一种硫化镍微纳阵列的制备方法、硫化镍微纳阵列材料及其应用技术
【技术实现步骤摘要】
一种硫化镍微纳阵列的制备方法、硫化镍微纳阵列材料及其应用
本专利技术涉及材料化学领域，具体涉及一种硫化镍微纳阵列的制备方法、由该制备方法制备的硫化镍微纳阵列材料以及应用。
技术介绍
硫化镍材料由于具有优异的光电性质，在半导体材料领域，特别是电池材料领域一直有着广泛的应用。除了用作催化剂和光电池电极镀层外，还可以作为锂硫电池的阴极材料。特别是Ni2S3，由于具有很强的电子间相互作用、良好的导电性(1.8×10-5Ωcm-1)以及稳定的基态，因此更加备受关注。迄今为止，已有不少关于硫化镍的制备方法的专利。其中，大多数专利方案中，硫化镍是采用一步溶剂热法制备的，其原料中镍源为可溶性镍盐或有机镍化合物，硫源为有机或无机含硫试剂，还包括表面活性剂，如CN105489390A、CN105449171A、CN105551810A、CN102198960A、CN101817564A、CN100455518C、CN105551810A等专利。也有采用两步法制备的，先由可溶性镍盐得到氧化物或氢氧化物前驱体，再硫化，如CN102605468A、CN104261490A、CN104261...
【技术保护点】
一种硫化镍微纳阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)基片处理：选择镍片作为反应基片，将镍片表面抛光至呈现光滑镜面，冲洗干净后干燥备用；2)溶剂热法反应：将硫粉溶于水合肼和水的混合溶剂中，搅拌均匀后转移至反应釜中，再将经步骤1)处理的镍片浸入反应釜中，在160‑180℃下反应2‑6小时；反应完毕后取出镍片，依次用去离子水和乙醇清洗，干燥后，在镍片上得到硫化镍微纳阵列。
【技术特征摘要】
1.一种硫化镍微纳阵列的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)基片处理：选择镍片作为反应基片，将镍片表面抛光至呈现光滑镜面，冲洗干净后干燥备用；2)溶剂热法反应：将硫粉溶于水合肼和水的混合溶剂中，搅拌均匀后转移至反应釜中，再将经步骤1)处理的镍片浸入反应釜中，在160-180℃下反应2-6小时；反应完毕后取出镍片，依次用去离子水和乙醇清洗，干燥后，在镍片上得到硫化镍微纳阵列。2.如权利要求1所述的硫化镍微纳阵列的制备方法，其特征在于，在步骤1)中，所述镍片依次经过3#、6#金相砂纸打磨，接着采用Al2O3抛光粉进行机械抛光。3.如权利要求1所述的硫化镍微纳阵列的制备方法...
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