含有热碱产生剂的可光成像组合物制造技术

根据本发明专利技术的实施方式包含正色调、可水显影、可自成像的聚合物组合物，其用于形成能够图案化以产生用于微电子器件、微电子封装、微机电系统、光电子器件及显示器的结构的膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含有热碱产生剂的可光成像组合物相关申请的交叉引用本申请要求2014年12月30日提交的美国临时申请第62/097,706号的优先权，其全部内容引入本文以供参考。
根据本专利技术的实施方式总体涉及一种用于形成微电子和/或光电子器件及其组件的含有某些热碱产生剂(TBG)的可光成像组合物，更具体而言，涉及一种包含具有降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元的聚降冰片烯(PNB)共聚物的组合物，其在图案化之后的固化阶段期间显现改善的交联性质。
技术介绍
有机聚合物材料越来越多地使用于微电子及光电子工业中用于多种应用。例如，该有机聚合物材料的用途包括：用于微电子和光电子器件的层间电介质、重新分配层(RDL)、应力缓冲层、芯片堆叠和/或粘结、调平或者平面化层、α-粒子阻挡层、钝化层等。其中这种有机聚合物材料具有感光性，因此可自成像，且因此提供减少使用由其制成的这种层及结构所需的工艺步骤数量的额外优势。另外，这种有机聚合物材料能够直接粘接器件及器件组件而形成多种结构。这种器件包括微机电系统(MEMS)、微光机电系统(MOEMS)及包含互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器坝结构的半导体器件等。虽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可光成像的可水显影的正色调组合物，其包含：a)聚合物，其具有一种或多种由式(IA)表示的第一类型的重复单元，所述第一类型的重复单元衍生自式(I)的单体：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.30 US 62/097,7061.一种可光成像的可水显影的正色调组合物，其包含：a)聚合物，其具有一种或多种由式(IA)表示的第一类型的重复单元，所述第一类型的重复单元衍生自式(I)的单体：其中：m为0、1或2的整数；R1、R2、R3及R4相同或不同，且各自独立地表示氢、卤素、或选自直链或支链(C1-C12)烷基、羟基(C1-C12)烷基、全氟(C1-C12)烷基、(C3-C12)环烷基、(C6-C12)双环烷基、(C7-C14)三环烷基、(C6-C10)芳基、(C6-C10)芳基(C1-C6)烷基、全氟(C6-C10)芳基、全氟(C6-C10)芳基(C1-C3)烷基、(C5-C10)杂芳基、(C5-C10)杂芳基(C1-C3)烷基、羟基、(C1-C12)烷氧基、(C3-C12)环烷氧基、(C6-C12)双环烷氧基、(C7-C14)三环烷氧基、(C6-C10)芳氧基(C1-C3)烷基、(C5-C10)杂芳氧基(C1-C3)烷基、(C6-C10)芳氧基、(C5-C10)杂芳氧基及(C1-C6)酰氧基的烃基或卤代烃基、-(CH2)a-CO2R或式(A)的基团：-(CH2)b-(OCH2-CH2)c-OR(A)；或式(B)的基团：其中：a为0至4的整数；b为0、1、2、3或4的整数；c为0、1、2、3或4的整数；且R为氢、直链或支链(C1-C6)烷基、(C5-C8)环烷基、(C6-C10)芳基或(C7-C12)芳烷基；及由式(IIA)或(IIB)表示的第二类型的重复单元，所述第二类型的重复单元衍生自式(II)的单体：其中：R5、R6、R7及R8各自彼此独立地为氢或选自直链或支链(C1-C9)烷基、氟化或全氟化(C1-C9)烷基、(C1-C12)烷氧基(C1-C12)烷基及(C1-C12)烷氧基(C1-C12)烷氧基(C1-C12)烷基的烃基或卤代烃基；且其中，在价态允许的情况下，前述基团的每一个任选被一个或多个选自以下的基团取代：直链或支链(C1-C6)烷基、(C3-C7)环烷基、(C1-C6)全氟烷基、(C1-C6)烷氧基、(C3-C7)环烷氧基、(C1-C6)全氟烷氧基、卤素、羟基、直链或支链羟基(C1-C6)烷基、乙酰氧基、苯基、羟基苯基及乙酰氧基苯基；b)热碱产生剂；c)光活性化合物；及d)载体溶剂。2.根据权利要求1所述的组合物，其中m为0，R1为苯乙基，R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8为氢。3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述聚合物包含一种或多种衍生自选自以下的对应单体的重复单元：5-苄基双环[2.2.1]庚-2-烯(BenNB)；及5-苯乙基双环[2.2.1]庚-2-烯(PENB)。4.根据权利要求1所述的组合物，其中所述聚合物包含一种或多种衍生自选自以下的对应单体的重复单元：马来酸酐；及2-甲基-马来酸酐。5.根据权利要求1所述的组合物，其中所述聚合物选自：含有衍生自5-苯乙基双环[2.2.1]庚-2-烯的重复单元和式(IIA)的重复单元的共聚物，其中R5、R6、R7及R8为氢；含有衍生自5-苯乙基双环[2.2.1]庚-2-烯的重复单元和式(IIA)的重复单元的共聚物，其中R5、R6、R7为氢，且R8为甲基。6.根据权利要求1所述的组合物，其中所述热碱产生剂具有式(III)：其中：R12为(C1-C6)烷氧基羰基、(C6-C10)芳基(C1-C6)烷氧基羰基、(C6-C10)芳氧基羰基及氰基(C1-C6)烷基；且R9、R10及R11相同或不同，且各自彼此独立地选自氢、直链或支链(C1-C16)烷基、氰基(C1-C16)烷基、氰基(C1-C16)烷氧基(C1-C16)烷基、(C6-C10)芳基、(C6-C10)芳基(C1-C3)烷基、全氟(C6-C10)芳基、全氟(C6-C10)芳基(C1-C3)烷基、(C1-C12)烷氧基(C1-C8)烷基、(C6-C10)芳氧基(C1-C3)烷基、(C5-C10)杂芳氧基(C1-C3)烷基、(C6-C10)芳氧基、(C5-C10)杂芳氧基、(C1-C6)酰氧基及(C1-C6)酰氧基。7.根据权利要求6所述的组合物，其中所述热碱产生剂选自：1-(叔丁氧基羰基)咪唑；1-(异丁氧基羰基)咪唑；1-(异丙氧基羰基)咪唑；1-(正丙氧基羰基)咪唑；1-(甲氧基羰基)咪唑；1-(乙氧基羰基)咪唑；1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基-咪唑；及1-(氰基乙基)-2-苯基-4,5-(二氰基乙氧基甲基)咪唑。8.根据权利要求6所述的组合物，其中所述热碱产生剂选自：1-(叔丁氧基羰基)咪唑；1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基-咪唑；及1-(氰基乙基)-2-苯基-4,5-(二氰基乙氧基甲基)咪唑。9.根据权利要求6所述的组合物，其中所述热碱产生剂选自：1-(叔丁氧基羰基)咪唑；及1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基-咪唑。10.根据权利要求1所述的组合物，其中所述热碱产生剂具有式(IV)：其中：R16为氢或(C1-C6)烷基；...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·恩济，S·凯迪，
申请(专利权)人：普罗米鲁斯有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US