个主要注入孔中的每一者经垂直界定以对应于所述处理空间中的每一者从而将气体供应至所述第一管中；以及排气单元，被设置以将所述第一管中的供应至所述多个处理空间中的所述气体排出至外部，其中所述排气单元包括多个排气孔，所述多个排气孔面向所述主要注入孔且垂直地配置成行以对应于所述处理空间。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.14 KR 10-2015-00525341.一种基板处理装置，其特征在于包括：第一管，界定内部空间；基板固持器，其中多个基板垂直地堆叠在所述第一管的所述内部空间中，所述基板固持器分开地界定多个处理空间，所述基板在所述多个处理空间中个别加工；气体供应单元，具有多个主要注入孔，所述多个主要注入孔中的每一者经垂直界定以对应于所述处理空间中的每一者从而将气体供应至所述第一管中；以及排气单元，被设置以将所述第一管中的供应至所述多个处理空间中的所述气体排出至外部，其中所述排气单元包括多个排气孔，所述多个排气孔面向所述主要注入孔且垂直地配置成行以对应于所述处理空间。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述排气孔是以具有在与所述基板的堆叠方向交叉的方向上延伸的缝隙形状的一个孔而提供，或所述排气孔包括配置在与所述基板的所述堆叠方向交叉的所述方向上的多个孔。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述排气孔在与所述基板的堆叠方向交叉的方向上具有相对于所述第一管的垂直的中心轴线成等于35°或小于35°的角的宽度，且所述排气孔相对于所述中心轴线与所述主要注入孔对称地配置。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述排气单元还包括安置于所述第一管外部的排气管道，且所述排气管道包括：本体部分，垂直地延伸以界定所述气体移动通过的通路，所述本体部分安置于对应于所述排气孔的位置处；以及连接部分，连接至所述本体部分的下部部分以与所述本体部分连通，所述连接部分具有开放的下部部分。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中所述排气单元还包括连接至所述排气管道以吸入所述气体的排气管线，且所述多个排气孔以如下方式来配置：宽度随着所述排气孔远离...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑愚德，诸成泰，崔圭鎭，韩星珉，
申请(专利权)人：株式会社EUGENE科技，
类型：发明
国别省市：韩国,KR