彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置。制备方法包括：将掩膜版对位设置在基底上，掩膜版设置有镂空区域，镂空区域与基底上设置黑矩阵的位置相对应；向掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在基底上形成黑矩阵；对黑矩阵进行固化处理。喷墨打印装置包括：基台，用于承载对位设置好掩膜版的基底；第一喷头，设置在基台的上方，用于向掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在基底上形成黑矩阵。本发明专利技术实施例通过喷墨打印技术形成黑矩阵，解决了因采用涂布和光刻工艺形成黑矩阵导致的材料、制造成本高、生产效率低的问题。节省了设备和材料成本，简化了工艺步骤，提高了生产效率。

Preparation method of color film substrate and ink jet printing device

The invention discloses a method for preparing a color film substrate and an ink jet printing device. The preparation method comprises the following steps: the mask bit is set on the base, the mask is provided with a hollow area, and the hollow area arranged on the substrate of the black matrix corresponding to the position of the black matrix; spraying photoresist mask to the hollow area, forming a black matrix on the substrate; the black matrix for curing treatment. The ink jet printing device comprises a base, which is used for carrying the substrate which is positioned on the mask plate; the first nozzle is arranged above the base platform, and the black matrix light resistance material is sprayed to the hollowed area of the mask plate, and a black matrix is formed on the base. The embodiment of the invention forms a black matrix by ink jet printing technology, and solves the problems of high material cost, low production cost and low production efficiency caused by the formation of black matrix by coating and photoetching process. The cost of equipment and materials is saved, the process steps are simplified and the production efficiency is improved.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种彩膜基板的制备方法及喷墨打印装置。
技术介绍
彩色液晶显示装置(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)在人们的日常生活中扮演着重要角色，无论是电视、手机，还是掌上游戏机、医学显示系统，TFT-LCD的身影都无处不在。彩膜(ColorFilter，CF)基板是TFT-LCD的重要组成部分，在TFT-LCD中起到实现彩色显示的作用。彩膜基板包括形成在基底上的黑矩阵以及形成在黑矩阵之间的光阻材料。现有技术中，彩膜基板的制备方法主要有颜料分散法和喷墨打印法。其中喷墨打印法在近年来发展迅速，由于其制程简单、生产成本低、节省材料等优点为众多显示器件厂商所青睐。目前，喷墨打印法制备彩膜基板的主要制程如下：首先在基底上采用颜料分散法涂布黑矩阵光阻材料，然后用光刻工艺将黑矩阵光阻材料制成相应的图形，形成黑矩阵；用喷墨打印的方法在黑矩阵之间的空隙处喷涂红、绿、蓝三色光阻材料，形成红、绿、蓝光阻。现有的制程中，由于在形成黑矩阵时采用了涂布和光刻工艺，因此产生了较高的材料成本和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：将掩膜版对位设置在基底上，所述掩膜版设置有镂空区域，所述镂空区域与所述基底上设置黑矩阵的位置相对应；向所述掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在所述基底上形成黑矩阵；对所述黑矩阵进行固化处理。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：将掩膜版对位设置在基底上，所述掩膜版设置有镂空区域，所述镂空区域与所述基底上设置黑矩阵的位置相对应；向所述掩膜版的镂空区域喷涂黑矩阵光阻材料，在所述基底上形成黑矩阵；对所述黑矩阵进行固化处理。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括：在所述黑矩阵之间形成彩色光阻。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述黑矩阵进行固化处理，包括：采用红外式加热设备或电阻式加热设备加热所述黑矩阵，所述黑矩阵固化后移除掩膜版。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，加热温度为115℃至125℃。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述黑矩阵光阻材料包括碳黑。6.一种喷墨打印装置，其特征在于，包括：基台，用于承载对位设置好掩膜版的基底；第一喷头，设置在所述基台的上方，用于向所述掩膜版的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷晓飞，付开鹏，华明，石海军，王亮，毕建强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11