【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】三维测量装置
本专利技术涉及利用相移法进行三维测量的三维测量装置。
技术介绍
一般来说,印刷基板在由玻璃环氧树脂制成的基底基板上具有电极图案,其表面由抗蚀膜保护。当在该印刷基板上安装电子部件时,首先在电极图案上的未由抗蚀膜保护的预定位置印刷膏状焊料。接着,基于该膏状焊料的粘性在印刷基板上临时固定电子部件。之后,所述印刷基板被导入回流炉,通过经过预定的回流工序进行焊接。最近,在被导入回流炉的前一阶段,需要检查膏状焊料的印刷状态,在进行该检查时有时使用三维测量装置。在利用该相移法的三维测量装置中,通过由发出预定的光的光源和将来自该光源的光变换为具有正弦波状(条纹状)的光强度分布的光图案的光栅组合构成的照射单元,将光图案照射至被测量物(此情况下为印刷基板)。并且,使用配置于正上方的拍摄单元观测基板上的点。作为拍摄单元,使用由透镜及拍摄元件等构成的CCD相机等。在上述构成之下,由拍摄单元拍摄的图像数据上的各坐标(像素)的光的强度(亮度)I由下式(T1)给出。其中,f:增益,e:偏移,光图案的相位。这里,通过切换控制上述光栅,使光图案的相位例如以四阶段变化,引入具有与它们对 ...
【技术保护点】
一种三维测量装置,其特征在于,包括:照射单元,所述照射单元具有发出预定的光的光源以及将来自该光源的光变换为具有条纹状的光强度分布的光图案的光栅,能够至少向具有第一测量对象区域和第二测量对象区域的被测量物照射该光图案;亮度控制单元,所述亮度控制单元能够变更从所述光源发出的光的亮度;相位控制单元,所述相位控制单元控制所述光栅的移送或切换,能够改变多组从所述照射单元照射的所述光图案的相位;拍摄单元,所述拍摄单元能够拍摄来自被照射了所述光图案的所述被测量物的反射光;以及图像处理单元,所述图像处理单元能够基于由所述拍摄单元拍摄的图像数据通过相移法执行所述被测量物的三维测量,所述图像处 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.23 JP 2015-1252131.一种三维测量装置,其特征在于,包括:照射单元,所述照射单元具有发出预定的光的光源以及将来自该光源的光变换为具有条纹状的光强度分布的光图案的光栅,能够至少向具有第一测量对象区域和第二测量对象区域的被测量物照射该光图案;亮度控制单元,所述亮度控制单元能够变更从所述光源发出的光的亮度;相位控制单元,所述相位控制单元控制所述光栅的移送或切换,能够改变多组从所述照射单元照射的所述光图案的相位;拍摄单元,所述拍摄单元能够拍摄来自被照射了所述光图案的所述被测量物的反射光;以及图像处理单元,所述图像处理单元能够基于由所述拍摄单元拍摄的图像数据通过相移法执行所述被测量物的三维测量,所述图像处理单元包括:第一测量单元,所述第一测量单元基于以预定数量组的相位照射与所述第一测量对象区域对应的第一亮度的第一光图案来拍摄的预定数量组的图像数据,进行与所述第一测量对象区域有关的三维测量;关系掌握单元,所述关系掌握单元基于在所述第一光图案之下拍摄的所述预定数量组的图像数据,掌握根据预定的拍摄条件所确定的增益和偏移的关系;以及第二测量单元,所述第二测量单元基于以二组相位照射与所述第二测量对象区域对应的第二亮度的第二光图案来拍摄的二组图像数据,并利用根据该二组图像数据的各像素的...
【专利技术属性】
技术研发人员:大山刚,坂井田宪彦,间宫高弘,石垣裕之,
申请(专利权)人:CKD株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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