一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置，利用两个反射斜面构成光路选择器，可以将与纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至光敏结构中的光敏二极管，而光敏结构中与光敏二极管层叠设置的第一遮光电极和第二遮光电极均不透光，仅第一遮光电极设置有开口区域，因此纹路光线只能从开口区域照射至光敏二极管。这样，可实现在纹路距离光敏结构较远的情况下，保证纹路中谷和脊的反射光线在光敏结构中不会混光，从而高清晰度的识别出纹路，有利于纹路识别器件与显示器件集成。由于采用结构较简单的两个反射斜面构成光路选择器以实现对纹路光线的角度进行过滤的作用，无需在纹路识别器件中设置制程复杂的光准直器件或光纤，易于量产。

A pattern recognition device, array substrate and display device

The invention discloses a pattern recognition device, array substrate and display device, an optical path selector using two reflection surface, photosensitive diode light reflection lines to photosensitive structure can surface and pattern recognition device in a certain angle, and the first electrode and the second electrode shading shading photosensitive structure and photosensitive diode stack the light, only the first shield electrode is provided with an opening area, so the light lines only from the opening area to irradiate the photosensitive diode. So, it is far distance lines photosensitive structure under the condition of ensuring the reflected light and the valley ridge lines will not light mixing in the photosensitive structure, so as to identify high resolution lines, is conducive to the pattern recognition device and display device integration. Because two simple reflectors can be used to form optical path selector to filter the angle of grain and light. It is not easy to set up complex collimating device or optical fiber in the pattern recognition device, and it is easy to mass production.

【技术实现步骤摘要】
一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置。
技术介绍
指纹是人体与生俱来独一无二并可与他人相区别的不变特征。它由指端皮肤表面上的一系列脊和谷组成。这些脊和谷的组成细节通常包括脊的分叉、脊的末端、拱形、帐篷式的拱形、左旋、右旋、螺旋或双旋等细节，决定了指纹图案的唯一性。由之发展起来的指纹识别技术是较早被用作为个人身份验证的技术，根据指纹采集、输入的方式不同，目前广泛应用并被熟知的有：光学成像、热敏传感器、人体远红外传感器等。其中，光学指纹成像一般是利用光敏二极管实现。随着显示技术的飞速发展，具有指纹识别功能的显示面板已经逐渐遍及人们的生活中。目前，已出现将指纹识别集成于显示面板内部的结构，虽然有利于显示面板轻薄化，但是由于显示面板自身的模组厚度会增加指纹识别器件与显示面板表面的距离，致使指纹与光敏二极管之间存在较远的距离例如1mm左右，导致指纹中的谷和脊的反射光同时入射至同一光敏二极管，而出现混光问题，为辨别指纹纹路带来了干扰，难于获得高清晰度的指纹纹路。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置，用以解决现有的纹路识别器件获取到的纹路的谷和脊容易混光导致的难于清晰辨别纹路的问题。因此，本专利技术实施例提供了一种纹路识别器件，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的多个纹路识别单元；各所述纹路识别单元包括：光敏结构，以及与所述光敏结构对应设置的光路选择器；其中，所述光敏结构包括层叠设置的第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极；所述第一遮光电极具有开口区域；所述光路选择器包括：第一反射斜面，与所述第一反射斜面相对而置的第二反射斜面；所述光路选择器，用于将与所述纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至所述开口区域。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述光路选择器设置于所述衬底基板与所述光敏结构之间；所述第一反射斜面和所述第二反射斜面沿着垂直于所述衬底基板的对称轴呈对称分布；且从所述衬底基板指向所述光敏结构的方向，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面之间的距离逐渐增大；所述第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极在所述衬底基板上依次层叠设置。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述光路选择器还包括：在靠近所述衬底基板一侧的连接所述第一反射斜面和所述第二反射斜面的第一吸光平面。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述光路选择器还包括：设置于所述第一遮光电极下表面的第二吸光平面。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，各所述纹路识别单元还包括：与所述光敏结构连接的开关晶体管，所述开关晶体管设置于所述衬底基板与所述光路选择器之间。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述光路选择器设置于所述光敏结构之上；所述第一反射斜面和所述第二反射斜面相互平行；所述第二遮光电极、光敏二极管和第一遮光电极在所述衬底基板上依次层叠设置。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述光路选择器还包括：设置于所述第一遮光电极上表面的第三吸光平面。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述光路选择器还包括：设置于所述第二反射斜面远离所述衬底基板一侧的第四吸光平面。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，各所述纹路识别单元还包括：与所述光敏结构连接的开关晶体管，所述开关晶体管设置于所述衬底基板与所述光敏结构之间。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面分别与所述衬底基板之间的夹角均为θ度；所述光路选择器用于将与所述纹路识别器件的表面呈2θ度的纹路光线反射至所述开口区域。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面分别与所述衬底基板之间的夹角均为45度；所述第一遮光电极的开口区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二反射斜面在所述衬底基板上的正投影相互重合。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述第一遮光电极与所述开关晶体管的漏极电连接，所述第二遮光电极与加载固定电位的电极线电连接；或，所述第一遮光电极与加载固定电位的电极线电连接，所述第二遮光电极与所述开关晶体管的漏极电连接。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件中，所述加载固定电位的电极线与所述开关晶体管的漏极同层设置。另一方面，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板，包括：设置于显示区域的多个显示单元，以及设置于显示区域的本专利技术实施例提供的上述纹路识别器件。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述显示单元包括：具有驱动晶体管的驱动电路和发光结构；所述发光结构中的阳极与所述驱动电路电连接，且所述阳极为反射电极；所述纹路识别器件中的开关晶体管与所述驱动晶体管同层设置，所述纹路识别器件中的第一遮光电极或第二遮光电极与所述阳极同层设置。另一方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括：本专利技术实施例提供的上述阵列基板。本专利技术实施例的有益效果包括：本专利技术实施例提供的一种纹路识别器件、阵列基板及显示装置，利用两个反射斜面构成光路选择器，可以将与纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至光敏结构中的光敏二极管，而光敏结构中与光敏二极管层叠设置的第一遮光电极和第二遮光电极均不透光，仅第一遮光电极设置有开口区域，因此纹路光线只能从开口区域照射至光敏二极管。这样，可以实现在纹路(例如手指的指纹)距离光敏结构较远的情况下(如1mm的距离时)，保证纹路中谷和脊的反射光线在光敏结构中不会混光，从而可以高清晰度的识别出纹路，以有利于纹路识别器件与显示器件集成。由于采用结构较简单的两个反射斜面构成光路选择器以实现对纹路光线的角度进行过滤的作用，无需在纹路识别器件中设置制程复杂的光准直器件或光纤，易于量产。附图说明图1为本专利技术实施例提供的纹路识别器件的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的纹路识别器件的另一种结构示意图；图3a至图3c分别为图1所示的纹路识别器件中光路选择器的具体原理示意图；图4a至图4c分别为图2所示的纹路识别器件中光路选择器的具体原理示意图；图5为本专利技术实施例提供的阵列基板的结构示意图。具体实施方式下面结合附图，对本专利技术实施例提供的纹路识别器件、阵列基板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的形状和大小不反纹路识别器件的真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供的一种纹路识别器件，如图1和图2所示，包括：衬底基板100和位于衬底基板100上的多个纹路识别单元200；各纹路识别单元200包括：光敏结构210，以及与光敏结构210对应设置的光路选择器230；其中，光敏结构210包括层叠设置的第一遮光电极211、光敏二极管212和第二遮光电极213；第一遮光电极211具有开口区域A；光路选择器230包括：第一反射斜面231，与第一反射斜面231相对而置的第二反射斜面232；光路选择器230，用于将与纹本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纹路识别器件，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的多个纹路识别单元；各所述纹路识别单元包括：光敏结构，以及与所述光敏结构对应设置的光路选择器；其中，所述光敏结构包括层叠设置的第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极；所述第一遮光电极具有开口区域；所述光路选择器包括：第一反射斜面，与所述第一反射斜面相对而置的第二反射斜面；所述光路选择器，用于将与所述纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至所述开口区域。

【技术特征摘要】
1.一种纹路识别器件，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上的多个纹路识别单元；各所述纹路识别单元包括：光敏结构，以及与所述光敏结构对应设置的光路选择器；其中，所述光敏结构包括层叠设置的第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极；所述第一遮光电极具有开口区域；所述光路选择器包括：第一反射斜面，与所述第一反射斜面相对而置的第二反射斜面；所述光路选择器，用于将与所述纹路识别器件的表面呈一定角度的纹路光线反射至所述开口区域。2.如权利要求1所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器设置于所述衬底基板与所述光敏结构之间；所述第一反射斜面和所述第二反射斜面沿着垂直于所述衬底基板的对称轴呈对称分布；且从所述衬底基板指向所述光敏结构的方向，所述第一反射斜面和所述第二反射斜面之间的距离逐渐增大；所述第一遮光电极、光敏二极管和第二遮光电极在所述衬底基板上依次层叠设置。3.如权利要求2所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：在靠近所述衬底基板一侧的连接所述第一反射斜面和所述第二反射斜面的第一吸光平面。4.如权利要求2所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：设置于所述第一遮光电极下表面的第二吸光平面。5.如权利要求2所述的纹路识别器件，其特征在于，各所述纹路识别单元还包括：与所述光敏结构连接的开关晶体管，所述开关晶体管设置于所述衬底基板与所述光路选择器之间。6.如权利要求1所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器设置于所述光敏结构之上；所述第一反射斜面和所述第二反射斜面相互平行；所述第二遮光电极、光敏二极管和第一遮光电极在所述衬底基板上依次层叠设置。7.如权利要求6所述的纹路识别器件，其特征在于，所述光路选择器还包括：设置于所述第一遮光电极上表面的第三吸光平面。8.如权利要求6所述的纹路识别器...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘英明，王海生，董学，丁小梁，许睿，李昌峰，顾品超，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11