气氛形成装置及上浮搬运方法制造方法及图纸

技术编号:16708422 阅读:37 留言:0更新日期:2017-12-02 23:49
一种气氛形成装置,该气氛形成装置设置于上浮搬运装置,该上浮搬运装置利用气体喷出从而将工件上浮支承并搬运,在包含有进行所述搬运的搬运路径的大域区域中的大域气氛(A)内,具有小域气氛形成部,该小域气氛形成部在包含有所述搬运路径的小域区域内形成与所述大域气氛(A)不同的小域气氛(B)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】气氛形成装置及上浮搬运方法
本专利技术涉及一种形成上浮搬运工件时的气氛的气氛形成装置及上浮搬运方法。
技术介绍
为了制造液晶显示器,作为搬运·加工玻璃基板的激光处理装置的一种,已知有利用激光对非结晶硅膜进行结晶化的结晶化装置。以往,在这种结晶化装置中,提出了一种技术,该技术使惰性气体充满激光照射部附近从而使激光向非结晶硅膜照射。例如专利文献1中提出了以下方法,设置气体喷出部和沿着扫描方向延伸的端部整流面,使从气体喷出部喷出的气体流向端部整流面与玻璃基板之间,从而在激光的照射部近旁至其周围的扫描方向的范围内合适地确保气氛。专利文献2是利用摆动喷头将氮气向照射部分喷出来确保氮气气氛的。另外,在专利文献3中,使真空腔室内处于真空或者氮气(大气压)气氛,从而防止退火期间空气中的物质对非晶质半导体薄膜产生作用。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开2012-54603号公报专利文献2:日本专利特开2000-349041号公报专利文献3:日本专利特许3502981号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题在以往的专利技术中,玻璃基板搭载于搬运用平台上并与该平台一同移动,该搬运用平台的尺寸与玻璃基板大致相同或者大于玻璃基板。另外,激光照射部分固定于照射装置。图5(A)、图5(B)表示现有装置的一例的概略。在激光照射部50上设置有惰性气体喷出部51,从惰性气体喷出部51向下方喷出例如氮气或者惰性气体,并且穿过惰性气体喷出部51向由平台60搬运的玻璃基板100照射激光50A。如图5(A)所示,当玻璃基板100随着平台60的移动进入激光照射部50的下方时,在射出激光50A的同时,从惰性气体喷出部51喷出例如氮气这样的惰性气体,从而在照射激光时将空气从玻璃基板100上去除。最初在照射激光时将空气去除的理由是为了防止在照射激光期间空气中所含有的以氧等为代表的物质对形成于玻璃基板上的非晶质半导体膜产生作用。另外,照射的激光会受到周围流体的影响,所以希望喷出的惰性气体是在激光照射部中尽量无乱流的整流。如前所述,以往,使平台到达激光照射部从而利用搭载于平台上的玻璃基板与上部的惰性气体喷出部的间隙,在激光照射部的周围构建出惰性气体气氛。然而,在以往的方法中,惰性气体气氛是在移动的玻璃基板到达激光照射部后才开始形成的,所以在喷出有惰性气体的附近,是在气流紊乱的状态下进行激光照射的。另外,如图5(B)所示,在玻璃基板100没有位于激光照射部50下方的情况下,惰性气体喷出部51周围没有产生间隙,所以不会形成惰性气体气氛。另外,为了实现整流,从惰性气体喷出部流出的惰性气体的流量是微量的,所以不能利用激光照射部将与平台一同移动的空气完全去除。如上所述,激光照射部固定于照射装置,在搭载有玻璃基板的搬运用平台移动的状态下,朝玻璃基板照射激光,所以会在构建局部的且乱流较少的惰性气体气氛上存在问题。本专利技术以上述情况为背景而作,其目的在于提供一种气氛形成装置及上浮搬运方法,无论工件的搬运位置如何,都能在搬运路径上形成稳定的气氛。解决技术问题所采用的技术方案即,本专利技术的气氛形成装置中的第一方式的本专利技术是一种气氛形成装置,该气氛形成装置设置于上浮搬运装置,该上浮搬运装置利用气体喷出从而将工件上浮支承并搬运,其特征在于,在包含有进行上述搬运的搬运路径的大域区域中的大域气氛内具有小域气氛形成部,该小域气氛形成部在包含有上述搬运路径的小域区域内形成有与上述大域气氛不同的小域气氛。根据本专利技术,利用小域气氛形成部在大域气氛内形成有与大域气氛不同的小域气氛,无论是否有工件,在搬运路径上都能实现稳定的小域气氛。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术一方式的基础上,其特征在于,作为气氛气体的一部分,上述大域气氛和上述小域气氛包含有用于上述上浮支承而喷出的上浮喷出气体,上述大域气氛中的上述上浮喷出气体和上述小域气氛中的上述上浮喷出气体是不同的。根据本专利技术,能将上浮喷出气体作为气氛气体的一部分来利用,能使装置结构简化。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述大域气氛中的气氛气体和上述小域气氛中的气氛气体的气体成分是不同的。根据上述本专利技术,能使大域气氛和小域气氛成为气体成分不同的气氛,能沿着搬运路径利用不同的气体气氛使工件移动。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述大域气氛中的气体和上述小域气氛中的气体为同一成分但纯度不同。根据上述本专利技术,大域气氛和小域气氛能使用同一成分但纯度不同的气体来形成气氛。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,具有形成上述大域气氛的大域气氛形成部,该大域气氛形成部具有将气氛气体从大域的上述区域外导入的大域气体导入部。根据本专利技术,能利用大域气体导入部将气体从大域区域外导入,从而作为大域气氛中的气氛气体的至少一部分来进行使用。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述小域气氛形成部具有小域气体导入部,该小域气体导入部将气氛气体从大域的上述区域外及小域的上述区域外导入。根据本专利技术,能利用小域气体导入部将气体从大域的上述区域外及小域的上述区域外导入,从而作为小域气氛中的气体的至少一部分来进行使用。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述小域气氛形成部具有下方气体喷出部,该下方气体喷出部以至少与从下方喷出的上述上浮喷出气体的全部或者一部分重合的方式,将气氛气体从上方喷出。根据本专利技术,至少能利用上浮喷出气体和从下方气体喷出部喷出的气体来形成小域气氛。另外,只要能在上浮喷出气体和从下方气体喷出部喷出的气体处于平衡的位置上使工件移动,就能极力减少由于搬运工件导致的气体乱流。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,下方气体喷出部设置成,使工件的搬运路径位于从下方气体喷出部喷出的气体和上浮喷出气体之间。根据本专利技术,工件在从下方气体喷出部喷出的气体和从气体上浮气体喷出部喷出的气体之间的搬运路径上搬运,能使工件在大域气氛及小域气氛中移动。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述小域气氛形成于包含有上述工件的加工区域的区域。根据本专利技术,能将工件的加工区域置于小域气氛内,能在所期望的气氛中进行加工。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述小域气氛包含有上述工件的加工区域的搬运方向上游侧的区域。根据本专利技术,在工件到达加工区域前,能利用小域气氛将工件覆盖,能在加工前获得稳定的气氛。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述小域气氛包含有上述工件的加工区域的搬运方向下游侧的区域。根据本专利技术,由于在加工区域的上游侧存在有小域气氛,所以能利用小域气氛将加工后的工件覆盖。其它方式的气氛形成装置的专利技术在上述本专利技术的任一方式的基础上,其特征在于,上述小域气氛形成部形成为,能利用上述小域气氛将被搬运的上述工件的上下方向及搬运方向的两侧方覆盖。根据本专利技术,小域区域以相对于工件的搬运位置将工件从上下及两侧方围住的方式形成,无论工件的搬运位置如何,都能确保稳定的小域气氛。其它方式的本文档来自技高网...
气氛形成装置及上浮搬运方法

【技术保护点】
一种气氛形成装置,该气氛形成装置设置于上浮搬运装置,该上浮搬运装置利用气体喷出从而将工件上浮支承并搬运,其特征在于,在包含有进行所述搬运的搬运路径的大域区域中的大域气氛内具有小域气氛形成部,该小域气氛形成部在包含有所述搬运路径的小域区域内形成与所述大域气氛不同的小域气氛。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.27 JP 2015-0393131.一种气氛形成装置,该气氛形成装置设置于上浮搬运装置,该上浮搬运装置利用气体喷出从而将工件上浮支承并搬运,其特征在于,在包含有进行所述搬运的搬运路径的大域区域中的大域气氛内具有小域气氛形成部,该小域气氛形成部在包含有所述搬运路径的小域区域内形成与所述大域气氛不同的小域气氛。2.如权利要求1所述的气氛形成装置,其特征在于,作为气氛气体的一部分,所述大域气氛和所述小域气氛包含有用于所述上浮支承而喷出的上浮喷出气体,所述大域气氛中的所述上浮喷出气体和所述小域气氛中的所述上浮喷出气体不同。3.如权利要求1或2所述的气氛形成装置,其特征在于,所述大域气氛中的气氛气体和所述小域气氛中的气氛气体的气体成分不同。4.如权利要求1~3中任一项所述的气氛形成装置,其特征在于,所述大域气氛中的气体和所述小域气氛中的气体为同一成分但纯度不同。5.如权利要求1~4中任一项所述的气氛形成装置,其特征在于,具有形成所述大域气氛的大域气氛形成部,该大域气氛形成部具有将气氛气体从大域的所述区域外导入的大域气体导入部。6.如权利要求1~5中任一项所述的气氛形成装置,其特征在于,所述小域气氛形成部具有小域气体导入部,该小域气体导入部将气氛气体从大域的所述区域外及小域的所述区域外导入。7.如权利要求1~6中任一项所述的气氛形成装置,其特征在于,所述小域气氛形成部具有下方气体喷出部,该下方气体喷出...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤贵洋清水良
申请(专利权)人:株式会社日本制钢所
类型:发明
国别省市:日本,JP

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